この規格 プレビューページの目次
※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
3 用語と定義
このドキュメントの目的のために、ISO 14644‑6 および以下に記載されている用語と定義が適用されます。
3.1 一般
3.1.1
化学汚染
製品、プロセス、または機器に有害な影響を与える可能性のある非粒子状物質
3.1.2
化学物質濃度による空気清浄
公序良俗に反する
ISO-ACC クラス N で表される化学物質濃度による空気清浄度のレベル。これは、特定の化学種または化学種のグループの最大許容濃度を表し、1 立方メートルあたりのグラム数で表されます。
注記1：この定義には、粒子と判断される生物学的起源の高分子は含まれない。
3.1.3
空気化学汚染
その化学的性質により、製品、プロセス、または機器に悪影響を与える可能性のある空気中の物質
3.1.4
薬品濃度による表面清浄度
SCC
化学濃度に対する表面の清浄度の状態
3.1.5
表面の化学汚染
化学的性質により、製品、プロセス、または機器に悪影響を与える可能性のある表面上の物質
3.1.6
汚染物質のカテゴリ
関心のある表面に付着した場合に、特定の類似した有害な効果を持つ化合物のグループの一般名
3.1.7
ガス抜き
材料からの気体または蒸気状態の化学物質の放出
3.1.8
化学物質濃度（ACC）クラスによる空気清浄度
特定の化学種または化学種のグループの最大許容濃度をグラム/立方メートルで示す等級番号
注記 1最大許容濃度は表 1 に定義されているか、または 4.2 のNの式によって決定される。
注記 2 ISO 14644 のこの部分による分類は、0 (許容される最も低い清浄度のクラス) から -12 (最も清浄な指定クラス) の範囲に制限されます。
注記 3 ACC クラス番号は，それが関連する化学種または化学種のグループを指定する ACC 記述子に関連してのみ有効である。
注記4空気化学清浄度クラス(-1から-12)のマイナス符号はACCクラス番号Nの不可欠な部分であり、常に与えられなければならない.マイナス記号のない空気化学清浄度クラス (クラス 0 を除く) は許可されません。
注記 5中間の ISO 分類番号を指定することができ、0.1 が最小許容増分である。
3.2 汚染物質の分類
3.2.1
酸
電子対の受容によって新しい結合を確立する化学反応特性を持つ物質
3.2.2
ベース
電子対の供与によって新しい結合を確立する化学反応特性を持つ物質
3.2.3
生物毒性
生物、微生物、組織または個々の細胞の発生および生命の維持に不快な汚染物質
3.2.4
凝縮性
クリーンルームの操作条件下で凝縮によって表面に堆積する物質。
3.2.5
腐食性の
表面の破壊的な化学変化を引き起こす物質
3.2.6
ドーパント
収着および/または拡散の後、製品のバルクに組み込まれ、微量であっても材料の特性を変えることができる物質
3.2.7
オーガニック
炭素含有化合物に基づく種
注記 1:無機炭素含有化合物は除外されます。
3.2.8
酸化剤
目的の表面または生成物に沈着すると、酸化物の形成をもたらすか、または酸化還元反応に関与する物質。
参考文献
| [1] | ISO 14644-4:2001, クリーンルームおよび関連する管理された環境 — Part 4: 設計、建設、および始動 |
| [2] | ISO 14644-5:2004, クリーンルームおよび関連する管理された環境 — Part 5: 運用 |
| [3] | ISO 14644-7:2004, クリーンルームおよび関連する管理された環境 — Part 7: 分離装置 (クリーン エア フード、グローブ ボックス、アイソレーター、およびミニ環境) |
| [4] | ISO 1469, クリーンルームおよび関連する管理された環境 — 生物汚染管理 |
| [5] | SEMI F21-1102, クリーン環境における空気中の分子汚染レベルの分類 |
| [6] | 半導体技術ロードマップ 歩留り向上グループ ウェーハ環境汚染対策編 |
| [7] | IEST-G-CC035.1, クリーンルームの AMC ろ過システムの設計に関する考慮事項 |
| [8] | ASTM D5127-99, エレクトロニクスおよび半導体業界で使用される超純水の標準ガイド |
| [9] | JACA No. 34-:2000, クリーンルーム用建材・構成材料から放出される空中浮遊分子汚染物質の評価基準 |
| [10] | JACA No. 35A-2003, クリーンルームおよび関連する管理された環境における空気中の分子状汚染物質 (AMC) レベルの空気清浄度の分類基準およびその評価方法 |
| [11] | JACA No. 43-2006, クリーンルームおよび関連する管理された環境における基板表面の汚染に関する評価方法の基準 |
| [12] | SEMI E108-0307, ガスクロマトグラフィー/質量分析を使用したミニ環境からのアウトガス有機汚染の評価のための試験方法 |
| [13] | IEST-RP-CC031.2, クリーンルームの材料およびコンポーネントからのアウトガス化合物の特性評価方法 |
| [14] | IDEMA 規格 M11-99, 動的ヘッドスペース分析による一般的なアウトガス試験手順 |
| [15] | JIS B9917-8:2010, クリーンルームおよび関連する管理された環境における空気中の分子状汚染物質 (AMC) レベルの空気清浄度の分類およびその評価方法に関する規格 |
| [16] | 空中分子汚染。 Fujimoto.T, Takeda, K and Nonaka, T. - 「表面汚染とクリーニングの発展」 - William Andrew Publishing 2007 |
| [17] | SEMI E45-1101, 蒸気相分解-全反射 X 線分光法 (VPD-TXRF)、VPD-原子吸光分光法 (VPD-AAS)、または VPD/誘導結合プラズマを使用したミニ環境からの無機汚染の測定のための試験方法・質量分析（VPD/ICP-MS） |
| [18] | SEMI E460307, イオン移動度分光法 (IMS) を使用したミニ環境からの有機汚染の測定のための試験方法 |
| [19] | Takeda K, Mochizuki A, Nonaka T, Matsumoto I, Fujimoto T, Nakahara T. クリーンルーム建設材料からのアウトガス化合物の評価。 J.IEST. 2001, 44 (No. 1) pp. 28–32 |
