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ISO/TR 22335:2007 表面化学分析—深さプロファイリング—スパッタリング速度の測定：機械式スタイラスプロフィロメーターを使用したメッシュレプリカ法

ISO/TR 22335:2007の概要

ISO/TR22335:2007の規格概要

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Surface chemical analysis — Depth profiling — Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer

ISO/TR 22335:2007は、オージェ電子分光法 (AES) およびX線光電子分光法 (XPS) を使用して、深さプロファイリング測定のイオンスパッタリング率を決定する方法を説明しています。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。

ISO/TR22335:2007 国際規格 情報

ISO 国際規格番号
ISO/TR 22335:2007
ISO 国際規格名称
Surface chemical analysis — Depth profiling — Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
ISO 規格名称 日本語訳
表面化学分析 — 深さプロファイリング — スパッタリング速度の測定:機械式スタイラスプロフィロメーターを使用したメッシュレプリカ法
発行日 (Publication date)
2007-07-02
更新日：確認日 (Update date,Date confirmed)
2020-09-04
状態 (Status)
公開中,公開済み (Published)
改訂 (Edition)
1
PDF ページ数 (Number of pages)
18
TC（専門委員会）:Technical Committee
ISO/TC 201/SC 4：深さ方向の分析 (Depth profiling)
ICS：International Classification for Standards（国際規格分類）
71.040.40：化学分析 (Chemical analysis)
ISO 対応 JIS 規格
ICS 対応 JIS 規格
ICS > 71 > 71.040 > 71.040.40

ISO/TR 22335:2007 関連規格 履歴一覧

ISO/TR22335:2007 対応 JIS 規格一覧

ISO/TR22335:2007 ICS 対応 JIS 規格

ICS > 71：化学技術  > 71.040：分析化学  > 71.040.40：化学分析

正誤表/修正 一覧 (Corrigenda/Amendments)

改訂 一覧 (Revised)

SDGs 情報

この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。