JIS H 1685:2000 タンタル中の窒素定量方法

JIS H 1685:2000 規格概要

この規格 H1685は、タンタル中の窒素定量方法について規定。

JISH1685 規格全文情報

規格番号
JIS H1685 
規格名称
タンタル中の窒素定量方法
規格名称英語訳
Method for determination of nitrogen in tantalum
制定年月日
1967年2月1日
最新改正日
2019年10月21日
JIS 閲覧
‐ 
対応国際規格

ISO

国際規格分類

ICS

77.120.99
主務大臣
経済産業
JISハンドブック
金属分析 II 2019
改訂:履歴
1967-02-01 制定日, 1970-03-01 確認日, 1972-11-01 確認日, 1975-09-01 確認日, 1976-11-01 改正日, 1980-02-01 確認日, 1986-02-01 確認日, 1991-08-01 確認日, 1996-06-01 確認日, 2000-01-20 改正日, 2005-02-20 確認日, 2009-10-01 確認日, 2014-10-20 確認日, 2019-10-21 確認
ページ
JIS H 1685:2000 PDF [6]
H1685 : 2000

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する同法第12条第1項の規定に基づき,財団法人日本
規格協会 (JSA) から工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を改正すべきとの申し出があり,日本工業標準調
査会の審議を経て,通商産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)である。これによって,JIS H 1685 : 1976は改
正され,この規格に置き換えられる。
今回の改正は,タンタルの製品分析の現状を的確に反映し,その利便化を図るために改正した。

(pdf 一覧ページ番号 )

――――― [JIS H 1685 pdf 1] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
H1685 : 2000

タンタル中の窒素定量方法

Method for determination of nitrogen in tantalum

序文 この規格は,タンタル製品の品質,分析装置及び分析技術の推移に対応するために必要な改正を行
った。
なお,この規格に対応するISO規格は,発行されていない。
1. 適用範囲 この規格は,タンタル中の窒素定量方法について規定する。
2. 引用規格 次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成す
る。この引用規格は,その最新版を適用する。
JIS H 1680 タンタルの分析方法通則
3. 一般事項 定量方法に共通な一般事項は,JIS H 1680による。
4. 定量方法 窒素の定量方法は,不活性ガス融解−熱伝導度法による。この方法は,窒素含有率0.001%
(m/m) 以上0.02% (m/m) 以下の試料に適用する。
5. 不活性ガス融解−熱伝導度法
5.1 要旨 ヘリウム気流中で黒鉛るつぼを用いて,試料を浴金属とともにインパルス方式によって加熱
して融解し,窒素を他のガスとともに抽出する。加熱した酸化銅 (II) で抽出ガス中の一酸化炭素を二酸化
炭素に,また,水素を水に酸化した後,水を脱水管で除去する。二酸化炭素を二酸化炭素吸収管で除去し
て窒素だけを熱伝導度検出器に導くか,窒素と二酸化炭素を分離管を通して分離して窒素だけを熱伝導度
検出器に導き,窒素による熱伝導度の変化を測定する。
5.2 材料及び試薬 材料及び試薬は,次による。
a) ニッケル 窒素含有率0.001% (m/m) 以下の,カプセル,バスケット又ははく状のもの。
b) ヘリウム 99.99% (v/v) 以上のもの。
c) 黒鉛るつぼ 使用するインパルス炉に適合するもの。その例を付図1に示す。
d) 検量線作成用試料 鉄鋼標準物質を用いる。
5.3 装置(1) 装置は,ヘリウム精製部,ガス抽出部,抽出ガス精製部,ガス測定部などで構成する。装
置の概略を付図2及び付図3に示す。
注(1) 装置の構成,構造及び使用条件は,使用する装置によって異なる。
a) ヘリウム精製部 ヘリウム精製部は,脱酸素管,二酸化炭素吸収管,脱水管などで構成する。

――――― [JIS H 1685 pdf 2] ―――――

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H1685 : 2000
1) 脱酸素管 ステンレス鋼管又はガラス管に金属銅(粒状)を詰めたもの。電気抵抗加熱炉で加熱し
て使用する。
2) 二酸化炭素吸収管 ガラス管にソーダ石灰又は水酸化ナトリウムを詰めたもの。
3) 脱水管 ガラス管に過塩素酸マグネシウムを詰めたもの。
b) ガス抽出部 ガス抽出部は,試料投入器,インパルス炉などで構成する。
1) 試料投入器 ヘリウム雰囲気中で試料をインパルス炉に投入できるもの。
2) インパルス炉 固定された上部水冷銅電極及び上下に移動できる下部水冷銅電極で構成し,両電極
の間に挟んだ黒鉛るつぼ [5.2 c) ] を通電によって数秒間で2 0002 500℃に昇温できるもの。
c) 抽出ガス精製部 抽出ガス精製部は,次のいずれかによる。
1) 分離管を用いない場合 収じん管,酸化管,脱水管,二酸化炭素吸収管などで構成する(付図2)。
1.1) 収じん管 ガラス管にガラスウールを詰めたもの。
1.2) 酸化管 ステンレス鋼管又はガラス管に酸化銅 (II) を詰めたもの。電気抵抗加熱炉で加熱して使
用する。
1.3) 脱水管 ガラス管に過塩素酸マグネシウムを詰めたもの。
1.4) 二酸化炭素吸収管 ガラス管にソーダ石灰又は水酸化ナトリウムを詰めたもの。
2) 分離管を用いる場合 収じん管,酸化管,脱水管,分離管などで構成する(付図3)。
2.1) 収じん管 1)の1.1)による。
2.2) 酸化管 1)の1.2)による。
2.3) 脱水管 1)の1.3)による。
2.4) 分離管 ステンレス鋼管又は四ふっ化エチレン樹脂管にシリカゲルを詰めたもの。
d) ガス測定部 ガス測定部は,熱伝導度検出器,指示計などで構成する。
1) 熱伝導度検出器 特性のそろったサーミスタを挿入した対照セル,試料セルなどで構成する。
2) 指示計 熱伝導度検出器で検出された窒素に基づく信号を読み取ることのできるもの。
5.4 試料はかり取り量 試料はかり取り量は,表1によって1mgのけたまではかる。
表1 試料はかり取り量
窒素含有率 試料はかり取り量
% (m/m) g
0.001以上0.005未満 0.50
0.005以上0.010未満 0.30
0.010以上0.020以下 0.10
5.5 操作(2)
注(2) 操作の細かい手順は,装置によって異なるので,その装置の指定する手順に従う。
5.5.1 準備操作 準備操作は,次の手順によって行う。
a) 装置に冷却水及びヘリウム [5.2 b) ] を供給した後電源を入れ,装置各部を所定の条件に設定し,装置
の各部を安定させる。
b) 新しい黒鉛るつぼ [5.2 c) ] を所定の位置に設置し,インパルス炉に通電して黒鉛るつぼを脱ガス温度
に加熱する(3)。
c) )の黒鉛るつぼをガス抽出温度に加熱し(4),指示計の値を読み取る。
d) 安定した値が得られるまでc)の操作を繰り返す(5)。
注(3) 脱ガス温度のパラメータとして,黒鉛るつぼに流れる電流又は電力の値を読み,ガス抽出温度

