JIS R 1751-2:2013 ファインセラミックス―可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第２部：アセトアルデヒドの除去性能

                                                                                 R 1751-2 : 2013

pdf 目 次

ページ

•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 試験装置・・・・[2]
•  5 試験片・・・・[3]
•  6 試験方法・・・・[3]
•  6.1 一般事項・・・・[3]
•  6.2 試験片の前処理・・・・[4]
•  6.3 測定準備・・・・[4]
•  6.4 予備試験・・・・[4]
•  6.5 アセトアルデヒド除去試験・・・・[5]
•  6.6 アセトアルデヒド除去試験(二酸化炭素濃度が測定できない場合)・・・・[6]
•  7 試験結果の計算・・・・[6]
•  7.1 除去率及び除去量の計算・・・・[6]
•  7.2 二酸化炭素転化率及び転化量の計算・・・・[7]
•  8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法・・・・[7]
•  9 報告書・・・・[8]

(pdf 一覧ページ番号 1)

――――― [JIS R 1751-2 pdf 1] ―――――

R 1751-2 : 2013

まえがき

  この規格は,工業標準化法第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本ファインセラミックス協会
(JFCA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を制定すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の
審議を経て,経済産業大臣が制定した日本工業規格(日本産業規格)である。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
  JIS R 1751の規格群には,次に示す部編成がある。
    JIS R 1751-1 第1部 : 窒素酸化物の除去性能
    JIS R 1751-2 第2部 : アセトアルデヒドの除去性能
    JIS R 1751-3 第3部 : トルエンの除去性能
    JIS R 1751-4 第4部 : ホルムアルデヒドの除去性能
    JIS R 1751-5 第5部 : メチルメルカプタンの除去性能
    JIS R 1751-6 第6部 : 小形チャンバーを用いたホルムアルデヒドの除去性能

(pdf 一覧ページ番号 2)

――――― [JIS R 1751-2 pdf 2] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                           R 1751-2 : 2013

ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第2部 : アセトアルデヒドの除去性能

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-Test method for air purification performance of photocatalytic materials underindoor lighting environment-Part 2: Removal of acetaldehyde

1 適用範囲

  この規格は,可視光応答形光触媒を建築材料,その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化
性能のうち,室内環境など可視光が照射されている条件での,気体のアセトアルデヒド(CH3CHO)の除
去性能を試験する方法について規定する。
  なお,紫外線照射下におけるアセトアルデヒドの除去性能を試験する場合は,JIS R 1701-2を適用する。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS A 1962 室内空気中のホルムアルデヒド及び他のカルボニル化合物の定量−ポンプサンプリング
    JIS K 0055 ガス分析装置校正方法通則
    JIS K 0114 ガスクロマトグラフィー通則
    JIS K 0151 赤外線ガス分析計
    JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
    JIS R 1701-2 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第2部 : アセトアルデヒ
        ドの除去性能
    JIS R 1751-1 ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部 : 窒
        素酸化物の除去性能
    JIS Z 8401 数値の丸め方
    JIS Z 8806 湿度−測定方法

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS R 1600及びJIS R 1751-1によるほか,次による。
3.1
供給濃度
  試験を行うために光照射容器に導入する試験用ガスの濃度。

