JIS Z 4721:2000 医用Ｘ線イメージインテンシファイア

Z 4721 : 2000

まえがき

  この規格は,工業標準化法第12条第1項の規定に基づき,社団法人日本画像医療システム工業会 (JIRA)
/財団法人日本規格協会 (JSA) から工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を制定すべきとの申し出があり,
日本工業標準調査会の審議を経て,通商産業大臣及び厚生大臣が制定した日本工業規格(日本産業規格)である。

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                             Z 4721 : 2000

医用X線イメージインテンシファイア

Medical X-ray image intensifiers

序文 この規格は,1.適用範囲の備考に示す対応国際規格を元に技術的内容を変更することなく作成した
日本工業規格(日本産業規格)であるが,対応国際規格には規定されていない種類及び解像度の項目を追加している。
1. 適用範囲 この規格は,JIS Z 4701に規定する医用X線装置の映像装置として使用するX線イメージ
インテンシファイアの特性及びその測定方法について規定する。ここに規定する以外の事項については,
JIS Z 4701の規定を適用する。
    備考 この規格の対応国際規格を,次に示す。
          IEC 61262-1 : 1994 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 1 :
              Determination of the entrance field size
          IEC 61262-2 : 1994 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 2 :
              Determination of the conversion factor
          IEC 61262-3 : 1994 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 3 :
              Determination of the luminance distribution and luminance non-uniformity
          IEC 61262-4 : 1994 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 4 :
              Determination of the image distortion
          IEC 61262-5 : 1994 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 5 :
              Determination of the detective quantum efficiency
          IEC 61262-6 : 1994 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 6 :
              Determination of the contrast ratio and veiling glare index
          IEC 61262-7 : 1995 Characteristics of electro-optical X-ray image intensifiers−Part 7 :
              Determination of the modulation transfer function
2. 引用規格 次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の1部を構成す
る。これらの引用規格は,その最新版を適用する。
    JIS C 7614  照明の場における輝度測定方法
    JIS H 4000   アルミニウム及びアルミニウム合金の板及び条
    JIS T 0601-1 医用電気機器 第1部 : 安全に関する一般的要求事項
    JIS Z 4005 医用放射線用語
    JIS Z 4701  医用X線装置通則
    JIS Z 4916   X線用解像力テストチャート

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Z 4721 : 2000
3. 定義 この規格で用いる主な用語の定義は,JIS Z 4005及びJIS Z 4701によるほか,次による。
a)   線イメージインテンシファイア X線パターンを増幅するために,エネルギーを更に加えることに
    よって,対応する光学像に変換する器具(I. I. 又はXRIIと略し,ここではI. I. という。)。
    備考1. この規格では,電子光学式真空管を組み込んだX線イメージインテンシファイアをいう。
         2. この規格を適用するI. I. は,X線イメージインテンシファイア管,管容器及び/又はこれら
            の電源部について構成する。
b)   線イメージインテンシファイア管 フォトカソードに光学的に接した入力面をもつ電子光学式真空
    管。
      この中で電子パターンが形成され,信号増倍のためのエネルギーを加えた後,出力面で光学像に変
    換される(以下,I. I. 管という。)。
c) 可変視野形X線イメージインテンシファイア 線源,入射面位置及び入力面位置を一定にしたまま,
    I. I. 管の電子光学的手段によって二つ以上の入射面視野寸法を得ることができるI. I. (以下,可変視
    野形I. I. という。)。
d)   線イメージインテンシファイア管用管容器 I. I. 管を収容する容器(以下,管容器という。)。
      管容器は,防電撃形とし,5.2に規定するX線遮へいを施す。
e)   . I. 管用電源部 I. I. 管の各電極へ電圧を供給する回路,及びI. I. 管に組み込む真空ポンプを動作さ
    せる回路など(以下,電源部という。)。
f)  光学系 I. I. の出力像を伝送する装置。
g) 入射面 I. I. の中心軸に垂直であり,放射線源の方向に最も突き出している部分に接する面(図2参
    照)。
h) 線源入射面間距離 X線管の焦点とI. I. の入射面間の距離(以下,SEDと略)。
    備考 SEDは,SOURCE TO ENTRANCE PLANE DISTANCEの略。
i)  入射面視野寸法 規定の条件下で,X線パターンを写すことができる入射面の直径(7.2参照)。
j)  有効入射面視野寸法 指定されたSEDにおけるI. I. の入射面で測定される入射面視野寸法。
k) 入射面有効面積 入射面上でI. I. の中心軸の周りで有効入射面視野寸法を直径とする円の面積。
l)  公称入射面視野寸法 平行な電離放射ビームを用いたとき得られる入射面視野寸法。
m) 入力面 受像面を形成する層。
n) 入力面寸法 X線パターンを蛍光像に変換するために使用する入力面の有効直径。
o) 出力面 電子パターンが光学像に変換される層。
p) 出力像 出力面に描出される光学像。
q) 出力像寸法 入力面上の像が出力面上に結像されるとき,入力面寸法に対応する出力面上の寸法。
r) 入射野 I. I. に対して指定された条件のもとでX線パターンの伝達に使用される入射面内の領域。
s)  出力像の中心 出力像を囲っている最も小さい円の中心。
t)  入射野の中心 出力像の中心で像を形成している入射面内の点。
u) 中心軸 入射野の中心を通る入射面に垂直な線。
v) 中心拡大率 I. I. の特性として中心軸について対称な入射面上に置かれた小物体の実際の長さに対す
    る出力像におけるその長さの比。
w) 変換係数 入射野の中心での空気カーマ率に対する出力像の中心での輝度の比。
x) 輝度分布 規定の条件下で,出力像の全域にわたる輝度の空間的変化(7.4参照)。
y) 輝度不均一度 規定された条件の下での出力像の中心と周辺近くの輝度の違い。出力像の中心輝度の

