JIS Z 4952:2012 磁気共鳴画像診断装置―第１部：基本画質パラメータの決定方法 | ページ 2

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Z 4952 : 2012 (IEC 62464-1 : 2007)
3.1.10
ゴースト(GHOSTING ARTEFACT)
  間違った位置に現れる実在の構造の複製又はその一部を表すアーチファクト。
3.1.11
頭部用試験器具(HEAD TEST DEVICE)
  患者の頭部を表す試験器具。頭部用ファントムのこと。
3.1.12
画像データ(IMAGE DATA)
  再構成された収集データ。
3.1.13
画像ノイズ(IMAGE NOISE)
  画像中の予測される信号値からのランダムな変動。
3.1.14
意図する使用(INTENDED USE)
意図する目的(INTENDED PURPOSE)
  製造業者が供給する仕様,説明及び情報に従った製品,プロセス又はサービスの使用。
  (JIS T 0601-1:2012,定義3.44参照)
3.1.15
アイソセンタ(ISOCENTRE)
  MR装置における空間エンコード傾斜磁場強度がゼロになる点。
    注記 一般に最も静磁場均一性の高い領域に一致する。
3.1.16
磁気共鳴画像診断装置,MR装置(MAGNETIC RESONANCE EQUIPMENT又はMR EQUIPMENT)
  患者のMR検査(in-vivo)を目的とした医用電気機器。MR装置は,電源から表示モニタに至る,全て
のハードウェア及びソフトウェアで構成される。
    注記 MR装置は,プログラム可能な医用電気機器(Programmable Electrical Medical System,略称
          PEMS)である。
  (JIS Z 4951,定義 201.3.218参照)
3.1.17
磁気共鳴画像診断装置,MRシステム(MAGNETIC RESONANCE SYSTEM又はMR SYSTEM)
  MR装置,表示装置,制御装置,エネルギー供給装置を含む附属品の全体。立入制限区域がある場合は,
これも含む。
  (JIS Z 4951,定義201.3.220参照)
3.1.18
製造業者(MANUFACTURER)
  ME機器の設計,製造,こん(梱)包若しくはラベリング,又はMEシステムの組合せ若しくは変更に
責任を負う個人又は法人。その業務が個人若しくは法人又は代理を受けた第三者によって行われるか否か
は問わない。
  (JIS T 0601-1:2012,定義3.55参照)

――――― [JIS Z 4952 pdf 6] ―――――

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                                                                  Z 4952 : 2012 (IEC 62464-1 : 2007)
3.1.19
操作者(OPERATOR)
  機器を取り扱う人。
  (JIS T 0601-1:2012,定義3.73参照)
3.1.20
高周波コイル,RFコイル(RADIO FREQUENCY COIL又はRF COIL)
  高周波電磁場を送信又は受信するために用いるコイル又はプローブ。
3.1.21
再構成パラメータ(RECONSTRUCTION PARAMETERS)
  MR装置において,デジタル信号から画像への変換を一意的に決定するパラメータの一式。
3.1.22
基準位置(REFERENCE POSITION)
  仕様容積内にあらかじめ定義した点。
    注記 通常,基準位置はコイルの対称軸上にあり,仕様容積の重心に合致する。
3.1.23
関心領域(REGION OF INTEREST又はROI)
  そのときにおいて,特別な関心のある画像上の位置決めされた部分。
  (JIS Z 4752-2-6,定義3.3.9参照)
3.1.24
責任部門(RESPONSIBLE ORGANIZATION)
  ME機器又はMEシステムの使用及び保守に責任をもつ実体。
    注記1 責任をもつ実体とは,例えば,病院,個々の臨床医又は非医療従事者である。家庭用では,
            患者,操作者及び責任部門は,全く同一の人であってもよい。
    注記2 “使用”には,教育及び訓練を含んでいる。
  (JIS T 0601-1:2012,定義3.101参照)
3.1.25
信号ノイズ比,SNR(SIGNAL TO NOISE RATIO又はSNR)
  信号をノイズレベルで除した比率。
3.1.26
スライスプロファイル(SLICE PROFILE)
  MR装置において,スライスに直交した方向のMR信号強度の集まり。
3.1.27
スライス厚(SLICE THICKNESS)
  MR装置において,スライスプロファイルの半値幅(FWHM)。
3.1.28
空間分解能(SPATIAL RESOLUTION)
  MR装置において,変調伝達関数(MTF)の大きさが要求されるしきい(閾)値を超える最大空間周波
数の逆数の半分。
3.1.29
仕様面積(SPECIFICATION AREA)

