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b) 検量線の直線性 検量線の上部側20 %又は25 %範囲のこう配(吸光度の変化で表す。)の,同じ方法
で算出した下部側20 %又は25 %範囲のこう配に対する比が0.95以上でなければならない。
3.2 マイクロピペット 550 湮 液を採取できるもの。装置に備えられた自動サンプラを用いても
よい。
4. 試料はかりとり量 試料はかりとり量は,0.20 gとする。
5. 操作
5.1 試料溶液の調製 試料溶液の調製は,次の手順による。
a) 試料をはかりとって白金るつぼ(30番)に移し入れ,混合融剤[2.f) ] 1.5 gを加えて試料と融剤を混合する。
b) ブンゼンバーナを用いて,徐々に温度を上げながら試料を融解する。
c) 室温まで放冷した反応生成物の入ったるつぼを,ビーカー(200 ml)に入れ,塩酸(1+3) 50 mlを加えてビ
ーカーを時計皿で覆い,熱板の低温部で沸騰しない程度に穏やかに加熱(約90 ℃)して反応生成物
を溶解する。
d) るつぼを少量の水で4,5回洗浄して取り出した後,ビーカーの液を100 mlの全量フラスコに移し入
れ,水で標線まで薄める。
e) この溶液から附属書2表1に示すひ素含有率に対応した量を分取し(1),100 mlの全量フラスコに移し
入れて水で標線まで薄める。
注(1) 分取量は,原子吸光分析装置の感度,分光干渉及び検量線の直線性を考慮して変更してもよい。
5.2 原子吸光分析装置の調整 装置製造業者の指示書に従って必要とする装置のパラメータを調節し(2),
電気加熱方式の原子化部を接続する。装置のゼロ点調節を行い,記録計のベースラインを設定する。加熱
プログラムを作動させて原子化部の黒鉛管(3)を加熱し,ゼロ点の安定性,ベースラインの安定性及び原子
化機構内に分光干渉のないことを確認する。
新しい黒鉛管は,あらかじめ空試験値が安定するまで数回空焼きして使用する。
注(2) 操作上のパラメータに対する最適条件は,装置ごとに異なる。
(3) プラットホームを用いてもよい。
5.3 吸光度の測定 吸光度の測定は,次の手順による。
a) 5.1e)で得た溶液から附属書2表1に示すひ素含有率に対応した試料溶液採取量(4)及びマトリックスモ
ディファイヤ[2.h) ]5 マイクロピペット又は自動サンプラーを用いて5.2で調整した原子吸光分
析装置の原子化部の黒鉛管に注入する。
注(4) 試料溶液採取量は,原子吸光分析装置の感度,分光干渉,検量線の直線性を考慮して,520
囲内で変更してもよい。
b) 黒鉛管を乾燥・灰化・原子化のプログラムで逐次加熱し(5),波長193.7 nmにおけるひ素の吸光度を測
定する(6)。同一試料溶液を3回ずつ原子化し平均値を採用する。
注(5) 黒鉛管の加熱条件の例を附属書2表2に示す。
(6) 記録計で得られたピーク面積又はピーク高さを読みとる。
――――― [JIS M 8226 pdf 16] ―――――
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附属書2表1 分取量及び試料溶液採取量
試料中のひ素含有率 分取量 試料溶液採取量
(質量分率%) ml
0.0005以上0.010未満 25 10
0.010以上0.024未満 25 5
0.024以上0.06以下 10 5
附属書2表2 黒鉛管の加熱条件の例
加熱プログラム 加熱温度 加熱時間
℃ 秒
乾燥 130 30
灰化 1200 20
原子化 2400 3
クリーン化 2600 3
6. 空試験 7.の検量線作成操作において得られる標準ひ素溶液を添加しない溶液の吸光度を空試験の吸
光度とする。
7. 検量線の作成 検量線の作成は次の手順による。
a) ひ素含有率質量分率0.010 %未満の検量線作成の場合は6個,ひ素含有率質量分率0.010 %以上0.024 %
未満の検量線作成の場合及びひ素含有率質量分率0.024 %以上0.06 %以下の検量線作成の場合は5個
のビーカー(200 ml)を用意し,それぞれに純酸化鉄[2.e) ]0.20 gをはかりとり,5.1a)5.1d)の手順に従
