JIS H 8303:2010 自溶合金溶射

                                                                                   H 8303 : 2010

pdf 目 次

ページ

•  序文・・・・[1]
•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 種類及び記号・・・・[2]
•  5 溶射加工・・・・[2]
•  5.1 設計時の考慮・・・・[2]
•  5.2 自溶合金の選択・・・・[2]
•  5.3 被溶射品の前処理・・・・[5]
•  5.4 溶射及びフュージング・・・・[6]
•  5.5 溶射及びフュージング作業・・・・[6]
•  5.6 安全衛生対策・・・・[7]
•  6 品質・・・・[7]
•  6.1 外観・・・・[7]
•  6.2 溶射皮膜断面の組織・・・・[7]
•  6.3 溶射皮膜厚さ・・・・[7]
•  6.4 溶射皮膜硬さ・・・・[7]
•  7 試験方法・・・・[8]
•  7.1 外観試験・・・・[8]
•  7.2 溶射皮膜断面組織試験・・・・[8]
•  7.3 溶射皮膜厚さ試験・・・・[8]
•  7.4 溶射皮膜硬さ試験・・・・[8]
•  8 検査・・・・[9]
•  9 表示・・・・[9]
•  附属書JA(参考)JISと対応国際規格との対比表・・・・[10]

(pdf 一覧ページ番号 1)

――――― [JIS H 8303 pdf 1] ―――――

H 8303 : 2010

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,日本溶射協会(JTSS)
及び財団法人日本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を改正すべきとの申出があ
り,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)である。
  これによって,JIS H 8303:2004は改正されこの規格に置き換えられ,また,JIS H 9304:2005は廃止され,
この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に
抵触する可能性があることに注意を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許
権,出願公開後の特許出願,実用新案権及び出願公開後の実用新案登録出願にかかわる確認について,責
任はもたない。

(pdf 一覧ページ番号 2)

――――― [JIS H 8303 pdf 2] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                                JIS
                                                                              H 8303 : 2010

自溶合金溶射

Thermal spraying of self-fluxing alloys

序文

  この規格は,1999年に第1版として発行されたISO 14920を基に,技術的内容を変更して作成した日本
工業規格である。
  なお,この規格で側線又は点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格を変更している事項である。
変更の一覧表にその説明を付けて,附属書JAに示す。

1 適用範囲

  この規格は,主に製品,部品などに対し,耐摩耗性,耐食性,耐熱性などを付与する目的で施す自溶合
金溶射について規定する。
    注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
          ISO 14920:1999,Thermal spraying−Spraying and fusing of self-fluxing alloys(MOD)
            なお,対応の程度を表す記号“MOD”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“修正している”
          ことを示す。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS B 7725 ビッカース硬さ試験−試験機の検証及び校正
    JIS B 7734 ヌープ硬さ試験−試験機の検証
    JIS H 8200 溶射用語
    JIS H 8250 溶射の記号による表示方法
    JIS H 8260 溶射用粉末材料
    JIS H 8401 溶射皮膜の厚さ試験方法
    JIS Z 2244 ビッカース硬さ試験−試験方法
    JIS Z 2251 ヌープ硬さ試験−試験方法
    JIS Z 8401 数値の丸め方

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS H 8200による。

――――― [JIS H 8303 pdf 3] ―――――

2
H 8303 : 2010

4 種類及び記号

  溶射皮膜の種類及び記号は,次による。
a) 溶射の方法,溶射皮膜の種類,溶射皮膜の厚さなどの記号は,JIS H 8250による。
b) 溶射皮膜の種類を表す記号は,JIS H 8260の表2の自溶合金粉末及びそれを混合した粉末の種類を表
    す記号をそのまま用いる。
      注記 自溶合金の種類を表す記号を,化学成分,旧記号(JIS H 8303:2004)及び硬さとともに表1
            に記載する。

5 溶射加工

5.1 設計時の考慮

  溶射及びフュージングした溶射皮膜が用途に適しているかどうかを確認するために,次の事項を規定し
なければならない。
5.1.1  基材
5.1.1.1  溶射及びフュージングをするために加熱する場合,基材が次のような熱影響を受けることを考慮
しなければならない。
a) 変形,ひずみ
b) 寸法変化
c) 応力除去の必要性
d) 機械的特性及びや(冶)金的特性の変化
      注記 マルテンサイト鋼は,割れ感受性が高く基材が割れやすい傾向がある。その他の合金で,炭
            素,アルミニウム,チタン,マグネシウム,硫黄,りん及び窒素を多量に含む基材は,割れ
            やすい傾向にあり,また,溶射皮膜に気孔を生じやすい。
5.1.1.2  自溶合金溶射皮膜を採用する場合,設計寸法に収縮を考慮しなければならない。溶射及びフュー
ジング工程における機械的性質の変化及びフュージングした溶射皮膜は,基材と異なる特性をもつことも
考慮しなければならない。
5.1.1.3  基材の疲労強度,耐衝撃性,その他の物理的特性及び化学的特性は,溶射及びフュージングの施
工によって影響を受けることを考慮しなければならない。

5.2 自溶合金の選択

5.2.1  選定
  溶射材料の選定によって,溶射及びフュージング後の次のような溶射皮膜特性はほぼ決定される。
a) 硬さ
b) 耐摩耗性及び耐食性
c) 機械加工特性(切削,研削,加工性など)
d) 用途に対する適合性
5.2.2  化学成分
5.2.2.1  溶射皮膜の特性は,溶射材料の化学成分によって決定される。選定に当たっては,使用時の環境
条件を考慮しなければならない。
5.2.2.2  マルテンサイト変態をする基材は,展延性に富む溶射材料を選定しなければならない。また,溶
射及びフュージング後の後熱処理を行うことも考慮に入れなければならない。