――――― [JIS H 1685 pdf 3] ―――――

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に対応する電流又は電力の値より高いことを確認する。
(4) ガス抽出温度のパラメータとして,試料を用いて電流又は電力の値を変えて抽出量が最高とな
る電流又は電力の値を求めておく。
(5) )で脱ガスした黒鉛るつぼを繰り返して用いる。
5.5.2 定量操作 定量操作は,準備操作,空試験及び検量線作成に引き続き次の手順(2)によって行う。
a) 新しい黒鉛るつぼ [5.2 c) ] を所定の位置に設置する。
b) 試料及びニッケル [5.2 a) ] をはかり取る(6)。
c) はかり取った試料をニッケルで包んで(7)試料投入器に入れる。
d) インパルス炉に通電して黒鉛るつぼを脱ガス温度に加熱し(3),黒鉛るつぼの脱ガスを行う。
e) )のニッケルで包んだ試料を黒鉛るつぼに投入し,インパルス炉に通電して黒鉛るつぼをガス抽出温
度に加熱し(4),指示計の値を読み取る。
注(6) ニッケルの使用量は,試料はかり取り量と等量以上とし,使用する装置によって異なるので,
あらかじめ試料を用いて,抽出量が最高となる量を求め,その装置に適した使用量を求めてお
く。
(7) 試料とニッケルとは,できるだけ密着させる。
5.6 空試験 空試験は,次の手順(2)によって行う。
a) 新しい黒鉛るつぼ [5.2 c) ] を所定の位置に設置し,5.5.2のb)で用いるのと同じ量のニッケルを試料投
入器に入れる。
b) 5.5.2のd)と同じ条件でインパルス炉に通電して黒鉛るつぼを脱ガス温度に加熱し(3),黒鉛るつぼの脱
ガスを行う。
c) )のニッケルを黒鉛るつぼに投入し,5.5.2のe)と同じ条件でインパルス炉に通電して黒鉛るつぼをガ
ス抽出温度に加熱し(4),指示計の値を読み取る。
d) ) c)の操作を数回繰り返し,読み取った値の平均値を求める。
5.7 検量線の作成 検量線の作成は,次の手順(2)によって行う。
a) 新しい黒鉛るつぼ [5.2 c) ] を所定の位置に設置する。
b) 検量線作成用試料 [5.2 d) ] 1.0gを1mgのけたまではかり取る。
c) はかり取った検量線作成用試料を試料投入器に入れる。
d) 5.5.2のd)と同じ条件でインパルス炉に通電して黒鉛るつぼを脱ガス温度に加熱し(3),黒鉛るつぼの脱
ガスを行う。
e) 検量線作成用試料を黒鉛るつぼに投入し,インパルス炉に通電して黒鉛るつぼをガス抽出温度に加熱
し(4),指示計の値を読み取る。
f) 検量線作成用試料の窒素含有率とはかり取った量から窒素量(8)を求め,窒素量とe)で得た指示計の値
との関係をプロットする。プロットした点と原点とを通る直線を作成し,その直線(窒素量と指示計
の値との関係線)を検量線とする。
注(8) 窒素量は,次の式によって算出する。
G P
M
100
ここに, M : はかり取った検量線作成用試料中の窒素量 (g)
G : はかり取った検量線作成用試料の量 (g)
P : 検量線作成用試料中の窒素含有率 [% (m/m) ]

――――― [JIS H 1685 pdf 4] ―――――

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H1685 : 2000
5.8 計算 計算は,5.5.2のe)で読み取った値及び5.6 d)で得た平均値と5.7で作成した検量線とから窒素
量を求め,試料中の窒素含有率を,次の式によって算出する。
A1 A2
N
m
ここに, N : 試料中の窒素含有率 [% (m/m) ]
A1 : 5.5.2のe)で読み取った値から求めた窒素量 (g)
A2 : 5.6 d)の平均値から求めた窒素量 (g)
m : 試料はかり取り量 (g)
付図1 黒鉛るつぼの例
付図2 分離管を使用しない装置の概略

――――― [JIS H 1685 pdf 5] ―――――

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JIS H 1685:2000の国際規格 ICS 分類一覧

JIS H 1685:2000の関連規格と引用規格一覧

規格番号
規格名称
JISH1680:2002
タンタル―分析方法通則