| [20] | 田村 浩、藤井 俊、湯浅 健、鍵 直紀. 二重円筒チャンバーを用いたクリーンルーム材料からの VOC 排出量の評価方法. Journal of Architecture, Planning and Environmental Engineering 、いいえ。 520, pp.55-59 (1999) |
| [21] | 田村 浩、藤井 俊、鍵 Nガス排出フラックスの時間変化の推定。 48th IEST Annual Technical Meeting and the 16th International Symposium on Contamination Control, ESTECH 2002 Proceedings, pp 7-15, Anaheim, California US (2002), BUEE 2001, Seoul, Korea (2001) の議事録 |
3 Terms and definitions
For the purposes of this document, the terms and definitions given in ISO 14644‑6 and the following apply.
3.1 General
3.1.1
chemical contamination
non-particulate substances that can have a deleterious effect on the product, process or equipment
3.1.2
air cleanliness by chemical concentration
ACC
level of air cleanliness by chemical concentration, expressed in terms of an ISO-ACC Class N, which represents the maximum allowable concentration of a given chemical species or a group of chemical species, expressed in grams per cubic metre
Note 1 to entry: This definition does not include macromolecules of biological origin, which are judged to be particles.
3.1.3
air chemical contamination
any substance in the air that can, by its chemical nature, adversely affect the product, process or equipment
3.1.4
surface cleanliness by chemical concentration
SCC
condition of the surface cleanliness with respect to its chemical concentration
3.1.5
surface chemical contamination
any substance on the surface that can, by its chemical nature, adversely affect the product, process or equipment
3.1.6
contaminant category
common name for a group of compounds with a specific and similar deleterious effect when deposited on the surface of interest
3.1.7
outgassing
release of chemical substances in the gaseous or vapour state from a material
3.1.8
air cleanliness by chemical concentration (ACC) class
grading number stating the maximum allowable concentration of a given chemical species or a group of chemical species in grams per cubic metre
Note 1 to entry: The maximum allowable concentrations are defined in Table 1 or determined by the equation for N in 4.2.
Note 2 to entry: Classification in accordance with this part of ISO 14644 is limited to the range from 0 (the class with the lowest allowable cleanliness) to –12 (the cleanest specified class).
Note 3 to entry: The ACC class number is only valid in connection with the ACC descriptor that specifies to which chemical species or group of chemical species it is related.
Note 4 to entry: The negative sign of the air chemical cleanliness classes (–1 to –12) is an integral part of the ACC class number N and must always be given. An air chemical cleanliness class without the negative sign (with the exception of the class 0) is not allowed.
Note 5 to entry: Intermediate ISO classification numbers may be specified, with 0,1 being the smallest permitted increment.
