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H 1683 : 2002
JIS H 1683 タンタル−原子吸光分析方法原案作成委員会 構成表
氏名 所属
(委員長) 水 池 敦 東京理科大学
(委員) 塚 本 修 通商産業省基礎産業局
橋 本 進 財団法人日本規格協会
小 林 剛 科学技術庁金属材料技術研究所
稲 本 勇 株式会社日鐵テクノリサーチ
前 田 繁 則 株式会社トクヤマ
渡 辺 勝 明 住友金属鉱山株式会社
高 橋 真 人 東芝セラミックス株式会社
豊 田 宜 俊 社団法人新金属協会(平成12年7月31日まで)
島 田 和 明 社団法人新金属協会(平成12年8月1日から)
水 口 紀 元 昭和キャボットスーパーメタル株式会社
磯 田 伸 二 真空冶金株式会社
井 出 光 良 三井金属鉱業株式会社
河 本 光 喜 株式会社オハラ
山 内 良 夫 株式会社高純度物質研究所
西 武 志 松下電子部品株式会社
(事務局) 今 井 康 弘 社団法人新金属協会
JIS H 1683:2002の国際規格 ICS 分類一覧
- 77 : 金属工学 > 77.120 : 非鉄金属 > 77.120.99 : その他の非鉄金属及び合金
JIS H 1683:2002の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISH1680:2002
- タンタル―分析方法通則
- JISK0050:2019
- 化学分析方法通則
- JISK0121:2006
- 原子吸光分析通則