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K 0215 : 2016
番号 用語 定義 対応英語(参考)
4027 試薬ガス reagent gas
化学イオン化法において,試料分子をイオン化するため
に用いる気体。
4028 準安定イオン, metastable ion
イオン化室で生成し励起されているイオンのうち,イオ
メタステーブルイオン ン化室を出た後,分解しやすいイオン。
4029 衝突活性化, collisional activation,
飛行中のイオンが気体(アルゴンなど)との相互作用(衝
CA CA
突)によって,並進運動エネルギーの一部が内部エネル
ギーに変換され,活性化される現象。
4030 スパークイオン化 スパーク放電によって試料をイオン化する方法。 spark ionization
4031 セパレーター(ガスク separator (of gas
ガスクロマトグラフと質量分析計とをつなぐ部分に接続
ロマトグラフ質量分 chromatograph/mass
して,キャリヤーガスの大部分を除去し,試料を濃縮す
析計の) るための分離器。 spectrometer)
4032 全イオン電流クロマト total ion current
取得したマススペクトルから求められる全イオン電流値
グラム, を保持時間に対してプロットしたクロマトグラム。 chromatogram,
TICC TICC
4033 前駆イオン, precursor ion
あるイオンから別のイオン又は中性化学種が生成すると
プリカーサーイオン きの元のイオン。
4034 選択イオンモニタリン 特定のm/zのイオンを連続的に検出する方法。 selected ion monitoring,
グ, SIM
SIM
4035 相対感度係数 relative sensitivity
スパークイオン源質量分析において,ある元素のスペク
coefficient
トル線の一つを基準としたときの各元素のスペクトル線
の相対強度。
4036 大気圧イオン化, 大気圧下で行われるイオン化の総称。 atmospheric pressure
API ionization,
API
4037 単収束形質量分析計 single-focusing mass
単一磁場を用い,イオンビームの方向収束だけを行う方
式の質量分析計。通常,扇形の一様な磁場を用いる。 spectrometer
4038 タンデム質量分析, tandem mass
m/zによって選択されたイオンに対するプロダクト若し
MS/MS くはプリカーサーのマススペクトル,又は特定のm/zの spectrometry,
MS/MS
増減が生じたプリカーサーイオンのマススペクトルを取
得する方法。二つ以上の質量分析部を備えた装置を用い
る空間的タンデム質量分析,及びイオントラップタイプ
の装置を用いる時間的タンデム質量分析がある。
4039 タンデム質量分析計 MS/MSが可能な質量分析計。 tandem mass
spectrometer
4040 断熱イオン化 adiabatic ionization
分子に対して,電子の付加又は除去によって分子と同じ
構造をもつイオンが生成する現象。
4041 抽出イオンクロマトグ extracted ion
特定のm/z値における相対強度を読み出し,時間の関数
ラム として表したクロマトグラム。 chromatogram,
EIC
4042 転位イオン rearrangement ion
イオン化又はイオンが開裂するときにイオン内の原子又
は原子団が転位して生じるイオン。
4043 電界脱離, field desorption,
エミッターに塗った試料から,高電場によって気相イオ
フィールドデソープシ ンを生成させる現象。 FD
ョン,
FD
4044 電子イオン化, 電子によって原子及び分子をイオン化する方法。 electron ionization,
EI EI
4045 電場走査 electric field scanning
質量スペクトルを測定するために,電場の強さを変えて
行う走査。
――――― [JIS K 0215 pdf 16] ―――――
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K 0215 : 2016
番号 用語 定義 対応英語(参考)
4046 同位体 isotope
原子番号が同一の元素で互いに質量数の異なる一連の原
子。
4047 同位体イオン 同位体によって生じる一連のイオン。 isotopic ion
4048 統一原子質量単位, 静止した基底状態の12Cの質量の1/12を1とした単位で, unified atomic mass unit,
ダルトン 記号uで表す。ダルトンは,記号Daで表す。 Dalton
4049 double-focusing mass
二重収束形質量分析計 磁場と電場とを組み合わせて用い,イオンビームの方向
収束及び速度収束を行う方式の質量分析計。 spectrometer
4050 反応イオン reactant ion
化学イオン化法において,試料のイオン化を促進するイ
オン種。
4051 ビームモニター, beam monitor,
イオンビームが電極又は機構に入る前に,その一部分を
BM 受けてイオン量を測定するための電極又は機構。 BM
4052 time-of-flight mass
