深さプロファイリング 関連 一覧 ISO/TC規格
ISO/TC 201/SC 4 一覧 深さプロファイリング ―ISO/TC規格
ISO/TR 22335:2007
表面化学分析—深さプロファイリング—スパッタリング速度の測定：機械式スタイラスプロフィロメーターを使用したメッシュレプリカ法
ISO 17109:2015
表面化学分析—深さプロファイリング— X線光電子分光法、オージェ電子分光法、および単層および多層薄膜を使用した二次イオン質量分析法のスパッタ深さプロファイリングにおけるスパッタ率決定の方法
ISO 14606:2015
表面化学分析—スパッタ深度プロファイリング—参照材料として層状システムを使用した最適化
ISO 23170:2022 表面化学分析—深さプロファイリング—中エネルギーイオン散乱によるSi基板上のナノスケール重金属酸化物薄膜の非破壊深さプロファイリング
ISO 16531:2020
表面化学分析—深度プロファイリング—イオンビームアライメントの方法と、AESおよびXPSでの深度プロファイリングの電流または電流密度の関連測定
ISO/TR 15969:2021
表面化学分析—深さプロファイリング—スパッタ深さの測定
ISO 14606:2022 表面化学分析 — スパッタ深さプロファイリング — 層状システムを参照材料として使用した最適化
ISO 17109:2022 表面化学分析 — 深さプロファイリング — X 線光電子分光法、オージェ電子分光法、および二次イオン質量分析法におけるスパッタ レートの決定方法 単層および多層薄膜を使用したスパッタ深さプロファイリング