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※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
序章
オブジェクト プロセス方法論 (OPM) は、自動化システムのモデリングと知識表現のためのコンパクトな概念的アプローチ、言語、および方法論です。 OPM の適用範囲は、要素コンポーネントの単純なアセンブリから、複雑で学際的な動的システムにまで及びます。 OPM は、情報とコンピューター技術を使用したツールによる実装とサポートに適しています。この公開仕様は、システム アーキテクト、設計者、および OPM 準拠のツール開発者があらゆる種類のシステムをモデル化するための共通の基盤を確立するために、OPM の言語と方法論の両方の側面を指定します。
OPM は、同じモデルに対して意味的に同等な 2 つの表現方法 (グラフィカルとテキスト) を提供します。階層的に構造化され、相互に関連するオブジェクト プロセス図 (OPD) のセットがグラフィカル モデルを構成し、英語のサブセットで自動生成された一連の文がオブジェクト プロセス言語 (OPL) で表現されるテキスト モデルを構成します。グラフィカル/ビジュアル モデルでは、各 OPD は OPM 要素で構成され、グラフィック シンボルとして表され、場合によってはラベルの注釈が付けられます。 OPD 構文は、これらのグラフィック要素の配置を管理する一貫した正しい方法を指定します。 OPL を使用すると、OPM は各 OPD に対応するテキスト モデルを、グラフィカル モデルの制約を保持する方法で生成します。 OPL の構文とセマンティクスは英語の自然言語のサブセットであるため、ドメインの専門家はテキスト モデルを簡単に理解できます。
OPM 表記は、形式的な構文とセマンティクスによるシステムの概念モデリングをサポートします。この形式は、システム アーキテクト、エンジニアリング、開発、ライフ サイクル サポート、コミュニケーション、および進化を含む、モデルベースのシステム エンジニアリング全般の基礎として機能します。さらに、OPM のドメインに依存しない性質により、特定のアプリケーション ドメイン内の製造およびその他の産業およびビジネス システムを開発、調査、分析するために、システム モデリングが科学、商業、および産業のコミュニティ全体に開放されます。これにより、企業はさまざまなスキルと能力を統合し、共通の直感的で正式なフレームワークに相互運用性を提供できます。
OPM は、構築中、テスト中、統合中、および日常のメンテナンス中のシステムの共通ビューを容易にし、学際的な環境での作業を可能にします。さらに、企業は OPM を使用して、システムの機能の全体像、タスクへの人員の割り当ての柔軟性、および例外とエラー回復の管理を向上させることができます。システム仕様は、システムの機能面、構造面、および動作面を含む、必要な詳細について拡張可能です。
OPM の特定の用途の 1 つは、技術標準の起草とオーサリングです。 OPM は、標準の実装の概要を示し、削減すべき標準の弱点を特定するのに役立ちます。これにより、後続のドラフトの品質が大幅に向上します。 OPM を使用すると、システムのモデルベースのテキストが拡張されて詳細が追加されても、基礎となるモデルは高度な形式性と一貫性を維持し続けます。
この一般に公開されている仕様は、システム アーキテクトと設計者にベースラインを提供し、システムを簡潔かつ効果的にモデル化するために使用できます。 OPM ツール ベンダーは、概念モデリングを強化するソフトウェア ツールを作成するための正式な標準仕様として PAS を利用できます。
この公開仕様は、言語構文の拡張バッカスナウア形式 (EBNF) 仕様に従う規範的なテキストのプレゼンテーションを提供します。すべての要素は条項 6 から 13 に提示されており、方法論的な側面への参照は最小限にとどめられています。条項 14 では、ズームインと展開に関連するコンテキスト管理メカニズムが提示されています。
この仕様は、OPM の表示にいくつかの規則を利用しています。具体的には、テキストの Arial ボールド フォントと、図のキャプション、テーブル キャプション、および見出しの Arial ボールド イタリック フォントは、OPM オブジェクト、プロセス、状態、およびリンク タグのラベル名を区別します。 OPL 予約語は Arial の通常のフォントで、コンマとピリオドは Arial の太字フォントで示されています。ほとんどの図には、グラフィック イメージ (OPD 部分) と同等のテキスト (OPL 部分) の両方が含まれています。これは言語仕様であるため、用語定義を正確に使用することが不可欠であり、一般的に使用されるいくつかの用語は、OPM を使用する際に特定の意味を持ちます。条項 B.6 では、OPM の使用に関するその他の規則について説明しています。
附属書 A は、OPL の正式な構文を EBNF 形式で示しています。
附属書 B は、OPM アプリケーションで一般的に使用される規則とパターンを示しています。
附属書 C は、OPM モデルとして OPM の側面を提示します。
付録 D は、OPM の動的およびシミュレーション機能をまとめたものです。
国際標準化機構 (ISO) は、この文書への準拠には、第 6 節から第 14 節に規定されているモデル化システムとしての OPM に関する特許の使用が含まれる可能性があると主張されているという事実に注意を向けています。
ISO は、この特許権の証拠、有効性、および範囲に関していかなる立場も取りません。
この特許権の所有者は、世界中の申請者と無料または合理的かつ非差別的な条件の下でライセンスを交渉する意思があることを ISO に保証しています。この点、本特許権者の陳述書はISOに登録されています。情報は以下から取得できます。
| ドヴ・ドーリ教授 |
| テクニオン イスラエル工科大学 |
| テクニオンシティ |
| ハイファ 32000, イスラエル |
| dori@ie.technion.ac.il |
このドキュメントの一部の要素が、上記以外の特許権の対象となる可能性があることに注意してください。 ISO は、そのような特許権の一部またはすべてを特定する責任を負わないものとします。
ISO ( www.iso.org/patents ) と IEC ( http://patents.iec.ch ) は、それぞれの規格に関連する特許のオンライン データベースを維持しています。特許に関する最新情報については、データベースを参照することをお勧めします。
Introduction
Object-Process Methodology (OPM) is a compact conceptual approach, language, and methodology for modelling and knowledge representation of automation systems. The application of OPM ranges from simple assemblies of elemental components to complex, multidisciplinary, dynamic systems. OPM is suitable for implementation and support by tools using information and computer technology. This Publicly Available Specification specifies both the language and methodology aspects of OPM in order to establish a common basis for system architects, designers, and OPM-compliant tool developers to model all kinds of systems.