――――― [JIS Z 4952 pdf 7] ―――――

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Z 4952 : 2012 (IEC 62464-1 : 2007)
  MR装置の仕様容積と画像面とが交差する部分。
3.1.30
仕様容積(SPECIFICATION VOLUME)
  MR装置で製造業者がその内部の画像性能仕様を保証する撮像容積。
    注記 この容積の外側の画像又はその画像の一部は,必ずしも性能仕様を満たすとは限らないが,診
          断目的であれば有用なことがある。
3.1.31
試験器具(TEST DEVICE)
  画像試験を行う対象物。ファントムのこと。
3.1.32
均一性(UNIFORMITY)
  ノイズ及び有限なデータ収集(トランケーションアーチファクト)の影響を除いた,均質な試験器具の
画像において強度の空間的な一様性。

3.2 記号

  この規格では,次の記号を使用する。
3.2.1
a
  プレートの幅
3.2.2
AAD
  ピクセル信号値の平均絶対偏差
3.2.3
b
  プレートの長さ
3.2.4
|b(x)|
  周期く(矩)形関数の振幅画像
3.2.5
b0,b1,b2及びb3
  曲線近似定数
3.2.6
B0
  静磁場
3.2.7
B1
  高周波磁場
3.2.8
BW
  帯域幅

――――― [JIS Z 4952 pdf 8] ―――――

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                                                                  Z 4952 : 2012 (IEC 62464-1 : 2007)
3.2.9
BWpix
  ピクセル帯域幅
3.2.10
BWim
  画像の帯域幅
3.2.11
対応国際規格の記号(BWGE)を不採用とした。
    注記 附属書Bで,対応国際規格を一部削除した箇所だけに用いられている記号のため,不採用とし
          た。
3.2.12
対応国際規格の記号(BWSiemens)を不採用とした。
    注記 附属書Bで,対応国際規格を一部削除した箇所だけに用いられている記号のため,不採用とし
          た。
3.2.13
C
  画像中心でのROIのピクセル信号の平均値
3.2.14
dp
  近接するプレート間の距離
3.2.15
d
  試験器具の直径
3.2.16
dm
  画像上で計測した球状試験器具の直径
3.2.17
D(Xi)
  拡大スライスプロファイル。引き伸ばされたスライスプロファイルのこと。
3.2.18
ESF(x)
  エッジ広がり関数
3.2.19
F( 
  く(矩)形関数のフーリエ変換
3.2.20
FT[{}]
  フーリエ変換
3.2.21
FWHM

――――― [JIS Z 4952 pdf 9] ―――――

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Z 4952 : 2012 (IEC 62464-1 : 2007)
  半値幅
3.2.22
g(x)
  周期く(矩)形関数
3.2.23
G(t)
  傾斜磁場
3.2.24
Grd, ph, sel
  読出し,位相エンコード及びスライス選択方向の傾斜磁場
3.2.25
IG
  ゴースト信号の強度
3.2.26
IN
  ノイズレベル
3.2.27
L
  プレートの周期性
3.2.28
LSF(x)
  線広がり関数
3.2.29
m(  
  空間周波数νの変調
3.2.30
MTF(  
  変調伝達関数
3.2.31
n
  プレートの数
3.2.32
N
  ROI中のピクセル数
3.2.33
Nd
  測定した半径の数
3.2.34
Ntot
  ROIのヒストグラムの中で値がT以上のピクセル数

――――― [JIS Z 4952 pdf 10] ―――――

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