JIS C 6822:2009 光ファイバ構造パラメータ試験方法―寸法特性 | ページ 6

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C 6822 : 2009
D.1.4 試料支持台
  かなとこ(鉄床)の端面の間に試料を支持する。フェルール,V-ブロック又は他の同様な取付具から短
い試料を突き出してもよい。
D.2 試料
  試料の長さは規定しない。
  クラッド外径を測定するときは,すべての被覆を完全に除去する。試料の端面は測定には含まないので,
端面に関しては規定しない。
D.3 手順
D.3.1 測定原理
  試料の外径は,かなとこ(鉄床)を対向して接触させることによって測定する[1]。接触力は,試料及び
かなとこ(鉄床)のひずみが無視できる程度に調整する。接触力は,受渡当事者間の協定によるが,試料
及びかなとこ(鉄床)の材料に依存する。
  かなとこ(鉄床)の間隔は,電子マイクロメータで測定する。
  ひずみが無視できない場合は,測定値を数学的に補正する。
D.3.2 測定
  かなとこ(鉄床)の端面を清浄にし,かなとこ(鉄床)の端面がお互いに接触するようにマイクロメー
タのねじを回す。
  さらに,お互いのかなとこ(鉄床)がばねの力だけで保持されるようになるまでマイクロメータのねじ
を回す。
  電子マイクロメータの読み値を記録する。
  次に,かなとこ(鉄床)の端面間の間隔が試料の外径より大きくなるようにマイクロメータを調整する。
  かなとこ(鉄床)の端面で,支持台の上に試料を置く。かなとこ(鉄床)の端面が試料に接触し,かな
とこ(鉄床)が試料に対してばねの力だけで保持されるように,ゆっくりとマイクロメータのねじを回す。
  電子マイクロメータの読み値を記録する。1回目と2回目の読み値の差に,圧縮による補正を加えたも
のが試料の外径である。
  再現性を確実にするために,測定を数回繰り返す。
  クラッド非円率を計算するために,試料を回転させて上記の測定を繰り返す。
D.4 計算
  測定の再現性を表すために,数回の測定から算出する試料の平均外径と標準偏差とを記録する。また,
試料を回転させて求めた平均外径から,試料のクラッド非円率を求める。
D.5 結果
  6.7に示すほか,要求があれば次の事項を記録する。
a) かなとこ(鉄床)の材料及び接触力を含めた装置の記載
b) 補正係数(補正した場合)

――――― [JIS C 6822 pdf 26] ―――――

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                                          附属書E
                                          (規定)
                               測定方法2-A 側面観察法
E.1 装置
  装置は,光学顕微鏡又はレーザゲージから構成する。
E.1.1 光学顕微鏡
  代表的な試験装置の概略図を,図E.1に示す。
E.1.1.1 対物レンズ
  照明用光源とともに,高品質の顕微鏡対物レンズを用いる。
E.1.1.2 光ファイバ保持構成
  光ファイバの軸が対物レンズの光軸と直角を保ち,かつ,顕微鏡の焦平面に光ファイバを保持するため
のジグを準備する。試料を適切な屈折率整合剤の中に浸せきし,透明な材料で作ったセルで保持する。必
要ならば,試料をカーソルに平行となるように,このセルを回転台に固定する。セルアセンブリ全体又は
セル内の光ファイバを光ファイバクランプで保持する。被覆寸法測定のためには,光ファイバクランプは
少なくとも180゜以上回転でき,複数の位置で固定可能でなければならない。機械公差は,光ファイバを
回転したときに,再位置決め及び再焦点合せが最小限となるように設定する。
                                図E.1−代表的な試験装置の概略図
E.1.1.3 像の観察
  像は直接糸線入り接眼レンズで観察する(目視法)か,CCDカメラに投影されたものをモニタに表示し
て観察する(カメラ法)。目視法での典型的な倍率は100200倍で,カメラ法は20倍である。カメラ法で
は,像は直接CCD上に形成される。目視法においては糸線入り接眼レンズを使用し,またカメラ法では
モニタ上の電子カーソルを位置決めするか,保存された像をコンピュータでデータ解析することによって
光ファイバの像の寸法を決定する。

