この規格ページの目次
JIS R 1751-1:2013 規格概要
この規格 R1751-1は、可視光応答形光触媒を建築材料,その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化性能のうち,室内環境など可視光が照射されている条件での,窒素酸化物(NOx,一酸化窒素及び二酸化窒素の合計)の除去性能を試験する方法について規定。
JISR1751-1 規格全文情報
- 規格番号
- JIS R1751-1
- 規格名称
- ファインセラミックス―可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第1部 : 窒素酸化物の除去性能
- 規格名称英語訳
- Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) -- Test method for air purification performance of photocatalytic materials under indoor lighting environment -- Part 1:Removal of nitric oxide
- 制定年月日
- 2013年2月20日
- 最新改正日
- 2017年10月20日
- JIS 閲覧
- ‐
- 対応国際規格
ISO
- 国際規格分類
ICS
- 81.060.30
- 主務大臣
- 経済産業
- JISハンドブック
- ファインセラミックス 2018
- 改訂:履歴
- 2013-02-20 制定日, 2017-10-20 確認
- ページ
- JIS R 1751-1:2013 PDF [12]
R 1751-1 : 2013
pdf 目 次
ページ
- 1 適用範囲・・・・[1]
- 2 引用規格・・・・[1]
- 3 用語及び定義・・・・[1]
- 4 試験装置・・・・[2]
- 5 試験片・・・・[5]
- 6 試験方法・・・・[5]
- 6.1 一般事項・・・・[5]
- 6.2 試験片の前処理・・・・[5]
- 6.3 窒素酸化物除去試験・・・・[6]
- 6.4 溶出試験・・・・[7]
- 7 試験結果の計算・・・・[7]
- 8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法・・・・[9]
- 9 報告書・・・・[9]
(pdf 一覧ページ番号 1)
――――― [JIS R 1751-1 pdf 1] ―――――
R 1751-1 : 2013
まえがき
この規格は,工業標準化法第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本ファインセラミックス協会
(JFCA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を制定すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の
審議を経て,経済産業大臣が制定した日本工業規格(日本産業規格)である。
この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
JIS R 1751の規格群には,次に示す部編成がある。
JIS R 1751-1 第1部 : 窒素酸化物の除去性能
JIS R 1751-2 第2部 : アセトアルデヒドの除去性能
JIS R 1751-3 第3部 : トルエンの除去性能
JIS R 1751-4 第4部 : ホルムアルデヒドの除去性能
JIS R 1751-5 第5部 : メチルメルカプタンの除去性能
JIS R 1751-6 第6部 : 小形チャンバーを用いたホルムアルデヒドの除去性能
(pdf 一覧ページ番号 2)
――――― [JIS R 1751-1 pdf 2] ―――――
日本工業規格(日本産業規格) JIS
R 1751-1 : 2013
ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部 : 窒素酸化物の除去性能
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-Test method for air purification performance of photocatalytic materials underindoor lighting environment-Part 1: Removal of nitric oxide
1 適用範囲
この規格は,可視光応答形光触媒を建築材料,その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化
性能のうち,室内環境など可視光が照射されている条件での,窒素酸化物(NOx,一酸化窒素及び二酸化
窒素の合計)の除去性能を試験する方法について規定する。
なお,紫外線照射下における窒素酸化物の除去性能を試験する場合は,JIS R 1701-1を適用する。
2 引用規格
次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
JIS B 7953 大気中の窒素酸化物自動計測器
JIS C 1609-1 照度計 第1部 : 一般計量器
JIS K 0055 ガス分析装置校正方法通則
JIS K 0101 工業用水試験方法
JIS K 0127 イオンクロマトグラフィー通則
JIS K 0557 用水・排水の試験に用いる水
JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
JIS R 1701-1 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部 : 窒素酸化物の除
去性能
