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JISK0164:2023の概要
JIS K 0164:2023の規格概要
閲覧 情報
磁気セクター型又は四重極型の二次イオン質量分析法を用いたシリコン内のボロンの深さ方向分布測定の方法,及び触針式段差計又は光干渉計を用いた深さ軸校正の方法について規定。
JISK0164:2023 規格全文情報
- 規格番号
- JIS K 0164:2023
- 規格名称
- 表面化学分析―二次イオン質量分析法―シリコン内のボロンの深さ方向分布測定方法
- 規格名称英語訳
- Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Method for depth profiling of boron in silicon
- 規格の状態
- 有効
- 公示の種類
- 改正
- 公示の種類に関する説明(改正)
- 主務大臣が当該JISを年月の経過に伴って改めることが必要と認めたとき、改正されます。
- 規格番号の西暦年(コロン(:)の後ろの年)は、改正された年になります。
- JISの制定、確認又は改正の日から5年を経過する日までに、それがなお適正であるか見直しが行われ、主務大臣が確認、改正又は廃止を行います。
- 制定年月日
- 2010年04月20日
- 最新改正日:確認日
- 2023年02月20日(改正)
- 主務大臣
- 経済産業
- JISは、産業標準化法に基づき、主務大臣が必要と認め制定する国家規格です。
- 改訂:履歴
- 2010-04-20 制定日, 2015-10-20 確認日, 2020-10-20 確認日, 2023-02-20 改正日
- JIS 閲覧情報
- K0164, JIS K 0164
- 引用JIS規格
- K0143
- 対応国際規格
- ISO 17560:2014(IDT)
- 同等性に関する説明 (IDT)
- IDT: identical(一致)
- 以下の場合、地域又は国家規格は国際規格と一致している。
- a) 地域又は国家規格が、技術的内容、構成及び文言において一致している。又は、
- b) 地域又は国家規格が、ISO/IEC GUIDE 21-1:2005の4.2節に規定した最小限の編集上の変更はあるが、技術的内容において一致している。「逆も同様の原理」があてはまる。
- 引用国際規格
- -
- 国際規格分類
ICS
- 71.040.40
- 正誤票・訂正票
- -
- JISハンドブック
- -
- ページ
- JIS K 0164:2023 PDF [12ページ]
JISK0164:2023 改訂 履歴 一覧
- JIS K 0164:2010
- 表面化学分析―二次イオン質量分析法―シリコン内のボロンの深さ方向分布測定方法
- JIS K 0164:2023
- 表面化学分析-二次イオン質量分析法-シリコン内のボロンの深さ方向分布測定方法
JISK0164:2023 関連規格と引用規格一覧
- JIS K 0143:2000
- 表面化学分析―二次イオン質量分析法―シリコン中に均一に添加されたボロンの原子濃度の定量方法
- JIS K 0143:2023
- 表面化学分析-二次イオン質量分析法-シリコン中に均一に添加されたボロンの原子濃度の定量方法