――――― [JIS R 1751-2 pdf 3] ―――――

2
R 1751-2 : 2013

4 試験装置

4.1   装置の構成 試験装置は,JIS R 1751-1の4.1(装置の構成)による。低濃度のアセトアルデヒドを
含む空気を扱うことから,吸着などによる損失が最小になるように配慮したものでなくてはならない。
4.2   試験用ガス供給装置 試験用ガス供給装置は,JIS R 1751-1の4.2(試験用ガス供給装置)による。
高圧容器入りのアセトアルデヒド標準ガスを用いて,所定の濃度・温度・湿度の試験用ガスを調製し,光
照射容器に連続的に供給する。流量制御器,加湿器,ガス混合器などからなる。
4.3   光照射容器 光照射容器は,アセトアルデヒドガスの吸着が少ない材料で製作し,構造,形状など
はJIS R 1751-1の4.3(光照射容器)による。
4.4   光源 光源は,JIS R 1751-1の4.4(光源)による。
4.5   紫外線カットフィルタ 紫外線カットフィルタは,JIS R 1751-1の4.5(紫外線カットフィルタ)に
よる。屋内照明環境条件は,JIS R 1751-1の4.5(紫外線カットフィルタ)の条件A条件Cによる。
4.6   汚染物質濃度測定装置 アセトアルデヒド濃度の測定は,ガスクロマトグラフ分析法,又はDNPH
誘導体化固相吸着・溶媒抽出−高速液体クロマトグラフ法(DNPH-HPLC法)による。
  ガスクロマトグラフ分析法による場合は,JIS K 0114に規定する装置を用いる。カラムは,炭化水素が
分離できるものであれば充カラム及びキャピラリーカラムのいずれのタイプでもよい。
  なお,アセトアルデヒドの検出は水素炎イオン検出器(FID)で行うこととする。サンプリングループ
を用いてガスクロマトグラフにガスを注入する場合,図1のように6方バルブを配し,試験用ガスを採取
できるようにする。サンプリングループの容量は,濃度測定装置の性能に応じて決める。ガスは比較的小
さい流量の吸引ポンプを図1の位置に取り付け,採取する。分析時にはポンプを止める。サンプリングル
ープではなくマイクロシリンジを用いる場合は,再現性よくガスが採取できるもの(例えばガスタイトシ
リンジ)を用意する。
  DNPH-HPLC法による場合は,JIS A 1962に規定する試薬,器具及び装置を用いる。
4.7   二酸化炭素濃度測定装置 JIS K 0151に規定する非分散型赤外線二酸化炭素分析計,又はメタン化
反応装置付ガスクロマトグラフを用いる。装置の校正はJIS K 0055の規定に従う。ガスクロマトグラフを
用いる場合のガスのサンプリング方法は,4.6による。

――――― [JIS R 1751-2 pdf 4] ―――――

                                                                                              3
                                                                                 R 1751-2 : 2013
          1  試験用ガス入口         4  キャリヤーガス         7  吸引ポンプ
          2  光照射容器             5  6方バルブ              8  ガスクロマトグラフ
          3  排出                   6  サンプリングループ     9  検出器
                               図1−ガスのサンプリング方法(例)

5 試験片

  試験片は,平板状又はフィルタ状の光触媒材料で,幅49.0±1.0 mm,長さ99.0±1.0 mmとする。光照射
容器内で補助板などとの間に隙間ができる場合は,試験片を上流側に寄せるとともに,必要に応じてスペ
ーサーなどを用いて調整する。平板状の場合には,光触媒面以外によるガス吸着を抑制するために,試験
片の厚さは5 mm以下とする。しかし,これを超えた厚さの材料でも,同じ試験条件が保たれるなら試験
できる。光照射容器の深さが十分にあれば,厚さが5 mm以上の試験片を用いることも可能であるが,厚
い試験片の場合には,側面による吸着が予想されるので,あらかじめ側面をシールしておく。フィルタ状
の場合には,厚さを20 mm以内にする。

6 試験方法

6.1 一般事項

  アセトアルデヒド除去試験は6.26.5に示す手順で実施し,光照射時の除去量及び二酸化炭素転化量を
調べる。この過程におけるアセトアルデヒド及び二酸化炭素濃度の測定例を図2に示す。試験片によって
は二酸化炭素濃度が測定できない場合がある。この場合には6.5の代わりに6.6を行う。また,アセトア
ルデヒド除去量が非常に小さく,正確な測定が困難な場合は箇条8によって,試験条件を変更することが
できる。

――――― [JIS R 1751-2 pdf 5] ―――――

次のページ PDF 6