JIS H 8501:1999 めっきの厚さ試験方法

H 8501 : 1999

まえがき

  この規格は,工業標準化法に基づいて,日本工業標準調査会の審議を経て,通商産業大臣が改正した日
本工業規格である。これによって,JIS H 8501-1988は改正され,この規格に置き換えられる。
  この規格の一部が,技術的性質をもつ特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権,又は出願公開後の
実用新案登録出願に抵触する可能性があることに注意を喚起する。通商産業大臣及び日本工業標準調査会
は,このような技術的性質をもつ特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権,又は出願公開後の実用新
案登録出願にかかわる確認について,責任をもたない。
  JIS H 8501には,次に示す附属書がある。
    附属書1(参考) 渦電流式試験方法の測定上の注意事項
    附属書2(参考) 磁力式試験方法の測定上の注意事項
    附属書3(参考) 蛍光X線式試験方法の測定上の注意事項
    附属書4(参考)       式試験方法の測定上の注意事項
    附属書5(参考) 多重干渉式試験方法の測定上の注意事項
    附属書6(参考) 走査電子顕微鏡試験方法の測定上の注意事項

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――――― [JIS H 8501 pdf 1] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                            H 8501 : 1999

めっきの厚さ試験方法

Methods of thickness test for metallic coatings

序文 この規格は,1.適用範囲の備考に示す対応国際規格を元に,対応する部分についてはこれらの対応
国際規格を翻訳し,技術的内容を変更することなく作成した日本工業規格(日本産業規格)であるが,対応国際規格には規
定されていない規定項目を日本工業規格(日本産業規格)として追加している。
1. 適用範囲 この規格は,金属素地上に施した電気めっき及び化学めっきの厚さ試験方法について規定
する。
    備考 この規格の対応国際規格を,次に示す。
          ISO 1463 : 1982 Metallic and oxide coatings‐Measurement of coating thickness‐Microscopical
              method
          ISO 2064 : 1996 Metallic and other inorganic coatings‐Definitions and conventions concerning the
              measurement of the thickness
          ISO 2177 : 1985 Metallic coatings‐Measurement of coating thickness‐Coulometric method
              byanodic dissolution
          ISO 2178 : 1982 Non-magnetic coatings on magnetic substrates‐Measurement of coatingthickness‐
              Magnetic method
          ISO 2360 : 1982 Non-conductive coatings on non-magnetic basis metals‐Measurement of
              coatingthickness‐Eddy current method
          ISO 3497 : 1990 Metallic coatings‐Measurement of coating thickness‐X-ray spectrometric methods
          ISO 3543 : 1981 Metallic and non-metallic coatings‐Measurement of thickness‐Beta backscatter
              method
          ISO 3868 : 1976 Metallic and other non-organic coatings‐Measurement of coating thickness‐
              Fizeau multiple-beam interferometry method
          ISO 3882 : 1986 Metallic and other non-organic coatings‐Review of methods of measurement-of
              thickness
          ISO 4518 : 1980 Metallic coatings‐Measurement of coating thickness‐Profilometric method
          ISO 9220 : 1988 Metallic coatings‐Measurement of coating thickness‐Scanning electron
              micro-scope method
2. 引用規格 次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成す
る。これらの引用規格は,その最新版を適用する。
    JIS B 0601 表面粗さ一定義及び表示

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H 8501 : 1999
    JIS B 7503 ダイヤルゲージ
    JIS B 7519 指針測微器
    JIS B 7520 指示マイクロメータ
    JIS B 7533 てこ式ダイヤルゲージ
    JIS B 7536 電気マイクロメータ
    JIS H 0400 電気めっき及び関連処理用語
    JIS K 0132 走査電子顕微鏡試験方法通則
3. 定義 この規格で用いる主な用語の定義は,JIS H 0400によるほか,次による。
a) 有効面 (significant surface) 被覆されているか又は被覆されるべきで,その被覆が主要な性能及び外
    観にかかわる製品の表面。
b) 測定面積 (measuring area) 1回の測定を行うために必要な有効面における一部分。
c) 指定面積 (reference area) 指定された回数の測定を行うために必要な面積。
d) 局部厚さ (local thickness) 指定面積内における指定された測定回数の平均値。
e) 最小局部厚さ (minimum local thickness) 製品の有効面上において確認された局部厚さの最低値。
f)  最大局部厚さ (maximum local thickness) 製品の有効面上において確認された局部厚さの最大値。
g) 平均厚さ (average thickness) 分析による試験方法によって得られた値又は指定された測定回数を有
    効面全体に均一に分散するように行ったときの平均測定値。
4. 試験方法の種類 試験方法の種類は,次による。
a) 顕微鏡断面試験方法
b) 電解式試験方法
c) 渦電流式試験方法
d) 磁力式試験方法
e) 蛍光X線式試験方法
f)       式試験方法
g) 多重干渉式試験方法
h) 走査電子顕微鏡試験方法
i)  測微器による試験方法
j)  質量計測によるめっき付着量試験方法
5. 試料
5.1   試料の取扱い 試料の取扱いは,素手で行わず,手袋を用いる。
5.2   試料の採取 試料は,製品の有効面から採取するか又は製品そのものとする。ただし,製品につい
ての試験又は判定が困難な場合は,これに代わる試料によってもよい。
  なお,試料は,製品を代表(1)(2)できるものでなければならない。
    注(1) 素材の組成,製造条件及びめっき前の仕上げの状態が製品と同様であることが望ましい。
      (2) 前処理及びめっきは,製品と同一の浴及び同一の条件で行い,作業条件の影響が試料に反映す
          るように,製品と同時に行うことが望ましい。
5.3   試料の大きさ 試料の大きさは,受渡当事者間の協定による。

