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R 1751-1 : 2013
g) 水洗による再生効率 6.4において測定される再生効率は,式(7)によって算出する。
w Qw1 Qw2 100
/ QNO x (7)
ここに, ηw : 水洗による再生効率(%)
Qw1 : 試験片からの窒素化合物溶出量(1回目)(μmol)
Qw2 : 試験片からの窒素化合物溶出量(2回目)(μmol)
NO x試験片による窒素酸化物除去量(μmol)
Q :
8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法
平板状の試験片の測定において,式(5)の除去量が2.00 mol未満で正確に測定できないことが予想され
る場合は,試験片の枚数及び試験用ガス流量の両方を同時に表1のとおり変更して測定することができる。
この場合,試験片の前にガス流路部分を100 mm以上確保する。
なお,試験条件を変更した場合,報告書に記載する窒素酸化物除去量,二酸化窒素生成量及び窒素酸化
物吸着量・脱着量は,式(1)式(5)から求められる値の1/2とする。ただし,除去量が0.25 mol未満の場
合は,除去量0.25 mol未満と表示する。
表1−試験条件の変更
変更できる試験条件 変更後の値
試験用ガス流量 1.5±0.075 L/min
試験片の枚数 2枚
9 報告書
試験報告書には,通常,次の内容を記載する。
a) 一般事項
− この規格の番号
− 試験年月日
b) 試験機関
− 試験機関の名称及び所在地
− 試験責任者名
− 気温・湿度
c) 試験片に関する情報
− 試験片の種類,製造番号,バッチ番号など
− 材質,形状及び寸法
− 試験片の選択プロセス(抜取り方法など)
− 試験機関到着日,包装から取り出した日時及び試験片を準備した日時
d) 結果
− 試験片による窒素酸化物除去量,二酸化窒素生成量,窒素酸化物吸着量・脱着量
− 水洗による再生効率(又は,除去能力回復確認の方法及びその結果)
e) 試験条件
− 汚染物質ガスの供給濃度・流量,水蒸気濃度
− 箇条8適用の有無(試験用ガス流量及び試験片枚数の変更)
− 光照射条件(光源の種類,選択した屋内照明環境条件,紫外線カットフィルタの種類及び照度)
――――― [JIS R 1751-1 pdf 11] ―――――
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R 1751-1 : 2013
− 前処理条件(水洗及び乾燥の条件,紫外線照度・照射時間)
f) 試験装置
− 試験装置の形式及び仕様
− 窒素酸化物測定装置,イオンクロマトグラフ,照度計,紫外線放射照度計などの種類
g) その他
− 試験状況及び試験後の試験片に関しての特記事項
JIS R 1751-1:2013の国際規格 ICS 分類一覧
- 81 : ガラス及びセラミック工業 > 81.060 : セラミックス > 81.060.30 : ニューセラミックス
JIS R 1751-1:2013の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISB7953:2004
- 大気中の窒素酸化物自動計測器
- JISC1609-1:2006
- 照度計 第1部:一般計量器
- JISK0055:2002
- ガス分析装置校正方法通則
- JISK0101:1998
- 工業用水試験方法
- JISK0127:2013
- イオンクロマトグラフィー通則
- JISK0557:1998
- 用水・排水の試験に用いる水
- JISR1600:2011
- ファインセラミックス関連用語
- JISR1701-1:2016
- ファインセラミックス―光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第1部:窒素酸化物の除去性能
- JISR1750:2012
- ファインセラミックス―屋内照明環境で用いる光触媒試験用光源
- JISZ8401:2019
- 数値の丸め方
- JISZ8806:2001
- 湿度―測定方法