飛行時間形質量分析計, イオンをパルス状に入射させ,飛行速度の違いによって
TOF-MS イオンをm/zに応じて分離する方式の質量分析計。 spectrometer,
TOF-MS
4053 ファラデーカップコレ イオンビームを測定するためのカップ状の電極。 Faraday cup collector
クター
4054 フィールドイオン化, field ionization,
試料の先端をとが(尖)らし得られる高い電場勾配によ
電界イオン化, って試料分子をイオン化する方法。 FI
FI
4055 付加イオン 中性分子にイオン種が付加したイオン。 adduct ion
4056 fragmentation
フラグメンテーション イオンが一つ又は幾つかの開裂によってより小さい質量
の化学種を生成する反応。
4057 フラグメントイオン イオンの開裂によって生成したイオン。 fragment ion
4058 プロダクトイオン プリカーサーイオンの開裂によって生じたイオン。 product ion
4059 質量分解能 mass resolving power
質量分析計が近接したスペクトルを分離できる能力。
4060 分子イオン(質量分析 電荷をもつ分子の総称。 molecular ion (of mass
の) spectrometry)
4061 ぺニングイオン化 penning ionization
励起状態にある中性の原子又は分子によって試料をイオ
ン化する方法。
4062 方向収束 direction focusing
一点から加速して射出され,そのm/z及びエネルギーが
等しく,方向が僅かに異なるイオンビームが再び一点に
収束する現象。通常,この目的に扇形の一様な磁場が用
いられる。
4063 マイクロ波誘導プラズ microwave induced
高周波電力によって誘導されて発生するマイクロ波誘導
マ質量分析計 plasma mass
プラズマを利用して分析種をイオン化し,生成したイオ
ンを分析する質量分析計。 spectrometer
4064 マスフラグメントグラ mass fragmentography,
特定のm/zのイオンだけを選択イオン検出によって実時
フィー 間で検出記録する手法の総称。 MF
4065 マトリックス(質量分 イオン化を行う目的で試料を保持するための媒体。 matrix (of mass
析の) spectrometry)
4066 MALDI matrix-assisted laser
試料をマトリックスに保持し,レーザーによって試料の
(まるでぃー) desorption/ionization,
イオン化及びマトリックスからの脱離が起こるイオン化
の現象。 MALDI
4067 誘導結合プラズマ質量 inductively coupled
高周波電力を誘導結合させて発生させるプラズマで分析
分析計 plasma mass
種をイオン化し,生成したイオンを分析する質量分析計。
spectrometer
4068 リぺラー電極 repeller electrode
質量分析計においてイオン化室で生成したイオンを,イ
オンの質量分離が行われる部分(アナライザー)へ押し
出すための電極。
――――― [JIS K 0215 pdf 17] ―――――
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番号 用語 定義 対応英語(参考)
4069 リンク走査 linked scan
各走査パラメーターを互いにある一定の関係に保ちなが
ら2台以上の分析部を同時に走査する方法。
4070 レーザー脱離, laser desorption,
固体試料にレーザー光を照射し,気相の試料イオンを得
LD LD
る方法。固体試料を気化させる目的でも用いられる。
4071 レンズ電極 lens electrode
イオン化室で生成したイオンを質量分析計に導入する電
極。
b) 線分析機器
番号 用語 定義 対応英語(参考)
4101 アッテネーター attenuator
X線の計数値を低減するための吸収板。非常に強い回折
線,散乱線の測定に用いる。
4102 アングルマーク ゴニオメーターからの角度の信号の記録。 angle mark,
event mark
4103 アンブレラ効果 umbrella effect
線焦点を用いた入射X線の垂直発散のため,リングの位
置がずれてデバイ環が重なる現象。
4104 一次ターゲット primary target
分析線を効果的に励起できる蛍光X線(固有X線)を発
生させるために用いるターゲット。
4105 一次フィルター primary beam filter
励起X線のスペクトル分布を変えるために,励起X線源
と試料との間に入れるフィルター。
4106 位置敏感形比例計数管 position sensitive
芯線の両端に生じるパルスの時間差によって,X線の入
(X線の) 射位置情報を得ることができる比例計数管。 proportional counter
(of X-ray)
4107 イメージングプレート, 輝尽性蛍光体(BaFBr : Eu2+)の微結晶をフィルムに塗
imaging plate,
IP 布した記録媒体。 IP
4108 エスケープピーク escape peaks
入射X線のエネルギーよりも検出器に固有なエネルギー
分だけ低く現れるピーク。
4109 X線回折装置 X-ray diffractometer
