JIS X 33003:2019 情報技術―プロセスアセスメント―プロセス測定フレームワークに対する要求事項

                                                              X 33003 : 2019 (ISO/IEC 33003 : 2015)

pdf 目 次

ページ

•  序文・・・・[1]
•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[2]
•  3 用語及び定義・・・・[2]
•  4 プロセス測定フレームワークの要求事項・・・・[4]
•  4.1 概念化・・・・[4]
•  4.2 構成概念定義・・・・[5]
•  4.3 操作化・・・・[5]
•  4.4 構成概念仕様の検査・・・・[6]
•  4.5 プロセス属性の評定・・・・[7]
•  4.6 集約・・・・[7]
•  4.7 感度分析・・・・[8]
•  5 プロセス測定フレームワークの妥当性確認のための要求事項・・・・[8]
•  5.1 要求事項・・・・[8]
•  5.2 手引・・・・[9]
•  6 プロセス測定フレームワークの適合性検証・・・・[10]
•  附属書A(参考)用語の関係・・・・[11]
•  附属書B(参考)構成概念仕様 : 反映的又は形成的・・・・[13]
•  附属書C(参考)幾つかの統計的妥当性確認手法・・・・[15]
•  附属書D(参考)プロセス測定フレームワークの要求事項の実装方法・・・・[18]
•  参考文献・・・・[20]

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X 33003 : 2019 (ISO/IEC 33003 : 2015)

まえがき

  この規格は,産業標準化法第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人情報処理学会(IPSJ)及び一般
財団法人日本規格協会(JSA)から,産業標準原案を添えて日本産業規格を制定すべきとの申出があり,
日本産業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が制定した日本産業規格である。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本産業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
    注記 工業標準化法に基づき行われた申出,日本工業標準調査会の審議等の手続は,不正競争防止法
          等の一部を改正する法律附則第9条により,産業標準化法第12条第1項の申出,日本産業標準
          調査会の審議等の手続を経たものとみなされる。

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                                       日本産業規格                             JIS
                                                                            X 33003 : 2019
                                                                       (ISO/IEC 33003 : 2015)

情報技術−プロセスアセスメント−プロセス測定フレームワークに対する要求事項

Information technology-Process assessment- Requirements for process measurement frameworks

序文

  この規格は,2015年に第1版として発行されたISO/IEC 33003を基に,技術的内容及び構成を変更する
ことなく作成した日本産業規格である。
  なお,この規格で点線の下線を施してある参考事項は,対応国際規格にはない事項である。

1 適用範囲

  この規格は,プロセス能力のアセスメントに使用するプロセス測定フレームワークの要求事項について
規定する。この規格が定義する要求事項は,次による。
a) プロセスアセスメントに関連するプロセス測定フレームワークのための要求事項を確立する。
b) プロセスアセスメントに使用するプロセス測定フレームワークの妥当性確認のための要求事項を確立
    する。
c) 複数の分野にわたって合成の測定量を策定するプロセス測定フレームワークに適用できる要求事項を
    確立する。
  この規格は,全ての適用分野のプロセス品質特性のためのプロセス測定フレームワーク策定に,適用で
きる。
  附属書Aでは,この規格で使用されている用語間の関係を示す。附属書Bでは,構成概念仕様を説明し
ている。附属書Cでは,統計的な妥当性確認の方法を説明している。附属書Dでは,参考文献を含めて,
プロセス測定フレームワークの要求事項を実行するための幾つかの方法を提供している。これらの附属書
は,規格一式の一部として策定するプロセス測定フレームワークを構築するためのガイドになる。
    注記1 この規格は,ソフトウェア又は情報分野が対象である。
    注記2 JIS X 33020は,この規格に基づいたプロセス能力のアセスメントのためのプロセス測定フレ
            ームワークである。
    注記3 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
          ISO/IEC 33003:2015,Information technology−Process assessment−Requirements for process
              measurement frameworks(IDT)
            なお,対応の程度を表す記号“IDT”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“一致している”こ
          とを示す。

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X 33003 : 2019 (ISO/IEC 33003 : 2015)

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,記載の年の版を適用し,その後の改正版(追補を含む。)は適用しない。
    JIS X 0141:2009 システム及びソフトウェア技術−測定プロセス
      注記 対応国際規格 : ISO/IEC 15939:2007,Systems and software engineering−Measurement process
             (IDT)
    JIS X 33001:2017 情報技術−プロセスアセスメント−概念及び用語
      注記 対応国際規格 : ISO/IEC 33001:2015,Information technology−Process assessment−Concepts and
             terminology(IDT)

