この規格ページの目次
JIS R 1751-3:2013 規格概要
この規格 R1751-3は、可視光応答形光触媒を建築材料,その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化性能のうち,室内環境など可視光が照射されている条件での,気体のトルエン(C7H8)の除去性能を試験する方法について規定。
JISR1751-3 規格全文情報
- 規格番号
- JIS R1751-3
- 規格名称
- ファインセラミックス―可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第3部 : トルエンの除去性能
- 規格名称英語訳
- Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) -- Test method for air purification performance of photocatalytic materials under indoor lighting environment -- Part 3:Removal of toluene
- 制定年月日
- 2013年2月20日
- 最新改正日
- 2017年10月20日
- JIS 閲覧
- ‐
- 対応国際規格
ISO
- 国際規格分類
ICS
- 81.060.30
- 主務大臣
- 経済産業
- JISハンドブック
- ファインセラミックス 2018
- 改訂:履歴
- 2013-02-20 制定日, 2017-10-20 確認
- ページ
- JIS R 1751-3:2013 PDF [8]
R 1751-3 : 2013
pdf 目 次
ページ
- 1 適用範囲・・・・[1]
- 2 引用規格・・・・[1]
- 3 用語及び定義・・・・[1]
- 4 試験装置・・・・[2]
- 5 試験片・・・・[2]
- 6 試験方法・・・・[3]
- 6.1 一般事項・・・・[3]
- 6.2 試験片の前処理・・・・[3]
- 6.3 トルエン除去試験・・・・[3]
- 7 試験結果の計算・・・・[4]
- 8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法・・・・[5]
- 9 報告書・・・・[5]
(pdf 一覧ページ番号 1)
――――― [JIS R 1751-3 pdf 1] ―――――
R 1751-3 : 2013
まえがき
この規格は,工業標準化法第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本ファインセラミックス協会
(JFCA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を制定すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の
審議を経て,経済産業大臣が制定した日本工業規格(日本産業規格)である。
この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
JIS R 1751の規格群には,次に示す部編成がある。
JIS R 1751-1 第1部 : 窒素酸化物の除去性能
JIS R 1751-2 第2部 : アセトアルデヒドの除去性能
JIS R 1751-3 第3部 : トルエンの除去性能
JIS R 1751-4 第4部 : ホルムアルデヒドの除去性能
JIS R 1751-5 第5部 : メチルメルカプタンの除去性能
JIS R 1751-6 第6部 : 小形チャンバーを用いたホルムアルデヒドの除去性能
(pdf 一覧ページ番号 2)
――――― [JIS R 1751-3 pdf 2] ―――――
日本工業規格(日本産業規格) JIS
R 1751-3 : 2013
ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第3部 : トルエンの除去性能
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-Test method for air purification performance of photocatalytic materials underindoor lighting environment-Part 3: Removal of toluene
1 適用範囲
この規格は,可視光応答形光触媒を建築材料,その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化
性能のうち,室内環境など可視光が照射されている条件での,気体のトルエン(C7H8)の除去性能を試験
する方法について規定する。
なお,紫外線照射下におけるトルエンの除去性能を試験する場合は,JIS R 1701-3を適用する。
2 引用規格
次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
JIS K 0055 ガス分析装置校正方法通則
JIS K 0114 ガスクロマトグラフィー通則
JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
JIS R 1701-3 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第3部 : トルエンの除去
性能
JIS R 1751-1 ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部 : 窒
素酸化物の除去性能
JIS Z 8401 数値の丸め方
JIS Z 8806 湿度−測定方法
3 用語及び定義
この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS R 1600及びJIS R 1751-1によるほか,次による。
3.1
供給濃度
試験を行うために光照射容器に導入する試験用ガスの濃度。
――――― [JIS R 1751-3 pdf 3] ―――――
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R 1751-3 : 2013
4 試験装置
4.1 装置の構成 試験装置は,JIS R 1751-1の4.1(装置の構成)による。低濃度のトルエンを含む空気
を扱うことから,吸着などによる損失が最小となるように配慮したものでなければならない。
4.2 試験用ガス供給装置 試験用ガス供給装置は,JIS R 1751-1の4.2(試験用ガス供給装置)による。
高圧容器入りのトルエン標準ガスを用いて,所定の濃度・温度・湿度の試験用ガスを調製し,光照射容器
に連続的に供給する。流量制御器,加湿器,ガス混合器などからなる。
4.3 光照射容器 光照射容器は,トルエンの吸着が少ない材料で製作し,構造,形状などはJIS R 1751-1