試料にX線を照射して,生じた回折X線の回折角と強度
を測定し,分析を行う装置。
4110 X線回折法, X-ray diffraction,
結晶にX線を照射すると,ブラッグの反射条件又はラウ
XRD XRD
エの回折条件に従って,その結晶に特有の回折パターン
が得られることを用いて,結晶の構造解析を行う方法。
4111 X線管球 X線を発生させるための真空管。熱電子二極管の一種で, X-ray tube
封入式及び開放式がある。
4112 X線吸収端近傍構造, X-ray absorption
X線吸収スペクトルで,吸収端より長波長(低エネルギ
XANES ー部分)側約10 eVから短波長(高エネルギー部分)側near-edge structure,
(ざーねす) 30 eVにわたる領域にみられる微細構造。 XANES
4113 X線発生装置 X-ray generator
X線管球,高電圧発生部などからなるX線を発生させる
ための装置。
4114 X線フィルター X-ray filter
吸収端を利用して必要とするエネルギー領域のX線を取
り出すための薄膜。K 戰 ィルター,バランスドフィルタ
ーなどがある。
4115 エネルギー分散形X線 energy dispersive X-ray
X線エネルギーを直接電気パルスに変換して選別し,分
分析法, 光する方式。 spectroscopy,
EDS EDS
4116 ガイガーミュラー計数 Geiger-Mller counter,
気体を入れた筒の電極間に高電圧を印加し,通過した放
管, GM counter
射線をパルス電流として検知する構造をもつ放射線検出
GM計数管 器。
――――― [JIS K 0215 pdf 18] ―――――
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番号 用語 定義 対応英語(参考)
4117 回転振動試料台 specimen rotation
試料を直交する二軸の周りに回転及び振動させることに
よって,配向に起因する回折X線強度への影響を平均化oscillation attachment
する機器。
4118 ガスデンシティースタ gas density stabilizer
ガス計数管を用いてX線強度を安定に測定するときに,
ビライザー 気圧及び温度の変化に対してガス密度を一定に保つため
の機器。
4119 数え落とし counting loss
高計数率でX線強度を測定する場合,入射X線強度と測
定された計数率との間の比例関係がなくなり,入射X線
強度よりも低く計数される現象。
4120 干渉性散乱, X線が物質に入射したときに散乱されるX線で,入射Xcoherent scattering,
弾性散乱 線と同じ波長をもつ散乱。 elastic scattering
4121 ギニエカメラ Ginier camera
焦点円上にフィルムを置き,回折X線を検出する集中法
X線カメラの一種。
4122 吸収効果(X線分析の) 試料内でX線が吸収されて回折X線強度が減少する現absorption effect (of
象。 X-ray analysis)
4123 極点図 pole figure
試料中のある方向に垂直な面に関して特定結晶面の極の
位置及び密度分布をステレオ投影した図。
4124 クエンチガス quenching gas
ガス計数管を用いるX線の計測において,後続放電を抑
制するために混入する気体。
4125 Kratky U-slit
クラツキーUスリット 小角散乱強度測定の光学系において,低角度側の測定を
可能にするためのスリット。
4126 蛍光X線分析法, X-ray fluorescence
試料にX線を照射して,発生する蛍光X線を測定し,物
XRF 質の定性・定量を行う方法。 spectrometry,
XRF
4127 結晶子
多結晶体中の単結晶微粒子。通常,0.1 下で回折Xcrystallite
線の幅を広げる効果が現れる。
4128 広域X線吸収微細構造,X線吸収スペクトルで吸収端より短波長(高エネルギー) extended X-ray
EXAFS 側約30 eVから1 keVにわたる領域にみられる減衰する absorption fine
(えぐざふす) 波状の振動構造。 structure,
EXAFS
4129 格子定数 lattice constants
結晶の単位格子の大きさ及び形[りょう(稜)の長さ及
びその間の角度]を規定する定数。
4130 ゴニオメーター goniometer
回折若しくは散乱X線の回折又は散乱角度を測定する機
器。
4131 コリメーター collimator
平面分光素子を用いている場合に,必要な平行光束を作
るための機器。
4132 コンプトン散乱 Compton scattering
X線及びγ線のような電磁波が電子に衝突し,電磁波の
エネルギーの一部を電子に与えて波長が変化する散乱現
象。
4133 サムピーク sum peaks
単一光子エネルギーの整数倍のエネルギー位置に現れる
ピーク。
4134 散乱スリット scattering slit
試料以外からの散乱X線の計数管への入射を防止するた
めのスリット。
4135 残留応力 residual stress
多結晶体が外力によって弾性的に変形されて応力を生
じ,外力が除去された後も多結晶体内部に残存する応力。
