JIS R 1751-5:2013 ファインセラミックス―可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第５部：メチルメルカプタンの除去性能

                                                                                 R 1751-5 : 2013

pdf 目 次

ページ

•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 試験装置・・・・[2]
•  5 試験片・・・・[2]
•  6 試験方法・・・・[3]
•  6.1 一般事項・・・・[3]
•  6.2 試験片の前処理・・・・[3]
•  6.3 メチルメルカプタン除去試験・・・・[4]
•  7 試験結果の計算・・・・[4]
•  8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法・・・・[5]
•  9 報告書・・・・[5]

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R 1751-5 : 2013

まえがき

  この規格は,工業標準化法第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本ファインセラミックス協会
(JFCA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を制定すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の
審議を経て,経済産業大臣が制定した日本工業規格(日本産業規格)である。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
  JIS R 1751の規格群には,次に示す部編成がある。
    JIS R 1751-1 第1部 : 窒素酸化物の除去性能
    JIS R 1751-2 第2部 : アセトアルデヒドの除去性能
    JIS R 1751-3 第3部 : トルエンの除去性能
    JIS R 1751-4 第4部 : ホルムアルデヒドの除去性能
    JIS R 1751-5 第5部 : メチルメルカプタンの除去性能
    JIS R 1751-6 第6部 : 小形チャンバーを用いたホルムアルデヒドの除去性能

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                           R 1751-5 : 2013

ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第5部 : メチルメルカプタンの除去性能

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-Test method for air purification performance of photocatalytic materials underindoor lighting environment-Part 5: Removal of methylmercaptan

1 適用範囲

  この規格は,可視光応答形光触媒を建築材料,その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化
性能のうち,室内環境など可視光が照射されている条件での,気体のメチルメルカプタン(CH3SH)の除
去性能を試験する方法について規定する。
  なお,紫外線照射下におけるメチルメルカプタンの除去性能を試験する場合は,JIS R 1701-5を適用す
る。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS K 0055 ガス分析装置校正方法通則
    JIS K 0114 ガスクロマトグラフィー通則
    JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
    JIS R 1701-5 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第5部 : メチルメルカプ
        タンの除去性能
    JIS R 1751-1 ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部 : 窒
        素酸化物の除去性能
    JIS Z 8401 数値の丸め方
    JIS Z 8806 湿度−測定方法

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS R 1600及びJIS R 1751-1によるほか,次による。
3.1
供給濃度
  試験を行うために光照射容器に導入する試験用ガスの濃度。

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R 1751-5 : 2013

4 試験装置

4.1   装置の構成 試験装置は,JIS R 1751-1の4.1(装置の構成)による。低濃度のメチルメルカプタン
を含む空気を扱うことから,吸着などによる損失が最小となるように配慮したものでなければならない。
4.2   試験用ガス供給装置 試験用ガス供給装置は,JIS R 1751-1の4.2(試験用ガス供給装置)による。
高圧容器入りのメチルメルカプタン標準ガスを用いて,所定の濃度・温度・湿度の試験用ガスを調製し,
光照射容器に連続的に供給する。流量制御器,加湿器,ガス混合器などからなる。
4.3   光照射容器 光照射容器は,メチルメルカプタンの吸着が少ない材料で製作し,構造,形状などは
JIS R 1751-1の4.3(光照射容器)による。
4.4   光源 光源は,JIS R 1751-1の4.4(光源)による。
4.5   紫外線カットフィルタ 紫外線カットフィルタは,JIS R 1751-1の4.5(紫外線カットフィルタ)に
よる。屋内照明環境条件は,JIS R 1751-1の4.5(紫外線カットフィルタ)の条件A条件Cによる。
4.6   汚染物質濃度測定装置 メチルメルカプタン濃度の測定には,JIS K 0114に規定するガスクロマト
グラフ測定装置を用いる。装置の校正はJIS K 0055の規定に従い,測定濃度範囲に対応した濃度のゼロガ
ス及び標準ガスを用いて行う。カラムは,メチルメルカプタンが分離できるものであれば,充カラム又
はキャピラリーカラムのいずれのタイプでもよい。メチルメルカプタンの検出には,水素炎イオン化検出
器(FID),又は炎光光度検出器(FPD)を用いる。
  サンプリングループを用いてガスクロマトグラフに試験用ガスを注入する場合,図1のように6方バル
ブを配し,試験用ガスを採取できるようにする。サンプリングループの容量は,濃度測定装置の性能に応
じて決める。ガスは比較的小さい流量の吸引ポンプを図1の7の位置に取り付け,採取する。分析時には
ポンプを止める。サンプリングループを用いない場合は,再現性よくガスが採取できるガスタイトシリン
ジなどを用意する。
      1 試験用ガス入口             4 キャリヤーガス              7 吸引ポンプ
      2 光照射容器                 5 6方バルブ                   8 ガスクロマトグラフ
      3 排出                       6 サンプリングループ          9 検出器
                               図1−ガスのサンプリング方法(例)

5 試験片

  試験片は,平板状又はフィルタ状の光触媒材料で,幅49.0±1.0 mm,長さ99.0±1.0 mmとする。光照射

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                                                                                              3
                                                                                 R 1751-5 : 2013
容器内で補助板などとの間に隙間ができる場合は,試験片を上流側に寄せるとともに,必要に応じてスペ
ーサーなどを用いて調整する。平板状の場合には,光触媒面以外によるガス吸着を抑制するために,試験
片の厚さは5 mm以下とする。しかし,これを超えた厚さの材料でも,同じ試験条件が保たれるなら試験
できる。光照射容器の深さが十分にあれば,厚さが5 mm以上の試験片を用いることも可能であるが,厚
い試験片の場合には,側面による吸着が予想されるので,あらかじめ側面をシールしておく。フィルタ状
の場合には,厚さを20 mm以内にする。

6 試験方法

6.1 一般事項

  メチルメルカプタン除去試験は6.2及び6.3に示す手順で実施し,光照射時の除去量を測定する。この過
程におけるメチルメルカプタン濃度の測定例を,図2に示す。また,メチルメルカプタン除去量が非常に
小さく,正確な測定が困難な場合は,箇条8によって試験条件を変更することができる。
                      図2−試験操作におけるメチルメルカプタン濃度の測定例

6.2 試験片の前処理

  試験片に付着している有機物を完全に除去するため,次の手順で試験片の前処理を実施する。この操作
の直後に試験を開始しない場合には,密閉容器に入れて暗所に保管する。
a) 水洗 試験片を精製水に2時間以上浸せき(漬)した後,取り出して室温で風乾する。
      なお,120 ℃を上限として,物理的・化学的な変化を生じさせない範囲で試験片を加熱乾燥しても
    よいが,恒量になることを確認する。洗液に沈殿物などがあればその状況,乾燥の方法などを記録す
    る。
b) 有機物の除去 紫外線ランプを用いて12時間以上24時間未満の光照射を行う。光触媒面での紫外線
    照度は1020 W/m2の範囲とする。光照射はゼロガス中,又は清浄な密閉容器内で行う。親油性の汚
    れが予想される場合には,b),a)の順で実施してもよい。また,水洗によって試験片の諸性状に悪影
    響が出る場合は,a)を省略してもよい。

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