って試料と同じ操作を試料と併行して行う。
b) )で得た溶液から試料の分取量と同量の液量を分取して,100 mlの全量フラスコに移し入れ,試料中
のひ素含有率に応じて附属書2表3又は附属書2表4に従い,標準ひ素溶液[2.g) ]を添加して(7)水で標
線まで薄める。
注(7) 標準ひ素溶液添加量は,原子吸光分析装置の感度,分光干渉,検量線の直線性を考慮して変更
してもよい。
c) 5.3の手順に従って試料と同じ操作を試料と併行して行い,得た吸光度と添加したひ素量との関係線を
作成し,その関係線を原点を通るように平行移動して検量線とする。
――――― [JIS M 8226 pdf 17] ―――――
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附属書2表3 検量線溶液調製−ひ素含有率質量分率0.010 %未満
標準ひ素溶液[2.g) ] 溶液中のひ素濃度 溶液10 汎 の25 ml分取,10 液採取で
添加量 ng/ml ひ素量 の試料において相当する
ml pg ひ素含有率
(質量分率%)
0 0 0 0
1 10 100 0.002
2 20 200 0.004
3 30 300 0.006
4 40 400 0.008
5 50 500 0.010
附属書2表4 検量線溶液調製−ひ素含有率質量分率0.010 %以上0.024 %未満,又は0.024 %以上
0.06 %以下
標準ひ素溶液 溶液中のひ 溶液5 汎 の25 ml分取,5 10 ml分取,5
液採取 液採取で
[2.g) ]添加量 素濃度 ひ素量 での試料において相当す の試料において相当する
るひ素含有率 ひ素含有率
ml ng/ml pg (質量分率%) (質量分率%)
0 0 0 0 0
3 30 150 0.006 0.015
6 60 300 0.012 0.030
9 90 450 0.018 0.045
12 120 600 0.024 0.060
8. 計算 5.及び6.で得た吸光度と7.で作成した検量線とからひ素量を求め,試料中のひ素含有率を次の
式によって算出する。なお、分析値の最終表示は,ひ素含有率質量分率が0.010 %未満では小数点以下4
けたまで表し,0.010 %以上では小数点以下3けたまで表す。
(m1 - m2 ) 3
As 10 C
m V1 V2
ここに,As : 試料中のひ素含有率(質量分率%)
m1 : 試料溶液中のひ素検出量(pg)
m2 : 空試験液中のひ素検出量(pg)
m : 試料はかりとり量(g)
V1 : 分取量(ml)
V2 : 溶液採取量(
C : 純酸化鉄[2.e) ]中のひ素含有率(質量分率%)
9. 許容差 許容差(8)は,附属書2表5による。
注(8) 許容差計算式中のf(n)の値は,JIS Z 8402-6の表1(許容範囲の係数)による。ここで,nの値
は,室内再現許容差の場合は同一分析室内における分析回数,室間再現許容差の場合は分析に
――――― [JIS M 8226 pdf 18] ―――――
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関与した分析室数とする。また,(As)は,許容差を求めるひ素含有率(質量分率%)とする。
附属書2表 5 許容差
単位 質量分率%
ひ素含有率 室内再現許容差 室間再現許容差
0.000 5以上0.06以下 f(n) [0.026 8×(As)+0.000 054] f(n) [0.044 0×(As)+0.000 051]
参考 この許容差は,ひ素含有率質量分率0.0005 %以上0.057 %以下の試料を用い,共同実験した結
果から求めたものである。
――――― [JIS M 8226 pdf 19] ―――――
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附属書3(規定)酸溶解−電気加熱方式原子吸光法
1. 要旨 試料を塩酸と硝酸とで分解し,溶液をろ過する。ろ液を一定量に薄めた後,溶液及びマトリッ
