ISO 9022-3:1998 (W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 3: 機械的応力

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 10: 複合正弦波振動、乾熱または冷気

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 10: 正弦波振動と乾熱または冷気の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 11: カビの成長

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート11：カビの成長

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 12: 汚染

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート12：汚染

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 13: 複合衝撃、衝突または自由落下、乾熱または寒冷

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 13: 衝撃、衝突または自由落下と乾熱または冷気の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 14: 露、霜、氷

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート14：露、霜、氷

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 15: 複合ランダム振動広帯域:再現性媒体、乾熱または低温

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 15: デジタル制御された広帯域ランダム振動と乾熱または冷気の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 16: 乾熱または低温でのバウンスまたは定常状態加速の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 16: バウンスまたは定常状態の加速と乾熱または冷気の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 17: 複合汚染、日射

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート17：複合汚染、太陽放射

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 18: 湿熱と低内圧の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 19: 正弦波またはランダム振動と組み合わせた温度サイクル

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 1: 定義、試験範囲

(W) 光学およびフォトニクス — 環境試験方法 — Part 1: 定義、試験範囲

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート1：定義、試験範囲

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 20: 二酸化硫黄または硫化水素を含む湿潤雰囲気

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート20：二酸化硫黄または硫化水素を含む湿潤雰囲気

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 21: 低圧と周囲温度または乾熱の組み合わせ

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート22：低温、乾燥熱、または温度変化とバンプまたはランダム振動の組み合わせ

(W) 光学およびフォトニクス — 環境試験方法 — Part 23: 低圧、周囲温度、および乾熱と湿熱の組み合わせ

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート23：低温、周囲温度、および乾熱または湿熱と組み合わせた低圧

オプティクスとフォトニクス — 環境試験方法 — Part 23: 低圧と低温、周囲温度、乾熱または湿熱の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 2: 寒さ、暑さ、湿度

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 2: 寒さ、暑さ、湿度

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート2：寒さ、暑さ、湿度

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 3: 機械的応力

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート3：機械的ストレス

光学とフォトニクス — 環境試験方法 — Part 3: 機械的応力

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 4: ソルトミスト

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 4: ソルトミスト

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート4：ソルトミスト

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 5: 冷気と低気圧の組み合わせ

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 6: ほこり

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート6：ダスト

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 7: 滴り、雨

(W) 光学およびフォトニクス — 環境試験方法 — Part 7: 滴りまたは雨に対する耐性

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート7：滴りまたは雨に対する耐性

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 8: 高圧、低圧、浸漬

光学およびフォトニクス—環境試験方法—パート8：高内圧、低内圧、浸漬

(W) 光学および光学機器 — 環境試験方法 — Part 9: 日射

光学とフォトニクス—環境試験方法—パート9：日射と風化