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ISO 17109:2015 表面化学分析—深さプロファイリング— X線光電子分光法、オージェ電子分光法、および単層および多層薄膜を使用した二次イオン質量分析法のスパッタ深さプロファイリングにおけるスパッタ率決定の方法

ISO 17109:2015の概要

ISO17109:2015の規格概要

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Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

ISO 17109:2015は、深さ校正が必要なものと同じ材料の層を持つ単層または多層の参照サンプルを使用して、設定されたスパッタリング条件下でのスパッタリング速度の測定から、材料のスパッタ深さを校正する方法を指定しています。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。

ISO17109:2015 国際規格 情報

ISO 国際規格番号
ISO 17109:2015
ISO 国際規格名称
Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
ISO 規格名称 日本語訳
表面化学分析 — 深さプロファイリング — X線光電子分光法、オージェ電子分光法、および単層および多層薄膜を使用した二次イオン質量分析法のスパッタ深さプロファイリングにおけるスパッタ率測定の方法
発行日 (Publication date)
2015-07-28
更新日：確認日 (Update date,Date confirmed)
2021-01-28
状態 (Status)
公開中,公開済み (Published)
改訂 (Edition)
1
PDF ページ数 (Number of pages)
16
TC（専門委員会）:Technical Committee
ISO/TC 201/SC 4：深さ方向の分析 (Depth profiling)
ICS：International Classification for Standards（国際規格分類）
71.040.40：化学分析 (Chemical analysis)
ISO 対応 JIS 規格
ICS 対応 JIS 規格
ICS > 71 > 71.040 > 71.040.40

ISO 17109:2015 関連規格 履歴一覧

ISO17109:2015 対応 JIS 規格一覧

ISO17109:2015 ICS 対応 JIS 規格

ICS > 71：化学技術  > 71.040：分析化学  > 71.040.40：化学分析

正誤表/修正 一覧 (Corrigenda/Amendments)

  • ISO 17109:2015/DAmd 1

改訂 一覧 (Revised)

SDGs 情報

この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。