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS X 0141:2009,JIS X 33001:2017によるほか,次による。
3.1
集約方法(aggregation method)
  合成値を生成するために測定値一式を組み合わせる方法。
    注記 集約方法は,補償モデル又は非補償モデルに基づく。
3.2
補償モデル(compensatory model)
  合成の測定量が個々に重み付けされた項で構成され,高い値をもつ判断基準(さらに,属性項を参照す
る判断基準)によって,各重みに比例してそれらの低い値を補うことができるMCDMモデル。
    注記 補償モデルは,重要度の高い測定量(重み付けが高い測定量)を改善することは,重要度の低
          い測定量を改善するよりも総合的な合成値を増やす,又は改善する可能性が高いことを示唆し
          ている。このモデルでは,判断基準の測定された水準に関係なく,判断基準の重み(影響の水
          準)が同じままであることを前提としている。
3.3
合成の測定量(composite measure)
  構成概念仕様(反映的又は形成的のいずれか)に従って定義された複数項目測定量の一連の操作から導
出される変数。構成概念仕様は,対象とする構成概念を代表する潜在変数をその測定量に結び付ける方法
である。
3.4
合成値(composite value)
  合成の測定量から得られる値。
    注記 合成の測定量は,順序,間隔又は比尺度から得られる。
3.5
構成概念(construct)
  プロセスアセスメントを使用して測定したい抽象的なアイデア,イメージ,根底にあるテーマ又は主た
る関心事のような概念。
    注記1 プロセス測定フレームワークでは,構成概念(潜在的な構成概念を指す。)は,プロセス品質
            特性及びプロセス属性のような理論的概念である。
    注記2 構成概念に割り当てられる意味を,理論的定義といい,その意味を説明するだけでなく,明

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                                                              X 33003 : 2019 (ISO/IEC 33003 : 2015)
            確な次元(側面)を論じることが望ましい。
3.6
次元(dimension)
  多次元構成概念を構成する個々の構成要素。
3.7
形成的構成概念(formative construct)
  構成概念とその測定量との関係における,観察される測定量から形成される構成概念。
    注記 構成概念は,その測定量から決定され,各測定量は,構成概念を決定する要素である。
3.8
潜在変数(latent variable)
  一次元構成概念を表す変数。
    注記 構成概念の次元ごとに独立した潜在変数が存在し,かつ,潜在変数ごとに最低一つの測定量が
          存在することが望ましい。
3.9
多基準意思決定,多属性意思決定,MCDM(Multiple-Criteria Decision Making,Multi-Attribute Decision Making,
MCDM)
  複数の基準によって定義される利用可能な選択肢(例えば,評価,優先順位付け又は選定)の決定。
    注記1 MCDMの一つの基準は,測定量に対応する。
    注記2 一つの選択肢をもつMCDMは,合成の測定量の開発と同じである。
3.10
測定モデル(measurement model)
  潜在変数とその(複数の項目からなる)測定量との間の明示的又は暗黙的な関係。
    注記 反映的構成概念とその測定量との関係は,反映的測定モデルという。形成的構成概念の場合は,
          形成的測定モデルという。
3.11
多次元構成概念(multidimensional construct)
  複数の一次元構成概念から構成される構成概念。
    注記 多次元構成概念の各次元を,一次元構成概念といい,それは,一つの潜在変数によって表現さ
          れる。各次元には,複数の測定量を設定できる。例えば,多次元構成概念では,プロセス属性
          の基礎をなす共通因子として定義される能力の意味と,プロセス属性の単なる合計として定義
          される能力の意味とは異なる。前者を,反映的多次元構成概念といい,後者を,形成的多次元
          構成概念という。多次元構成概念は,不確定な水準の数になり得る。
3.12
非補償モデル(non-compensatory model)
  重みに応じて互いを補い合う基準を許容しないMCDMモデル。
    注記 重みが同じでも,著しく正又は負の項目は,合成値全体に不均衡をもたらす。評価方針,合成
          の測定量の目的及び/又は測定尺度に依存して,多くの非補償モデルが存在する。
3.13
反映的構成概念(reflective construct)
  構成概念とその測定量との関係における,測定量に影響を与える原因となる構成概念。

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