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                                                                                   Z 4721 : 2000
    パーセントで表現する。
z) 蛍光像 蛍光面上の発光によって形成される像。
aa) 電子パターン 入力面及び出力面に像形成させる電子の密度の差。
ab) 陽極電圧 I. I. 管の陽極に加える電圧。通常,陽極と大地間の電位差。
ac) 集束電極電圧 I. I. 管の集束電極に加える電圧。通常,集束電極と大地間の電位差。
ad) 拡大率 入力面寸法に対する出力像寸法の比(図3参照)。
            入力面寸法をd1,出力像寸法をd0とすると拡大率Mは,次の式で定義する。
                             d0
                         M
                             d1
ae) 入力面位置 入力面の円形有効範囲の外周を含む平面と入射面との距離。
af) 像ひずみ I. I. の入射面上の実長とその出力面上の影像長さとの比の空間的変化。ag)とaj)との2種
    類がある。
ag) 微分像ひずみ I. I. の入射面位置に近い平面上に任意に置いた試験器具についての像ひずみ。
ah) 径方向微分像ひずみ 入射面の任意の位置に径方向に置かれた単位長さの試験器具の像ひずみ。通常,
    入射面内に置かれた試験器具の位置の関数である。
ai) 径方向局所的拡大率 入射面に置かれた小さな試験器具の径方向の実際の長さに対する出力像内の長
    さの比。通常,入射面内に置かれた試験器具の位置の関数である。
    備考 軸から離れた位置での径方向局所的拡大率は,一般に接線方向の局所的拡大率と等しくない。
          径方向局所的拡大率は,径方向微分像ひずみを決定する際に使用される。
aj) 積分像ひずみ I. I. の入射面位置に近い平面上の中心軸に対称に置いた種々の長さの試験器具につい
    ての像ひずみ。
ak) 積分拡大率 入射面内で,中心軸上に置かれた円形試験器具の,実際の直径に対する出力像内の直径
    の比。
al) 公称像寸法 入射面内に置かれた小物体の長さと中心拡大率との積。
am) コントラスト比 規定の条件下で,I. I. の入射面の中央部に鉛円板があるときの出力像の中心輝度に
    対する,I. I. の入射面に鉛円板がないときの出力像の中心輝度の比。通常は,10%面積コントラスト
    比をいう。
an) 10%面積コントラスト比 コントラスト比を測定する際に,試験器具として入射面有効面積10%に相
    当する鉛円板を用いたときのコントラスト比。
ao) 10mm直径コントラスト比 コントラスト比を測定する際に,試験器具として直径10mmの鉛円板を
    用いたときのコントラスト比。
ap) ベーリンググレア指数 コントラスト比の逆数
aq) 解像度(図1参照) 入射面の前方に置いた試験器具のパターンのI. I. の光学的出力面の像を光学的
    に拡大し,目視して測定したとき,分解して見える限界の線対を表したもの。試験器具には,線対の
    パターンがX線に対して透過と非透過が同一幅で交互に形成されているものを用いる。

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Z 4721 : 2000
                     図1 解像度の測定位置の定義(I. I. の光学的出力面の像)
ar) 中心解像度 I. I. の有効視野の中心部の解像度。
as) 周辺解像度 I. I. の有効視野の周辺部分の解像度。周辺の位置は,試験器具を通る同心円直径の入射
    面視野寸法に対する比率を百分率 (%) で示す。通常は,90%の位置をいう。
at) 径方向解像度 周辺解像度で,I. I. 視野の任意の径方向の解像度。
au) 接線方向解像度 周辺解像度で,I. I. 視野の任意の接線方向の解像度。
av) 光学的出力面 I. I. の出力像を含む光学的な見掛け上の面。光学系の一次レンズの物体面として取り
    扱われる面。
aw) 量子検出効率 放射線検出器の出力のSN比の二乗と放射線検出器の入力のSN比の二乗の比(以下,
    DQEという。)。
    備考 DQEは,DETECTIVE QUANTUM EFFICIENCYの略である。
ax) 入射口径 放射線ビームの断面を決定する口径。
ay) 実効口径 入射口径を通った放射線源によって放射されたI. I. の入射面上の領域。
    備考 実効口径は,幾何学的拡大と線源の大きさに依存する。この領域の直径は,常に入射口径の直
          径より大きい。
az) 単       光子パルス I. I. の入力面に,規定されたエネルギーの   が一つ入射したときに出力面で放射
    される光量子の数。
ba) 量子吸収効率 放射線検出器に入射される全光量子数のうち放射線検出器の出力信号となりうる光量
    子数の割合。
bb)   TF分析器 光学系,ソフトウェアを含み,変調伝達関数(以下,MTFという。)を測定できる装置。
bc) 最適フォーカス 与えられたスリットの方向に対してMTFが最大となるように電圧を調整されたI. I.
    の状態。
bd) 低空間周波数での落込み現象 零空間周波数近傍でのMTFの値と零空間周波数でのMTFの値 (1.0)
    との差(以下,LFDという。)。
    備考 現在のI. I. には,零空間周波数近傍でMTF曲線が急激に落ち込むベーリンググレアが存在す
          る。IECではLFDを決定する空間周波数として0.1mm−1を採用している。
4. 種類及び形名
4.1   種類 I. I. の種類は,次による。
a) 単一視野形I. I.
b) 可変視野形I. I.

――――― [JIS Z 4721 pdf 5] ―――――

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