の4.3(光照射容器)による。
4.4 光源 光源は,JIS R 1751-1の4.4(光源)による。
4.5 紫外線カットフィルタ 紫外線カットフィルタは,JIS R 1751-1の4.5(紫外線カットフィルタ)に
よる。屋内照明環境条件は,JIS R 1751-1の4.5(紫外線カットフィルタ)の条件A条件Cによる。
4.6 汚染物質濃度測定装置 トルエンの測定にはJIS K 0114に規定するガスクロマトグラフ測定装置を
用いる。装置の校正はJIS K 0055に従い,測定濃度範囲に対応した濃度のゼロガス及び標準ガスを用いて
行う。カラムは,炭化水素が分離できるものであれば,充カラム及びキャピラリーカラムのいずれのタ
イプでもよい。トルエンの検出には,水素炎イオン化検出器(FID)を用いる。
サンプリングループを用いてガスクロマトグラフに試験用ガスを注入する場合,図1のように6方バル
ブを配し,試験用ガスを採取できるようにする。サンプリングループの容量は,濃度測定装置の性能に応
じて決める。ガスは比較的小さい流量の吸引ポンプを図1の位置に取り付け,採取する。分析時にはポン
プを止める。サンプリングループを用いない場合は,再現性よくガスを採取できるガスタイトシリンジな
どを用意する。
1 試験用ガス入口 4 キャリヤーガス 7 吸引ポンプ
2 光照射容器 5 6方バルブ 8 ガスクロマトグラフ
3 排出 6 サンプリングループ 9 検出器
図1−ガスのサンプリング方法(例)
5 試験片
試験片は,平板状又はフィルタ状の光触媒材料で,幅49.0±1.0 mm,長さ99.0±1.0 mmとする。光照射
――――― [JIS R 1751-3 pdf 4] ―――――
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R 1751-3 : 2013
容器内で補助板などとの間に隙間ができる場合は,試験片を上流側に寄せるとともに,必要に応じてスペ
ーサーなどを用いて調整する。 平板状の場合には,光触媒面以外によるガス吸着を抑制するために,試験
片の厚さは5 mm以下とする。しかし,これを超えた厚さの材料でも,同じ試験条件が保たれるなら試験
できる。光照射容器の深さが十分にあれば,厚さが5 mm以上の試験片を用いることも可能であるが,厚
い試験片の場合には,側面による吸着が予想されるので,あらかじめ側面をシールしておく。フィルタ状
の場合には,厚さを20 mm以内にする。
6 試験方法
6.1 一般事項
トルエン除去試験は6.26.3に示す手順で実施し,光照射時の除去量を調べる。この過程におけるトル
エン濃度の測定例を,図2に示す。また,トルエン除去量が非常に小さく,正確な測定が困難な場合は,
箇条8によって試験条件を変更することができる。
6.2 試験片の前処理
試験片に付着又は吸着している有機物を完全に除去するため,紫外線ランプを用いて12時間以上24時
間未満の光照射を行う。光触媒面での紫外線照度は1020 W/m2とする。光照射はゼロガス中,又は清浄
な密閉容器内で行う。この操作の直後に試験を開始しない場合には,密閉容器に入れて暗所で保管する。
試験片の製造・輸送過程などにおいて水溶性の物質に汚染される可能性がある場合は,紫外線の光照射
の前に,試験片を水洗してもよい。ただし,水洗によって試験片の諸性状が変化しない場合に限る。また,
前処理の方法を報告書に追加する。
6.3 トルエン除去試験
トルエン除去試験は,次の手順で実施し,暗条件での吸着量及び光照射下での除去量を調べる。
a) トルエン濃度1.0±0.05 体積分率ppm,水蒸気濃度1.56±0.16 体積分率%,温度25.0±2.5 ℃の試験
用ガスが安定して発生できるように試験用ガス供給装置をあらかじめ調整しておく。光照射容器入口
で流量が0.500±0.025 L/min(0 ℃,101.3 kPaの標準状態において)となるように流量制御器を設定
する。このときの水蒸気濃度は25 ℃における相対湿度50±5 %に相当する。湿度の測定はJIS Z 8806
によって行う。また,試験片上表面における光源からの照度を測定し,記録する。
b) 光照射容器内のガス流路部分の中央に試験片を設置し,窓板までの空間の厚さを5.0±0.5 mmに調整
するとともに,試験片と前後のガス流路との段差が1 mm以内となるよう,必要に応じて補助板を置
く。その後,窓板を取り付け,密閉されていることを確認する。
c) 光源と光照射容器の間に紫外線カットフィルタを設置する。紫外線カットフィルタを通過しない光が
試験片に照射されないように位置を決める。
d) 光照射容器内に試験用ガスを導入する。光照射を行わない吸着過程を30分間継続し,暗条件でのトル
エンの濃度変化を記録する。ただし,出口におけるトルエン濃度が30分以内に供給濃度に一致したこ
とを確認できる場合には,その時点で光照射を開始してもよい。30分後もトルエン濃度が供給濃度の
90 %を下回る場合には,トルエン濃度の測定値が3点連続して90 %を超えて安定となるまで継続する。
暗条件での最後の3点の測定値の平均を,暗条件のトルエン濃度とする。90分間経過してもトルエン
濃度が供給濃度の90 %を超えない場合には,この試験方法を適用することができないため,ガスの供
給を停止して試験を中止する。
e) 光源を点灯し(安定な点灯に時間を要する光源については,あらかじめシャッタを閉じて点灯してお
き,安定した後シャッタを開く。),光照射下での試験容器出口におけるトルエン濃度を3時間記録す
――――― [JIS R 1751-3 pdf 5] ―――――
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JIS R 1751-3:2013の国際規格 ICS 分類一覧
- 81 : ガラス及びセラミック工業 > 81.060 : セラミックス > 81.060.30 : ニューセラミックス
JIS R 1751-3:2013の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISK0055:2002
- ガス分析装置校正方法通則
- JISK0114:2012
- ガスクロマトグラフィー通則
- JISR1600:2011
- ファインセラミックス関連用語
- JISR1701-3:2016
- ファインセラミックス―光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第3部:トルエンの除去性能
- JISR1751-1:2013
- ファインセラミックス―可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第1部:窒素酸化物の除去性能
- JISZ8401:2019
- 数値の丸め方
- JISZ8806:2001
- 湿度―測定方法