JIS C 61000-4-2:2012 電磁両立性―第4-2部:試験及び測定技術―静電気放電イミュニティ試験 | ページ 7

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C 61000-4-2 : 2012 (IEC 61000-4-2 : 2008)
い。
− ターゲットを取り付けた中心から各辺まで0.6 m以上ある垂直校正板(図B.5参照)。
− 要求事項に対して十分な電力容量がある減衰器。
注記 適切なターゲットの例は,附属書Cを参照。
B.4.3 ESD発生器の接触放電における校正手順
ターゲットは,B.4.2を満足する垂直校正板の中央に取り付ける。ESD発生器の放電リターンケーブル
は,ターゲットの真下0.5 mの位置に接続する。放電リターンケーブルは,二等辺三角形を形成して,ケ
ーブルの中央を後方に引く。校正中に放電リターンケーブルは,床に接触してはならない。
ESD発生器の電流波形が仕様内にあることを確認するために,表B.1に示す手順に従う。電流波形を記
録し,次の値を測定する。
Ip : 放電電流のピーク値(A)
I30 : Ipの10 %に達した時点から30 ns後の電流値(A)
I60 : Ipの10 %に達した時点から60 ns後の電流値(A)
tr : 電流の立上り時間(ns)
表B.1−接触放電における校正手順
順番 項目 手順 説明
1 波形記録 表1で規定した各試験レベルを両方の極仕様は全て5回放電に合わせる。
性で5回放電し,各波形を記録する。
2 測定 パラメータは各試験レベルで確認する。
各波形のIp,I30,I60及びtrを測定する。
3 30 ns点での I30が表3に従った値であることを確認すパラメータは各試験レベルで確認する。
電流確認 る。 例えば,試験レベル1のときは,4 A±30 %と
なる。
4 60 ns点での I60が表3に従った値であることを確認すパラメータは各試験レベルで確認する。
電流確認 る。 例えば,試験レベル1のときは,2 A±30 %と
なる。
5 最大電流確認 Ipが表3に従った値であることを確認すパラメータは各試験レベルで確認する。
る。 例えば,試験レベル1のときは,7.5 A±15 %
となる。
6 立上り時間確trが0.8 ns±25 %となることを確認する。 パラメータは各試験レベルで確認する。

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C 61000-4-2 : 2012 (IEC 61000-4-2 : 2008)
注記1 ESD発生器を,非金属で低損失な三脚又は支持台に設置する。
注記2 試験時と同様に,ESD発生器に電源を供給する。
注記3 この図とは逆に,ESD発生器及びターゲットを遮蔽きょう体の中に設置してもよい。
図B.5−ESD発生器の校正の代表的な配置例
ESD発生器からの電磁放射による測定システムへの間接結合が,校正結果に影響しないことを証明でき
る場合,オシロスコープの遮蔽は不要とする。
次の場合に,オシロスコープのトリガーが動作しないとき,測定システムは十分な耐性をもっている(す
なわち,遮蔽きょう体は不要)と判断できる。
− オシロスコープのトリガーレベルを最も低い校正レベルの10 %以下に設定する。
− ターゲットの(内側の電極の代わりに)外部導体にESD発生器を接触させ,最大校正レベルにして放
電する。

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C 61000-4-2 : 2012 (IEC 61000-4-2 : 2008)
附属書C
(参考)
附属書Bの要求事項に適合するターゲットの例
附属書Bの要求事項に適合するターゲットの詳細構造を図C.1図C.5に示す。このターゲットは,長
さ1 mの同軸ケーブル(RG400)を使用した場合,平たんな挿入損失特性を示すように設計している。多
重反射を防ぐために,20 dB以上の減衰器をターゲットの出力ポートに直接接続することを推奨する。
注記 図C.1図C.5は一例であるので,寸法の許容差は指定していない。
単位 mm
図C.1−ターゲットの構造図(1/5)(1 真ちゅう製の本体部品)

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C 61000-4-2 : 2012 (IEC 61000-4-2 : 2008)
単位 mm
チップ抵抗 : 0805
抵抗値 : 例えば51 圀
配置 : テンプレートを用いて正確に放射状に配置してはんだ付け
材料 : 0.5 mm FR-4金めっき
スルーホール : 抵抗の両側それぞれに2列のビアホール,及びプリント基板の外縁に近い部分に1列のスルーホール
を設ける。約25個の抵抗が必要になる。
注記 合成抵抗値が2.1 Ω以下となるように,抵抗値及び個数を選択する必要がある。
図C.2−ターゲットの構造図(2/5)(2 プリント基板)

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C 61000-4-2 : 2012 (IEC 61000-4-2 : 2008)
単位 mm
3 ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)製の絶縁部品I
4 PTFE製の絶縁部品II
5 真ちゅう製の中心導体部品I
7 ステンレス製の中心導体部品II
6 SMAコネクタ
図C.3−ターゲットの構造図(3/5)

――――― [JIS C 61000-4-2 pdf 35] ―――――

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JIS C 61000-4-2:2012の引用国際規格 ISO 一覧

  • IEC 61000-4-2:2008(IDT)

JIS C 61000-4-2:2012の国際規格 ICS 分類一覧

JIS C 61000-4-2:2012の関連規格と引用規格一覧

規格番号
規格名称
JISC60050-161:1997
EMCに関するIEV用語