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ISO 23170:2022の概要
ISO23170:2022の規格概要
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Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
このドキュメントでは、中エネルギーイオン散乱 (MEIS) を使用して、Si基板上のアモルファス重金属酸化物超薄膜の定量的深さプロファイリングの方法を指定します。
※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
ISO23170:2022 国際規格 情報
- ISO 国際規格番号
- ISO 23170:2022
- ISO 国際規格名称
- Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
- ISO 規格名称 日本語訳
- 表面化学分析—深さプロファイリング—中エネルギーイオン散乱によるSi基板上のナノスケール重金属酸化物薄膜の非破壊深さプロファイリング
- 発行日 (Publication date)
- 2022-06-15
- 更新日：確認日 (Update date,Date confirmed)
- 2022-06-15
- 状態 (Status)
- 公開中,公開済み (Published)
- 改訂 (Edition)
- 1
- PDF ページ数 (Number of pages)
- 29
- TC（専門委員会）:Technical Committee
- ISO/TC 201/SC 4：深さ方向の分析 (Depth profiling)
- ICS：International Classification for Standards（国際規格分類）
- 71.040.40：化学分析 (Chemical analysis)
- ISO 対応 JIS 規格
- ICS 対応 JIS 規格
- ICS > 71 > 71.040 > 71.040.40
ISO 23170:2022 関連規格 履歴一覧
ISO23170:2022 対応 JIS 規格一覧
ISO23170:2022 ICS 対応 JIS 規格
ICS > 71：化学技術 > 71.040：分析化学 > 71.040.40：化学分析
正誤表/修正 一覧 (Corrigenda/Amendments)
改訂 一覧 (Revised)
SDGs 情報
この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。
- 目標 9 産業、イノベーション、インフラストラクチャ (Industry, Innovation and Infrastructure)
- 目標 7 手ごろな価格でクリーンなエネルギー (Affordable and Clean Energy)
- 17の目標 : [Sustainable Development Goal]
SDGsとは、「Sustainable Development Goals（持続可能な開発目標）」の略称で、2015年9月に国連で採択された2030年までの国際開発目標。
17の目標と169のターゲット達成により、「誰一人取り残さない」社会の実現に向け、途上国及び先進国で取り組むものです。