JIS R 1750 ファインセラミックス−屋内照明環境で用いる光触媒試験用光源
JIS Z 8401 数値の丸め方
JIS Z 8806 湿度−測定方法
3 用語及び定義
この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS R 1600によるほか,次による。
3.1
光触媒
――――― [JIS R 1751-1 pdf 3] ―――――
2
R 1751-1 : 2013
光照射下で,酸化・還元作用によって,空気浄化・脱臭,水質浄化,抗菌,抗かび,抗ウイルス,セル
フクリーニングなどの諸機能を発現する物質。機能性ファインセラミックスの一種。
3.2
可視光
波長が380 nm以上780 nm未満の範囲の光。
3.3
可視光応答形光触媒
3.1の光触媒のうち,可視光だけの照射下においても諸機能を発現する物質。
3.4
光触媒材料
光触媒の諸機能を利用するため,塗布,含浸,練り込み又は種々の製膜方法によって光触媒を建築材料
及びその他の材料の表面に担持させたもの。
3.5
ゼロガス
汚染物質を含まない空気(主要な汚染物質の濃度が0.01体積分率ppm以下である空気)。高圧容器入り
の合成空気を用いるか,又は空気精製装置を用いて室内空気から調製する。
3.6
標準ガス
濃度が既知のガス,又はJIS K 0055の規定に基づき調製された校正用のガス。光触媒材料の性能試験に
用いる。
3.7
試験用ガス
標準ガスとゼロガスとを混合して調製した濃度既知の汚染物質を含む空気。
3.8
精製水
イオン交換法によって精製された,JIS K 0557に規定するA1以上の水。
4 試験装置
4.1 装置の構成 試験装置は,光触媒材料の試験片に機能発現に必要な可視光を照射しながら,試験用
ガスを連続的に供給し,試験片による窒素酸化物除去能力を試験するもので,次に示す試験用ガス供給装
置,光照射容器,光源,紫外線カットフィルタ及び汚染物質測定装置で構成する。
試験装置は,低濃度の窒素酸化物を含む空気を扱うことから,吸着などによる損失が最小となるように
配慮したものでなければならない。試験装置の構成例を,図1に示す。
――――― [JIS R 1751-1 pdf 4] ―――――
3
R 1751-1 : 2013
1 試験用ガス供給装置 5 減圧弁 9 4方バルブ 13 光源
2 コンプレッサー 6 流量制御器 10 光照射容器 14 紫外線カットフィルタ
3 空気精製装置 7 加湿器 11 試験片 15 汚染物質濃度測定装置
4 標準ガス 8 ガス混合器 12 窓板 16 排出
図1−試験装置の構成例
4.2 試験用ガス供給装置 高圧容器入りの窒素酸化物標準ガスを用いて,所定の濃度・温度・湿度の試
験用ガスを調製し,光照射容器に連続的に供給する。流量制御器,加湿器,ガス混合器などからなる。
4.3 光照射容器 光照射容器の断面図を図2に示す。a)は試験片が平板状の場合に,b)は試験片がフィル
タ状の場合に用いる。いずれも,試験片を水平に保持し,これと平行に厚さ5.0±0.5 mmの空間を隔てて
光透過窓板を設けた構造のものとする。測定対象物質の吸着が少なく,近紫外線の照射に耐えることがで
きる材料で製作する。試験用ガスは,a)では試験片と窓板との間の空間だけを通過し,b)では最初に試験
片と窓板との間を通過して,後はフィルタの下部から出口に至る空間を通過する。フィルタ状試験片をこ
のように保持するために,専用のアダプタを用いる。窓板は,光照射を行う波長領域で光吸収の小さい石
英ガラス又はほうけい(硼珪)酸ガラス板とする。
ガスの流れを乱すとともに試験片上での流速分布を均一にするために,図2のように,ガス出入口は容器
内でのガス流に対して垂直になるようにすることが望ましい。そうでない場合には,出入口部に邪魔板を
設置するなどの工夫をする。ガス流路部分の長さは試験片の長さより十分長くとり,入口部分における気
流の乱れの直接の影響を避けるために,試験片の前にガス流路部分を100 mm以上確保する。試験片の厚
さに応じて,高さ調整板を用いてガス流路部分の空気層厚みを調整する。また,試験片の前後のガス流路
部分には,試験片との段差が1 mm以下となるよう,必要に応じて補助板を置く。補助板,高さ調整板等,
光照射容器内で用いる材料については光照射容器の材質規定に準ずる。
――――― [JIS R 1751-1 pdf 5] ―――――
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JIS R 1751-1:2013の国際規格 ICS 分類一覧
- 81 : ガラス及びセラミック工業 > 81.060 : セラミックス > 81.060.30 : ニューセラミックス
JIS R 1751-1:2013の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISB7953:2004
- 大気中の窒素酸化物自動計測器
- JISC1609-1:2006
- 照度計 第1部:一般計量器
- JISK0055:2002
- ガス分析装置校正方法通則
- JISK0101:1998
- 工業用水試験方法
- JISK0127:2013
- イオンクロマトグラフィー通則
- JISK0557:1998
- 用水・排水の試験に用いる水
- JISR1600:2011
- ファインセラミックス関連用語
- JISR1701-1:2016
- ファインセラミックス―光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第1部:窒素酸化物の除去性能
- JISR1750:2012
- ファインセラミックス―屋内照明環境で用いる光触媒試験用光源
- JISZ8401:2019
- 数値の丸め方
- JISZ8806:2001
- 湿度―測定方法