JIS Z 8126-1:2021 真空技術―用語―第１部：一般用語

                                                                                  Z 8126-1 : 2021

pdf 目 次

ページ

•  序文・・・・[1]
•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  3.1 一般用語・・・・[2]
•  3.2 気体及び蒸気,並びにその特性を定義する用語・・・・[4]
•  3.3 気体分子の移動及び気体の流れを特徴づけるために必要な用語・・・・[6]
•  3.4 真空技術における表面及びバルクにおける現象を定義する用語・・・・[9]
•  4 記号及び略語・・・・[11]
•  附属書JA(参考)圧力の単位(従来単位とSI単位との比較)・・・・[12]
•  附属書JB(参考)JISと対応国際規格との対比表・・・・[13]

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           Z 8126-1 : 2021

まえがき

  この規格は,産業標準化法第16条において準用する同法第12条第1項の規定に基づき,公益社団法人
日本表面真空学会(JVSS),一般社団法人日本真空工業会(JVIA)及び一般財団法人日本規格協会
(JSA)から,産業標準原案を添えて日本産業規格を改正すべきとの申出があり,日本産業標準調査会の
審議を経て,経済産業大臣が改正した日本産業規格である。これによって,JIS Z 8126-1:1999は改正さ
れ,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本産業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
  JIS Z 8126規格群(真空技術−用語)は,次に示す部で構成する。
    JIS Z 8126-1 第1部 : 一般用語
    JIS Z 8126-2 第2部 : 真空ポンプ及び関連用語
    JIS Z 8126-3 第3部 : 真空計及び関連用語

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                                      日本産業規格                            JIS
                                                                           Z 8126-1 : 2021

真空技術−用語−第1部 : 一般用語

Vacuum technology-Vocabulary-Part 1: General terms

序文

  この規格は,2019年に第2版として発行されたISO 3529-1を基とし,国内の実情に合わせるため,技
術的内容を変更して作成した日本産業規格である。
  なお,この規格で側線又は点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格を変更している事項である。
また,附属書JAは,対応国際規格にはない事項である。技術的差異の一覧表にその説明を付けて,附属
書JBに示す。

1 適用範囲

  この規格は,真空科学技術に関する主な一般用語を規定する。
  注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
        ISO 3529-1:2019,Vacuum technology−Vocabulary−Part 1: General terms(MOD)
          なお,対応の程度を表す記号“MOD”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“修正している”こと
        を示す。

2 引用規格

  この規格には,引用規格はない。

3 用語及び定義

  真空科学技術に関する用語及び定義は,次による。また,用語の番号の付け方は図1による。番号欄内
の括弧内の数字は,対応国際規格における番号である。

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           2
Z 8126-1 : 2021
                                   図1−用語の番号付けの規則

3.1 一般用語

   番号     用語                      定義                  量記号   単位      対応英語
 1101   気体の標準 気体論における気体の標準的な状態を与える温度               standard
           状態     及び圧力の状態                                               reference
                       注釈1 標準状態を与える温度及び圧力には,複                 conditions for
                             数の定義がある。このため,気体の標準                 gases
                             状態を記載する場合には温度及び圧力
                             を明記することが望ましい。
                       例1 標準環境温度及び圧力では,25 ℃,1×105
                            Pa (=1 bar)の状態。
                       例2 気体の標準温度及び圧力では,0 ℃,1×
                            105 Pa (=1 bar)の状態。
                       例3 標準温度及び圧力では,0 ℃,101 325 Pa
                            (=1 atm)の状態。
 1102   真空       通常の大気圧より低い圧力(分子密度)の気体で               vacuum
 (3.1.1)            満たされた空間の状態
 1103   真空の領域 真空の圧力範囲に応じて定義される領域                       ranges of
 (3.1.2)              注釈1 低真空,中真空,高真空,超高真空,及                 vacuum
                             び極高真空という真空の領域がある。
                       注釈2 各真空領域の境界となる圧力は,おおよ
                             その値である。
 1104   低真空     大気圧(31 kPa110 kPa)未満,100 Pa以上の真                low (rough)
 (3.1.2)            空                                                           vacuum
                       注釈1 低真空は,一般材料(通常の鉄など)で
                             作製された真空容器を,粗引き真空ポン
                             プで真空排気することによって得るこ
                             とが可能である。粗引き真空ポンプへの
                             導管の内径を30 mm程度とした場合,
                             気体の流れは粘性流となる。
                       注釈2 地上における大気圧は,天候及び標高に
                             依存し,31 kPa(エベレスト山の山頂で
                             気圧が低い場所)から110 kPa(死海で
                             気圧が高い場所)の範囲にある。

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                                                                                  Z 8126-1 : 2021
   番号     用語                      定義                  量記号   単位      対応英語
 1105   中真空     圧力100 Pa未満,0.1 Pa以上の真空                           medium (fine)
 (3.1.2)              注釈1 中真空は,真空用材料(ステンレス鋼な                 vacuum
                             ど)で作製された真空容器を,粗引き真
                             空ポンプで真空排気することによって
                             得られる。導管の内径を30 mm程度と
                             した場合,気体の流れは中間流となる。
 1106   高真空     圧力0.1 Pa未満,1×10-6 Pa以上の真空                       high vacuum
 (3.1.2)  (HV)     注釈1 高真空は,真空用材料(ステンレス鋼,                 (HV)
                             アルミニウム合金など)で作製された真
                             空容器を用い,エラストマー(Oリング
                             など)で締結部を真空封止し,高真空ポ
                             ンプで真空排気することによって得る
                             ことが可能である。導管の内径を30 mm
                             程度とした場合,気体の流れは分子流と
                             なる。
 1107   超高真空   圧力1×10-6 Pa未満,1×10-9 Pa以上の真空                   ultra-high
 (3.1.2)  (UHV)    注釈1 超高真空は,特殊な内面処理又は洗浄が                 vacuum
                             施された真空用材料(低炭素ステンレス                 (UHV)
                             鋼,アルミニウム合金,無酸素銅など)
                             で作製された真空容器を用い,金属ガス
                             ケットで締結部を真空封止し,高真空ポ
                             ンプで真空排気し,更にベーキングを実
                             施することによって得ることが可能で
                             ある。多くの導管では,気体の流れは分
                             子流となる。
 1108   極高真空   圧力1×10-9 Pa未満の真空                                   extreme-high
 (3.1.2)  (XHV)    注釈1 極高真空は,特殊な内面処理又は洗浄が                 vacuum
                             施され,選ばれた真空用材料(真空高温                 (XHV)
                             熱処理された低炭素ステンレス鋼,アル
                             ミニウム合金,ベリリウム銅,チタンな
                             ど)で作製された真空容器を用い,金属
                             ガスケットで締結部を真空封止し,高真
                             空ポンプで真空排気し,更にベーキング
                             と気体ため込み式真空ポンプとを用い
                             た真空排気を実施することによって得
                             ることが可能である。多くの場合,気体
                             の流れは分子流となる。
 1109   超清浄真空 中真空又は高真空の特殊な状態で,抑制すべきガ               ultra clean
 (3.1.3)  (UCV)  ス種の気体分圧が,超高真空におけるそのガス種                 vacuum
                     の気体分圧と同程度となっている状態
                       注釈1 抑制すべきガス種(不純物)は用途に依
                             存する。
                       注釈2 炭化水素,CO,CO2,水蒸気及び酸素が
                             典型的な不純物ガスである。
                       注釈3 超清浄真空である要件に,微粒子の密度
                             を含めてもよい。

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