3.2 Contaminant categories
3.2.1
acid
substance whose chemical reaction characteristic is to establish new bonds by the acceptance of electron pairs
3.2.2
base
substance whose chemical reaction characteristic is to establish new bonds by the donation of electron pairs
3.2.3
biotoxic
contaminant substance that is obnoxious to the development and preservation of the life of organisms, microorganisms, tissues or individual cells
3.2.4
condensable
substance capable of depositing on a surface by condensation under cleanroom operating conditions
3.2.5
corrosive
substance that causes destructive chemical change of a surface
3.2.6
dopant
substance that, after sorption and/or diffusion, is incorporated in the bulk of a product and is capable of changing the properties of materials, even in trace amounts
3.2.7
organic
species based on carbon-containing compounds
Note 1 to entry: Inorganic carbon-containing compounds are excluded.
3.2.8
oxidant
substance that, upon deposition onto a surface or product of interest, results in the formation of an oxide or participates in a redox reaction
Bibliography
| [1] | ISO 14644‑4:2001, Cleanrooms and associated controlled environments — Part 4: Design, construction and start-up |
| [2] | ISO 14644‑5:2004, Cleanrooms and associated controlled environments — Part 5: Operations |
| [3] | ISO 14644‑7:2004, Cleanrooms and associated controlled environments — Part 7: Separative devices (clean air hoods, glove boxes, isolators and mini-environments) |
| [4] | ISO 14698 (all parts), Cleanrooms and associated controlled environments — Biocontamination control |
| [5] | SEMI F21-1102, Classification of Airborne Molecular Contaminant Levels in Clean Environments |
| [6] | Technology Roadmap for Semiconductors, Yield Enhancement Groups, Section on Wafer Environmental Contamination Control |
| [7] | IEST-G-CC035.1, Design Considerations for AMC Filtration Systems in Cleanrooms |
| [8] | ASTM D5127-99, Standard Guide for Ultra Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industry |
| [9] | JACA No. 34-:2000, Standard for Evaluation of Airborne Molecular Contaminants Emitted from Construction/Composition Materials for Clean Room |
| [10] | JACA No. 35A-2003, Standard for Classification of Air Cleanliness for Airborne Molecular Contaminant (AMC) Level in Cleanrooms and Associated Controlled Environments and its Evaluation Methods |
| [11] | JACA No. 43-2006, Standard for Evaluation Methods on Substrate Surface Contamination in Cleanrooms and Associated Controlled Environments |
| [12] | SEMI E108-0307, Test Method for the Assessment of Outgassing Organic Contamination from Minienvironments using Gas Chromatography/Mass Spectrometry |
| [13] | IEST-RP-CC031.2, Method for Characterising Outgassed Compounds from Cleanroom Materials and Components |
| [14] | IDEMA Standard M11-99, General Outgas Test Procedure by Dynamic Headspace Analysis |
| [15] | JIS B9917-8:2010, Standard for Classification of Air Cleanliness for Airborne Molecular Contaminants (AMC) Level in Cleanrooms and Associated Controlled Environments and its Evaluation Methods |
| [16] | Airborne Molecular Contamination. Fujimoto.T, Takeda, K and Nonaka, T. - ‘Developments in Surface Contamination and Cleaning’ - William Andrew Publishing 2007 |
| [17] | SEMI E45-1101, Test Method for the Determination of Inorganic Contamination from Minienvironments Using Vapour Phase Decomposition-Total Reflection X-Ray Spectroscopy (VPD-TXRF), VPD-Atomic Absorption Spectroscopy (VPD-AAS), or VPD/Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometry (VPD/ICP-MS) |
| [18] | SEMI E460307, Test Method for the Determination of Organic Contamination from Minienvironments Using Ion Mobility Spectrometry (IMS) |
| [19] | Takeda K., Mochizuki A., Nonaka T., Matsumoto I., Fujimoto T., Nakahara T. Evaluation of Outgassing Compounds from Cleanroom Construction Materials. J. IEST. 2001, 44 (No. 1) pp. 28–32 |
| [20] | Tamura H., Fujii S., Yuasa K. and Kagi N. Evaluation Method of VOC Emissions from Cleanroom Materials using the Double Cylinder Chamber. Journal of Architecture, Planning and Environmental Engineering, No. 520, pp. 55-59 (1999) |
| [21] | Tamura H., Fujii S., Kagi N. Estimate of the Time Change of the Gas Emission Flux. Proceedings of the 48th IEST Annual Technical Meeting and the 16th International Symposium on Contamination Control, ESTECH 2002 Proceedings, pp 7-15, Anaheim, California U.S. (2002), BUEE 2001, Seoul, Korea (2001) |