OPM provides two semantically equivalent modalities of representation for the same model: graphical and textual. A set of hierarchically structured, interrelated Object-Process Diagrams (OPDs) constitutes the graphical model, and a set of automatically generated sentences in a subset of the English language constitutes the textual model expressed in the Object-Process Language (OPL). In a graphical-visual model, each OPD consists of OPM elements, depicted as graphic symbols, sometimes with label annotation. The OPD syntax specifies the consistent and correct ways to manage the arrangement of those graphically elements. Using OPL, OPM generates the corresponding textual model for each OPD in a manner that retains the constraints of the graphical model. Since the syntax and semantics of OPL are a subset of English natural language, domain experts easily understand the textual model.
OPM notation supports the conceptual modelling of systems with formal syntax and semantics. This formality serves as the basis for model-based systems engineering in general, including systems architecting, engineering, development, life cycle support, communication, and evolution. Furthermore, the domain-independent nature of OPM opens system modelling to the entire scientific, commercial and industrial community for developing, investigating and analysing manufacturing and other industrial and business systems inside their specific application domains; thereby enabling companies to merge and provide for interoperability of different skills and competencies into a common intuitive yet formal framework.
OPM facilitates a common view of the system under construction, test, integration, and daily maintenance, providing for working in a multidisciplinary environment. Moreover, using OPM, companies can improve their overall, big-picture view of the system's functionality, flexibility in assignment of personnel to tasks, and managing exceptions and error recovery. System specification is extensible for any necessary detail, encompassing the functional, structural and behavioural aspects of a system.
One particular application of OPM is in the drafting and authoring of technical standards. OPM helps sketch the implementation of a standard and identify weaknesses in the standard to reduce, thereby significantly improving the quality of successive drafts. With OPM, even as the model-based text of a system expands to include more details, the underlying model keeps maintaining its high degree of formality and consistency.
This Publicly Available Specification provides a baseline for system architects and designers, who can use it to model systems concisely and effectively. OPM tool vendors can utilise the PAS as a formal standard specification for creating software tools to enhance conceptual modelling.
This Publicly Available Specification provides a presentation of the normative text that follows the Extended Backus-Naur Form (EBNF) specification of the language syntax. All elements are presented in Clauses 6 to 13 with only minimal reference to methodological aspects, Clause 14 presents the context management mechanisms related to in-zooming and unfolding.
This specification utilizes several conventions for the presentation of OPM. Specifically, Arial bold font in text and Arial bold italic font in figure captions, table captions and headings distinguish label names for OPM objects, processes, states, and link tags. OPL reserved words are in Arial regular font with commas and periods in Arial bold font. Most figures contain both a graphic image, the OPD portion, and a textual equivalent, the OPL portion. Because this is a language specification, the precise use of term definitions is essential and several terms in common use have particular meaning when using OPM. Clause B.6 explains other conventions for the use of OPM.
Annex A presents the formal syntax for OPL, in EBNF form.
Annex B presents conventions and patterns commonly used in OPM applications.
Annex C presents aspects of OPM as OPM models.
Annex D summarizes the dynamic and simulation capabilities of OPM.
The International Organization for Standardization (ISO) draws attention to the fact that it is claimed that compliance with this document may involve the use of a patent concerning OPM as a modelling system given in Clauses 6 to 14.
ISO takes no position concerning the evidence, validity and scope of this patent right.
The holder of this patent right has assured the ISO that he/she is willing to negotiate licences either free of charge or under reasonable and non-discriminatory terms and conditions with applicants throughout the world. In this respect, the statement of the holder of this patent right is registered with ISO. Information may be obtained from:
| Prof. Dov Dori |
| Technion Israel Institute of Technology |
| Technion City |
| Haifa 32000, Israel |
| dori@ie.technion.ac.il |
Attention is drawn to the possibility that some of the elements of this document may be the subject of patent rights other than those identified above. ISO shall not be held responsible for identifying any or all such patent rights.
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