――――― [JIS C 6822 pdf 27] ―――――

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C 6822 : 2009
E.1.2 レーザゲージ
  代表的な試験装置の概略図を,図E.2に示す。
E.1.2.1 一般的な部品
  装置は,適切な波長(例えば,633 nm)で動作するレーザ光源,走査装置及び検出器から構成する。必
要な場合には,ビームを試料に視準するためにレンズ系を用いてもよい。
E.1.2.2 光ファイバ保持構成
  光ファイバ軸を装置の光軸に対し直角に維持した状態で,少なくとも180゜以上回転でき,複数の位置
で固定可能な光ファイバクランプに,試料を保持する。
                                   図E.2−測定器構成の側面図
E.2 手順
E.2.1 校正
  既知の寸法の物(校正サンプル)を測定して装置を校正する。この測定方法の精度は典型的には1 μm
なので,校正試料の寸法は0.5 μm以下の精度であればよい。
E.2.2 像の解析
  異なる回転角で光ファイバの像を解析することによって,被覆寸法とする。レーザゲージを使用した場
合は,光ファイバを横切るレーザビームの屈折関数を評価することで寸法を測定してもよい。
E.2.3 データ解析
  データ収集後に,平面解析又はだ(楕)円近似解析を行う。必要な精度及び再現性が得られるデータを
収集してから解析を進める。
E.2.3.1 平面解析
  適切な光ファイバクランプを用い,試料を回転して最小及び最大の外径を測定する。光ファイバを回転
させて,像のサイズがそれぞれ最大又は最小となる角度位置を求める。それぞれの角度位置で,クラッド
径及び一次被覆層の厚さを測定する。光ファイバを回転させて同様の手順を実行し,異なった角度位置で
測定した外径の最大値と最小値(それぞれ,A及びBとする。)とを計算する。
E.2.3.2 だ(楕)円近似解析
  被覆外径に関するデータを得るために,光ファイバの側面観察による拡大像を解析する。データ点数が
十分な場合は,長軸 (A) 及び短軸 (B) を決定するために,最小二乗和法 (LSS) を用いて,被覆データを

――――― [JIS C 6822 pdf 28] ―――――

                                                                                             25
                                                                                   C 6822 : 2009
だ(楕)円近似する。
E.3 計算
E.3.1 平面解析の場合
E.3.1.1 被覆外径
  被覆外径は,次の式によって求める。
                            A  B
                         D
                              2
                      ここに,    D :  被覆外径 (μm)
                                  A :  外径の最大値 (μm)
                                  B :  外径の最小値 (μm)
E.3.1.2 被覆非円率
  被覆非円率は,次の式によって求める。
                            A  B
                        C         100
                             D
                      ここに,     C :  被覆非円率 (%)
                                   A :  外径の最大値 (μm)
                                   B :  外径の最小値 (μm)
                                   D :  被覆外径 (μm)
E.3.1.3 一次被覆の最小厚と最大厚との比
  一次被覆の最小厚と最大厚との比は,次の式によって求める。
                             min
                         R       100
                             max
                      ここに,     R :  一次被覆の最小厚と最大厚との比 (%)
                                 tmin :  一次被覆の最小厚さ (μm)
                                 tmax :  一次被覆の最大厚さ (μm)
E.3.2 だ(楕)円近似解析の場合
E.3.2.1 被覆外径
  被覆外径は,次の式によって求める。
                             A  B
                         D
                               2
                      ここに,    D :  被覆外径 (μm)
                                  A :  だ(楕)円の長軸の長さ (μm)
                                  B :  だ(楕)円の短軸の長さ (μm)
E.3.2.2 被覆非円率
  被覆非円率は,次の式によって求める。
                            A  B
                        C         100
                             D
                      ここに,    C :  被覆非円率 (%)

――――― [JIS C 6822 pdf 29] ―――――

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C 6822 : 2009
                                  A :  だ(楕)円の長軸の長さ (μm)
                                  B :  だ(楕)円の短軸の長さ (μm)
                                  D :  被覆外径 (μm)
E.3.2.3 被覆/クラッド偏心量
  被覆/クラッド偏心量は,次の式によって求める。
                                       2
                         E    Xpc  Xg1    Ypc Yg1
                      ここに,    E :  被覆/クラッド偏心量 (μm)
                                 Xpc :  一次被覆の中心のX座標又は二次被覆の中心のX座標
                                 Ypc :  一次被覆の中心のY座標又は二次被覆の中心のY座標
                                 Xgl :  クラッド中心のX座標
                                 Ygl :  クラッド中心のY座標

――――― [JIS C 6822 pdf 30] ―――――

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