JIS H 7202:2007 水素吸蔵合金の水素化及び脱水素化反応速度測定方法

                                                                                   H 7202 : 2007

pdf 目 次

ページ

•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 測定装置・・・・[2]
•  4.1 測定装置の構成・・・・[2]
•  4.2 機器の精度・・・・[4]
•  4.3 ガスの純度・・・・[4]
•  4.4 測定系容積及び空の試料系容積の算出・・・・[4]
•  5 測定準備・・・・[4]
•  5.1 試料の準備・・・・[4]
•  5.2 測定装置の準備・・・・[5]
•  5.3 試料の前処理・・・・[6]
•  6 測定・・・・[6]
•  7 反応速度特性図の作成・・・・[8]
•  7.1 水素化量及び脱水素化量の算出・・・・[8]
•  7.2 反応速度特性図の作図・・・・[8]
•  7.3 水素化・脱水素化反応速度特性値の算出・・・・[8]
•  8 報告・・・・[9]

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――――― [JIS H 7202 pdf 1] ―――――

H 7202 : 2007

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,財団法人大阪科学
技術センター (OSTEC) 及び財団法人日本規格協会 (JSA) から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を改
正すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)であ
る。
  これによって,JIS H 7202 : 1993は改正され,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に
抵触する可能性があることに注意を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許
権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に係る確認について,責任は
もたない。

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                              H 7202 : 2007

水素吸蔵合金の水素化及び脱水素化反応速度測定方法

Method for measurement of hydrogen absorption/desorption reaction rate of hydrogen absorbing alloys

1 適用範囲

  この規格は,水素吸蔵合金が水素を吸蔵及び放出する反応速度を求めるための一般的な測定方法につい
て規定する。
  なお,この規格を適用する測定対象温度範囲は173 K573 K,測定圧力範囲は1 kPa5 MPaとする。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。
  これらの引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS H 7003 水素吸蔵合金用語
    JIS H 7201 水素吸蔵合金の圧力−組成等温線(PCT線)の測定方法
    JIS K 0512 水素
    JIS Z 8401 数値の丸め方
    JIS Z 8801-1 試験用ふるい−第1部 : 金属製網ふるい

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS H 7003によるほか,次による。
3.1
初圧,p (0)
  水素化・脱水素化反応速度測定開始直後の測定系内の水素圧力。メガパスカル (MPa) で示す。
    注記 測定開始前の測定系内の圧力ではない。
3.2
終圧,p (e)
  水素化・脱水素化反応速度測定終了後の平衡状態での水素圧力。メガパスカル (MPa) で示す。
3.3
80 %反応時間,t80
  水素化量又は脱水素化量が,測定後の平衡状態,すなわち,JIS H 7201の6 a) 4) 及び6 b) 3) に規定す
る平衡状態における値の80 %に達するまでの時間。秒 (s) で示す。

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H 7202 : 2007
3.4
80 %反応速度,w80
  80 %反応時間における水素化量又は脱水素化量を80 %反応時間で除した値。秒の逆数 (s−1) で示す。

4 測定装置

4.1 測定装置の構成

  測定装置は,測定系,試料系,ガス供給・排気系及び温度制御用の機器並びに温度測定用の機器で構成
する。ガスと直接接触する機器は,測定中に印可するガスの最高使用圧力に耐えるに十分な強度があり,
水素と反応せず,水素を透過しない材料で構成し,室温及び測定対象温度において,水素加圧状態及び真
空状態での漏れがあってはならない。配管及びバルブは,流れ抵抗の小さいものを用い,圧力計は,応答
性のよいものを用いる。水素化・脱水素化反応速度測定装置の基本構成の例を,図1に示す。
  なお,試料容器の代わりに模擬容器を用いて,装置全体の応答性の検証試験を行い,測定に必要とする
応答性の良否を検証する。試料容器の代わりに試料の模擬体となる耐圧容器を接続して室温で水素化反応
速度を測定したとき,ほぼ無限大の速度特性,すなわち,測定中の各時間における測定系内圧力p (t) が測
定間隔の最小値である0.1秒程度で終圧p (e) に到達する場合は,配管及びバルブの流れ抵抗並びに圧力計
及び記録計の応答性は,測定に必要とする基準を十分に満たしているものとする。
  測定装置を構成する機器は,次による。
a) 測定系の機器 測定系の機器は,蓄圧容器 (B),圧力計 (P),バルブ (V1, V2, V4) 及び配管で構成する。
    圧力計 (P) は,時間計測機能をもつ。蓄圧容器 (B) の容積は,通常の試料量で測定を行うときに,
    水素化初圧と水素化終圧との差が水素化終圧の5 %以下になるように設計する。一般に,水素化の場
    合と脱水素化の場合とでは,適切な蓄圧容器の大きさが異なることが多いので,容積の異なる複数の
    蓄圧容器を用意し,バルブ又はコネクタで切り替えて使用するようにしてもよい。
      なお,蓄圧容器の温度を測定系の温度 [Td (K)   ] とする。
b) 試料系の機器 試料系の機器は,試料容器 (D),バルブ (V3) 及び配管で構成する。試料容器 (D) は,
    熱伝導率の高い金属で作製し,測定対象温度及び測定圧力での使用に耐える強度をもつとともに,試
    料を厚さ1 mm以下の平面上に容器に密着して充てんできる構造とし,かつ,その質量は,試料の水
    素化熱による試料温度の上昇を最小限に抑えるために,測定試料の1 000倍以上とするのが望ましい。
    測定対象温度範囲273 K473 K及び測定圧力範囲1 kPa3 MPaで使用可能な試料容器の例を図2に
    示す。
c) ガス供給・排気系の機器 ガス供給・排気系の機器は,真空計 (VG),一次圧調整弁 (VL) 並びに水
    素供給機器 (H),水素放出機器 (HE) 及び真空排気機器 (VE) で構成する。
d) 温度制御用及び温度測定用の機器 温度制御用及び温度測定用の機器は,恒温槽 (C) 及び温度計 (T1,
    T2) で構成する。温度計 (T1) は,蓄圧容器 (B) の近傍に取り付け,温度計 (T2) は,恒温槽 (C) の
    槽内に取り付ける。

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                      図1−水素化・脱水素化反応速度測定装置の基本構成の例
                                       図2−試料容器の例

――――― [JIS H 7202 pdf 5] ―――――

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