クスモディファイヤを原子吸光分析装置の電気加熱方式の原子化部に注入して加熱し,その吸光度を測定
する。
2. 試薬 試薬は次による。
a) 塩酸
b) 塩酸(2+100)
c) 硝酸
d) 硝酸(5+95)
e) 純酸化鉄 純度の高い酸化鉄で,ひ素を含まないか,又はひ素の含有率が少なく既知であるもの。
f) 標準ひ素溶液(As 1 最一 酸化二ひ素(JIS K 8005) 0.660 2 gをはかりとり,水酸化ナトリウム溶液
(50 g/l) 30 mlに溶解して,水で500 mlに薄める。次いで,硫酸(1+5) 8 mlを加えて煮沸し,過マンガ
ン酸カリウム溶液(20 g/l)を微紅色が持続するまで滴加する。さらにしばらく煮沸した後,冷却し1 000
mlの全量フラスコに移し,水で標線まで薄め標準ひ素原液(As 500 最一 罵 の都度この原液
を正確に500倍に薄め,標準ひ素溶液とする。
g) マトリックスモディファイヤ マグネシウム及びパラジウムの濃度がそれぞれ50 最一
硝酸マグネシウム溶液及び硝酸パラジウム溶液を混合し,調製したもの。硝酸濃度は(5+95)となるよ
うに調製する。
参考 市販の溶液から所定の濃度となるよう調製して用いてよい。マグネシウム溶液及びパラジウム
溶液を独自に調製する場合の調製例を次に示す。
マグネシウム溶液(Mg 1 mg/ml) : 硝酸マグネシウム六水和物[Mg(NO3)2・6H2O]1.05gをはかりと
り水を加えて溶解し,100mlの全量フラスコに移し入れ標線まで薄めて原液(Mg 1 mg/ml)とする。
パラジウム溶液(Pd 1 mg/ml) : 硝酸パラジウム(II)二水和物[Pd(NO3)2・2H2O]0.25gをはかりと
り硝酸(1+1)を加えて溶解し,100mlの全量フラスコに硝酸(1+1)を用いて移し入れ,標線まで薄
めて原液(Pd 1 mg/ml)とする。
3. 装置及び器具
3.1 原子吸光分析装置 電気加熱方式の原子化部を備えた原子吸光分析装置。電気加熱方式の原子化部
の発熱体は,黒鉛製とし,バックグラウンド補正部及び高速記録計又はコンピュータ化された読み取り装
置を備えたもの。光源には中空陰極ランプ又は無電極放電ランプを用いる。
3.1.1 装置基準 使用する原子吸光分析装置は,5.2に従って調整した後,次に示す装置基準を満足しな
ければならない。b)の検量線の直線性について基準を満足できない場合は,基準を満足するように附属書
3表3又は附属書3表4に示す標準ひ素溶液添加量を変えて検量線を作成してもよい。
a) 1%吸収質量 ひ素の1 %吸収質量は,30 pg以下でなければならない。1%吸収質量の求め方は,JIS G
1257附属書31付録AのA.1(1 %吸収質量mcの求め方)による。
b) 検量線の直線性 検量線の検量線の上部側20 %範囲のこう配(吸光度の変化で表す。)の,同じ方法
で算出した下部側20 %範囲のこう配に対する比が0.95以上でなければならない。
――――― [JIS M 8226 pdf 20] ―――――
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JIS M 8226:2006の引用国際規格 ISO 一覧
- ISO 7834:1987(MOD)
JIS M 8226:2006の国際規格 ICS 分類一覧
- 73 : 鉱採及び鉱物 > 73.060 : 金属鉱物及びそれらの濃縮物 > 73.060.10 : 鉄鉱石
JIS M 8226:2006の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISG1257:1994
- 鉄及び鋼―原子吸光分析方法
- JISK8005:2014
- 容量分析用標準物質
- JISM8202:2015
- 鉄鉱石―分析方法通則
- JISM8702:2019
- 鉄鉱石―サンプリング及び試料調製方法
- JISZ8402-6:1999
- 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)―第6部:精確さに関する値の実用的な使い方