ISO 16413:2013 (W) X線反射率法による薄膜の厚さ、密度、界面幅の評価 — 機器の要件、位置合わせと位置決め、データ収集、データ分析、およびレポート

ISO16413:2013の規格概要

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Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry — Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting

ISO 16413:2013は、X線反射率法 (XRR) を使用して、平坦な基板上で、厚さが約1 nm〜1μmの単層および多層薄膜の厚さ、密度、および界面幅を評価する方法を指定しています。この方法では、単色のコリメートされたビームを使用して、角度または散乱ベクトルのいずれかをスキャンします。同様の考慮事項は、分散検出器を使用した並列データ収集またはスキャン波長を使用する収束ビームの場合にも当てはまりますが、これらの方法についてはここでは説明しません。拡散XRRについて言及されており、実験の要件も同様ですが、これは本書ではカバーされていません。測定は、実験器具から放射光ビームラインの反射率計、または業界で使用される自動システムまで、さまざまな構成の機器で行うことができます。データ収集期間中のレイヤーの最終的な不安定性に注意を払う必要があります。これにより、測定結果の精度が低下します。単一波長で実行されるXRRは、層に関する化学的情報を提供しないため、試料表面で発生する可能性のある汚染または反応に注意を払う必要があります。最外層の結果の精度は、表面の変化に強く影響されます。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。