JIS H 8686-2:2013 アルミニウム及びアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の写像性試験方法―第２部：機器測定方法

                                                                                 H 8686-2 : 2013

pdf 目 次

ページ

•  序文・・・・[1]
•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 概要・・・・[2]
•  5 装置・・・・[2]
•  6 試験片・・・・[4]
•  7 手順・・・・[4]
•  7.1 黒色一次標準面による調整・・・・[4]
•  7.2 試験片測定の感度合せ・・・・[4]
•  7.3 試験片の測定・・・・[5]
•  8 試験結果の表し方・・・・[5]
•  8.1 写像性(Cn)・・・・[5]
•  8.2 光学的均一性(E)・・・・[6]
•  8.3 光の分散性(D)・・・・[7]
•  9 試験報告書・・・・[7]
•  附属書JA(参考)JISと対応国際規格との対比表・・・・[8]

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――――― [JIS H 8686-2 pdf 1] ―――――

H 8686-2 : 2013

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人軽金
属製品協会(JAPA)及び一般財団法人日本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を
改正すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)で
ある。
  これによって,JIS H 8686-2:1999は改正され,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
  JIS H 8686の規格群には,次に示す部編成がある。
    JIS H 8686-1 第1部 : 視感測定方法
    JIS H 8686-2 第2部 : 機器測定方法

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                           H 8686-2 : 2013

アルミニウム及びアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の写像性試験方法−第2部 : 機器測定方法

Anodizing of aluminium and its alloys-Instrumental determination of image clarity of anodic oxidation coatings-Instrumental method

序文

  この規格は,2010年に第2版として発行されたISO 10216を基とし,技術的内容を変更して作成した日
本工業規格である。
  なお,この規格で側線又は点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格を変更している事項である。
変更の一覧表にその説明を付けて,附属書JAに示す。

1 適用範囲

  この規格は,アルミニウム及びアルミニウム合金の表面が平滑な製品(以下,製品という。)に施した陽
極酸化皮膜(以下,皮膜という。)の機器測定方法による写像性試験方法について規定する。
    注記1 写像性の試験方法には視感測定方法及び機器測定方法の2種類あるが,この規格では機器測
            定方法について規定する。
    注記2 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
            ISO 10216:2010,Anodizing of aluminium and its alloys−Instrumental determination of image
                clarity of anodic oxidation coatings−Instrumental method(MOD)
              なお,対応の程度を表す記号“MOD”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“修正している”
            ことを示す。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS H 0201 アルミニウム表面処理用語
    JIS Z 8401 数値の丸め方
    JIS Z 8741 鏡面光沢度−測定方法

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,次によるほか,JIS H 0201による。

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H 8686-2 : 2013
3.1
写像性,Cn(image clarity)
  皮膜の表面で反射する物体の像が,どの程度鮮明にゆがみなく見えるかの度合い。
    注記1 この規格(機器測定方法)では,写像性を“Cn”で表す。
    注記2 写像性の値は,光学くし(櫛)のくし幅の最高相対光量及び最低相対光量の値を用いて,パ
            ーセント(%)として表示する。
3.2
光学的均一性,E(optical evenness)
  試験片の筋目に対して,試験片に映し出されたスリット光の像が平行となる縦方向で測定した写像性の
値と,縦方向から90°回転させて試験片の筋目に対してスリット光の像が直角となる横方向で測定した写
像性の値との比率。
    注記1 光学的均一性は,皮膜の表面の状態に依存し,皮膜の表面の縦及び横の方向性による写像性
            の異なり度合いの評価に使用する。
    注記2 試験片の筋目とは,試験片の作製時に生じるヘアーライン,ロール目などの一定の方向のこ
            とをいう。
3.3
光の分散性,D(dispersion of light)
  光学くしの異なるくし幅による写像性の値の比率。
3.4
有効面(significant surface)
  製品の表面に施した皮膜が,用途に適合する品質を満たすことが不可欠な面。

4 概要

  皮膜の写像性は,光源から試験片に光を照射し,試験面からの反射光を移動するくしによって,正反射
光と拡散光とに分けてその光量を測定し,全反射光に対する正反射光の比で写像性を求める。写像性の値
から,光学的均一性及び光の分散性も求めることができる。

5 装置

5.1   一般 装置の構成図の一例を,図1に示す。光源からの光は,最初に光源スリットを通り,第1レ
ンズで平行光線になる。次に,試験片の法線に対して45°で入射し,45°で正反射され,第2レンズで収
束して,光学くし上に結像する。光学くしを透過した光量が,受光器で測定される。試験片からの受光波
形の波高の高さ(M及びm : 図4参照)は,それぞれの光学くしのくし幅で測定される。
5.2   光源 光源のフィラメントの径は,0.05 mmを超えないものとする。また,測定時の光量に変化が
あってはならない。
5.3   光源スリット 光源スリットの幅は,0.02 mm±0.01 mmとし,長さは,約20 mmとする。
5.4   レンズ レンズの焦点距離は,130 mmとする。
5.5   光学くし 光学くしは,図2に示すように,遮光部分と透過部分との幅の比が1対1で,くし幅は
2.0 mm,1.0 mm,0.5 mm 1),0.25 mm及び0.125 mm 2) の5種類とし,更に暗部で構成する。光学くしの移
動速度は,記録計を用いる場合は約10 mm/min,記録計を用いない場合は約254 mm/minとする。
    注1) 通常,0.5 mmのくし幅を使用する。

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       2) 0.125 mmのくし幅は,光源を形作る光源スリットの幅0.02 mm±0.01 mmと同様に細く,その
          ため,試験片は,平滑面だけに適している。
5.6   受光器 受光器は,反射光の小さい皮膜についても正確な写像性が求められるように,感度を調節
できるものとする。
5.7   黒色一次標準面 JIS Z 8741に規定する黒色一次標準面とする。黒色一次標準面を試験片取付台に
取り付けた場合に検知される波形は,図3に示すように,その波高(相対光量)が5種類の光学くしのい
ずれを通した場合でも同じでなければならない。
                                  図1−測定装置の構成図の一例
                                       図2−光学くしの例

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