4136 CCD検出器(X線の) 電荷結合素子(CCD)を使った検出器で,X線を蛍光体 charge coupled device
によって光に変換し,X線強度と位置とを記録する検出 detector (of X-ray)
器。
4137 視射角 試料表面と入射ビームとがなす角。 glancing angle
(ししゃかく)
――――― [JIS K 0215 pdf 19] ―――――
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番号 用語 定義 対応英語(参考)
4138 質量吸収係数 mass absorption
X線の吸収する度合いを表す係数(吸収係数)を物質の
密度で除した量。 coefficient
4139 集合組織 多結晶体における結晶子の集合状態。 texture
4140 受光スリット 検出器に入るX線を制限しているスリット。 receiving slit
4141 小角散乱装置(X線分 small angle scattering
単色X線の散乱のうち,散乱角の小さいもので散乱X線
析の) の強度測定を行う装置。 goniometer (of X-ray
analysis)
4142 シリコン−リチウム半 Si (Li) emiconductor
けい素中にリチウムをドープして作った絶縁層を挟んで
導体検出器 P-I-N接合した素子を用い,入射X線のエネルギーに比 detector
例した電流パルスを出力する検出器。
4143 synthetic multi-layer
人工多層膜(X線の) 分光素子として用いるために,2種以上の材料の薄膜を
累積した素子。 film (of X-ray)
4144 シンチレーション検出 scintillation detector
放射線を受けたシンチレーターからの蛍光を光電子増倍
器 管を用いて計測する検出器。
4145 信頼度因子, reliability factor
結晶構造解析で得られた構造モデルが実測値にどれだけ
R因子 近いかという信頼度の目安にする量。
4146 ステレオ投影 stereographic projection
結晶の方位を表示するために結晶を球の中心に置き,結
晶面法線と球面との交点(これを極という。)を,平面に
投影する方法。
4147 繊維試料台 fiber specimen stage
繊維試料,フィルムなどの配向性を測定するための試料
台。
4148 選択配向 preferred orientation
結晶子の向きが特定の方向に偏り,特定の回折X線だけ
が強く観測される現象。
4149 全反射キャピラリー total reflection capillary
キャピラリーの内壁面でX線を全反射させ,出射端まで
伝ぱ(播)する集光素子。
4150 全反射X線回折法, total reflection X-ray
全反射が起こるような低角度で試料面にX線を照射する
TXRD ことによって,表面からの回折X線だけを検出して,試diffractometry,
料の表面の結晶構造を解析する方法。 TXRD
4151 total reflection X-ray,
全反射蛍光X線分析法 半導体表面,ガラス基板表面などに対してX線を全反射
fluorescence
条件で照射して,試料表面から発生する蛍光X線を分析
する方法。 spectroscopy
4152 全反射現象(X線分析 total reflection (of X-ray
平滑な表面にX線が入射したとき,視射角が一定の値以
の) 下になると入射したX線がほとんど全て反射する現象。analysis)
4153 全反射方式 全反射現象を利用して表面を分析する方式。 total reflection method
4154 全反射ミラー(X線分 全反射を利用し,一定波長以上のX線を反射させる鏡。 total reflection mirror
析の) (of X-ray analysis)
4155 ソーラースリット soller slit
薄い金属板を等間隔に積み重ねて,入射X線及び回折線
の垂直方向の発散を制限するためのスリット。
4156 定計数法 fixed count method
一定の計数値を設定して,計数がその設定値に達するま
で,時間をかけてX線強度を測定する方法。
4157 定時法 fixed time method
一定時間を設定して,その時間内に測定される計数値で
X線強度を測定する方法。
4158 discriminator
ディスクリミネーター 定められたしきい(閾)値を超える波高をもつ入力パル
スが検出された場合に,出力信号を発生するように作ら
れた機能,ユニット。
4159 デバイ-シェラーカメ Debye-Scherrer camera
円筒状に置かれたフィルムの中心軸上に試料を置き,試
ラ 料からの回折X線をフィルムに撮影するカメラ。
4160 点収束カメラ point focusing camera
リフレクターによってX線を一点に集光するようにした
カメラ。小角領域の散乱測定に用いる。
――――― [JIS K 0215 pdf 20] ―――――
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JIS K 0215:2016の国際規格 ICS 分類一覧
- 01 : 総論.用語.標準化.ドキュメンテーション > 01.040 : 用語集 > 01.040.71 : 化学技術(用語集)