――――― [JIS H 8303 pdf 4] ―――――

                                                                                              3
                                                                                   H 8303 : 2010
                        表1−自溶合金粉末及びそれを混合した粉末(参考)
                                                  化学成分
     種類の区分                                                                          旧記号
                                               %(質量分率)
                                                                                        (硬さ)
コード
           記号       C    Ni    Co    Cr    Cu    W     Mo     Fe     B     Si  その他 (HRC)
 番号
                     0.05                   19                   0.5  0.9  1.8     0.5
2.1    NiCuBSi 76 20 以下 残部   −    −          −     −                      以下
                                             20                 以下   1.3  2.0
       NiCuBSi 76 20A 0.25             10   18                 4以下 0.8   1.5          SFNi 1A
2.1A                 以下 残部 1以下               −     −                       −
                                      以下   21                        2.5  4.0         (1530)
                     0.05                                        0.5  1.0  2.0     0.5
2.2    NiBSi 96      以下 残部   −    −    −    −     −                      以下
                                                                以下   1.5  2.5
                      0.1                                        0.5  1.5  2.8     0.5
2.3    NiBSi 94      以下 残部   −    −    −    −     −                      以下
                                                                以下   2.0  3.7
                     0.1                                         2.0  1.2  2.2     0.5
2.4    NiBSi 95           残部   −    −    −    −     −                      以下
                      0.2                                       以下   1.7  2.8
                     0.1                                         1.0  1.4  2.8     0.5
2.5    NiCrBSi 90 4       残部   −   35     −    −     −                      以下
                      0.2                                       以下   1.8  3.5
                    0.15                                       3.0    0.8  2.8     0.5
2.6    NiCrBSi 86 5  0.25 残部   −   46     −    −     −                      以下
                                                                3.5    1.2  3.2
                    0.15                                       1.0    1.0  3.5     0.5
2.7    NiCrBSi 88 5  0.25 残部   −   46     −    −     −                      以下
                                                                2.0    1.5  4.0
                     0.25              10                      4以下 0.8   1.5           SFNi 1
2.7A   NiCrBSi 86 5A 以下 残部 1以下  以下 4以下   −     −                       −
                                                                       2.5  4.0         (1530)
                    0.15                                       1.5    2.0  2.3     0.5
2.8    NiCrBSi 83 10 0.25 残部   −   812    −    −     −
                                                                3.5    2.5  2.8   以下
                    0.15                                       1.5    1.5  2.6     0.5
2.9    NiCrBSi 85 8  0.25 残部   −   610    −    −     −
                                                                2.0    2.0  3.4   以下
                    0.25                                       1.7    1.5  3.2     0.5
2.10   NiCrBSi 84 8       残部   −   710    −    −     −
                     0.4                                        2.5    2.2  4.0   以下
                     0.3              3.5                        2.0  1.6  3.0     0.5
2.11   NiCrBSi 88 4       残部   −          −    −     −
                      0.4              4.5                      以下   2.0  3.5   以下
                      0.5
                     以下 残部 1以下 3.5                       4以下 1.5   2.0           SFNi 2
2.11A  NiCrBSi 84 8A                         −    −     −                       −
                                       12                              2.5  4.0         (3040)
                    0.35              10                       2.5    2.0  3.5     0.6
2.12   NiCrBSi 80 11      残部   −          −    −     −                      以下
                     0.6               12                       3.5    2.5  4.0
       NiCrBSi 79 12A 0.35 残部 1以下 10                       5以下 2.0   3.0           SFNi 3
2.12A                                        −    −     −                       −
                      0.7              15                              3.0  4.5         (4050)
       NiCrWBSi 64 110.5              10          15.5         3.5    2.3  3.0     0.5
2.13                      残部   −          −           −
        16            0.6              12          16.5         4.0    2.7  3.5   以下
       NiCrWBSi 63 120.4  残部 1以下 10           15.0         5以下 2.0   3.0          SFNi 3A
2.13A                                        −           −                       −
        16A           0.7              15          17.0                3.0  4.5         (5060)
       NiCrCuMoBSi   0.5              16    2.0          2.0   2.5    3.4  4.0     0.5
2.14                      残部   −                −
        67 17 3 3     0.7              17    3.5          3.0   3.5    4.0  4.5   以下
       NiCrCuMoBSi   0.4  残部 1以下 12                 4以下 5以下 2.5    3.5           SFNi 4
2.14A                                      4以下   −                              −
        69 15 3 3A    0.9              17                             4.0   5.0         (5060)
       NiCrCuMoWBSi  0.4              16    2.0   2.0    2.0   3.0    3.5  4.0     0.5
2.15a)                    残部   −
        64 17 3 3 3   0.6              17    3.5   3.0    3.0   5.0    4.0  4.5   以下
       NiCrCuMoWBSi  0.4  残部 1以下 12    4以下 2.0    4以下 5以下 2.5    3.5          SFNi 4A
2.15A                                                                              −
        66 15 3 3 3A  0.9              17         3.0                 4.0   5.0         (5060)

――――― [JIS H 8303 pdf 5] ―――――

次のページ PDF 6