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                                                                                              3
                                                                                   H 8501 : 1999
5.4   試験面の処理 試験面は,その汚れに応じて適当な溶剤(3)を用いて処理する。
    注(3) エチルアルコール,ベンジン,揮発油などの使用が望ましい。
5.5   試料の状態調節 試料は,試験開始前に原則として温度23±2℃,相対湿度65%以下の室内又は恒
温・恒湿槽に放置して状態調節を行う。ただし,試験に支障がないと認められるときは,受渡当事者間の
協定によって省略してもよい。
6. 試験室の一般条件
6.1   試験場所 試験場所は,通常,温度23±2℃,相対湿度65%以下の室内とする。ただし,試験に支
障がないと認められるときは,受渡当事者間の協定によって適宜の場所で行ってもよい。
6.2   試験装置の整備 試験装置は,堅固な実験台に正しく据え,かつ,試験に伴う異常な動きを生じな
いように安定にする。また,使用する器具類は,常に一定の条件で使用できるように整備しておかなけれ
ばならない。
7. 局部厚さの決定
7.1   有効面が100mm2未満の製品 有効面が100mm2未満の製品の場合は,製品の有効面全面を局部厚さ
の決定に用いる指定面積とする。指定面積内で行われる測定回数は,受渡当事者間の協定による。
    備考 特別な場合は,指定面積を小さくしてもよいが,その大きさ,数及び位置は,受渡当事者間の
          協定による。
7.2   有効面が100mm2以上の製品 有効面が100mm2以上の製品の場合は,製品の有効面のなかで,約
100mm2の指定面積(望ましくは一辺1cmの正方形)を局部厚さの決定に用いる指定面積とする。採用す
る試験方法によって異なるが,この指定面積内において最高5か所の測定を分散して行う。
    備考1. 指定面積内における測定数及び位置は,受渡当事者間の協定による。
         2. 顕微鏡断面試験方法による測定の場合,指示された断面の長さにおいて5か所以上分散して
            測定を行う。
8. 平均厚さの決定
8.1   質量計測による方法 質量計測による方法によって平均厚さを決定する場合,用いるひょう量方法
において,精度が十分確保できる質量減が得られるように測定面積を決定する。
    備考1. 製品の有効面が,測定に必要な最小面積より小さい場合,製品の数を増やして最小面積を確
            保し,得られる測定結果を平均厚さとする。
         2. 製品の有効面が,測定に必要な最小面積を大幅に上回らない場合,得られる測定結果を平均
            厚さとする。
         3. 製品の有効面が,測定に必要な最小面積を大幅に上回る場合,指定された回数の測定を有効
            面上で分散して行い,結果を個々に表示する。
8.2   他の方法
a) 製品の有効面が,局部厚さを決定するために必要な指定面積を大幅に上回らない場合,得られた局部
    厚さを平均厚さとする。
b) 製品の有効面が,局部厚さを決定するために必要な指定面積を大幅に上回る場合,35回の測定を有
    効面上で分散して行い,その平均値をもって平均厚さとする。
9. 顕微鏡断面試験方法

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H 8501 : 1999
9.1   要旨 めっきの垂直断面を顕微鏡で観察して,めっきの厚さを求める試験方法である。
9.2   装置 装置は,接眼目盛を挿入したもの又は測微顕微鏡を用いる。装置の一例を図1に示す。
    備考 図は,形状及び構造の基準を示すものではない。
                                       図1 顕微鏡の一例
9.3   操作 試験片(4)は,合成樹脂又は低融点合金にめっき面が垂直になるように埋め込み,めっきを壊
さないように注意しながら,めっき面に対し直角に研磨する(5)。素地とめっきとの境界が区別できるよう
に表1に示す腐食液を用いて素地の腐食を行った後,測微顕微鏡によって適正に拡大し,めっきの厚さを
測定する。図2に標線が移動する読取り方法の一例を示す。
  なお,めっき厚さと顕微鏡の倍率との関係を表2に示す。
    注(4) 金,銀,すずなどの軟らかいめっきでは,研磨によるだれを防ぐために,ニッケルめっきのよ
          うな硬い皮膜をめっき面の上に少なくとも10        上施す。
      (5) 研磨は,試験片の断面を明りょう(瞭)にするために行う。研磨方向は研磨紙に対して試験片

――――― [JIS H 8501 pdf 5] ―――――

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