この規格ページの目次
- JISK0181 規格全文情報
- K 0181 : 2021 (ISO 20289 : 2018)
- pdf 目 次
- pdf 目次
- まえがき
- 日本産業規格 JISK 0181 : 2021(ISO 20289 : 2018)
- 表面化学分析−水溶液の全反射蛍光X線分析方法Surface chemical analysis-
- 序文
- 1 適用範囲
- 2 引用規格
- JIS K 0148 表面化学分析−全反射蛍光X線分析法(TXRF)によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法注記 対応国際規格における引用規格 : ISO 14706,Surface chemical analysis−Determination of surfaceelemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopyJIS K 0160 表面化学分析−シリコンウェーハ表面からの金属の化学的回収方法及び全反射蛍光X線
- (TXRF)分析法による定量方法注記 対応国際規格における引用規格 : ISO 17331,Surface chemical analysis−Chemical methods forthe collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and theirdetermination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
- 3 用語及び定義
- JIS K 0181:2021の引用国際規格 ISO 一覧
- JIS K 0181:2021の国際規格 ICS 分類一覧
- JIS K 0181:2021の関連規格と引用規格一覧
JIS K 0181:2021 規格概要
この規格 K0181は、全反射蛍光X線(TXRF)分析法によって,水溶液に溶解した元素の定量方法について規定。0.001 mg/L~10 mg/Lの濃度の水溶液(例えば,飲料水,地表水,地下水)に適用する。
JISK0181 規格全文情報
- 規格番号
- JIS K0181
- 規格名称
- 表面化学分析―水溶液の全反射蛍光X線分析方法
- 規格名称英語訳
- Surface chemical analysis -- Total reflection X-ray fluorescence analysis of water
- 制定年月日
- 2021年11月22日
- 最新改正日
- 2021年11月22日
- JIS 閲覧
- ‐
- 対応国際規格
ISO
- ISO 20289:2018(IDT)
- 国際規格分類
ICS
- 71.040.40
- 主務大臣
- 経済産業
- JISハンドブック
- ‐
- 改訂:履歴
- 2021-11-22 制定
- ページ
- JIS K 0181:2021 PDF [22]
K 0181 : 2021 (ISO 20289 : 2018)
pdf 目 次
ページ
- 序文・・・・[1]
- 1 適用範囲・・・・[1]
- 2 引用規格・・・・[1]
- 3 用語及び定義・・・・[2]
- 4 記号及び略語・・・・[3]
- 5 安全性・・・・[3]
- 6 干渉効果・・・・[4]
- 7 器具・・・・[4]
- 7.1 一般事項・・・・[4]
- 7.2 試験器具・・・・[4]
- 7.3 乾燥装置・・・・[4]
- 8 試薬,標準液及び材料・・・・[5]
- 8.1 超純水・・・・[5]
- 8.2 超高純度硝酸・・・・[5]
- 8.3 洗浄液・・・・[5]
- 8.4 シリコーンのイソプロパノール溶液・・・・[5]
- 8.5 内部標準液・・・・[5]
- 8.6 多元素標準液・・・・[5]
- 8.7 希釈内部標準液・・・・[5]
- 8.8 品質管理試料の有効性・・・・[6]
- 9 試料調製・・・・[6]
- 9.1 環境・・・・[6]
- 9.2 試料・・・・[6]
- 9.3 試験調製試料・・・・[6]
- 9.4 試料基板・・・・[7]
- 9.5 滴下乾燥試料・・・・[7]
- 9.6 乾燥痕の量,大きさ及びその位置の影響・・・・[7]
- 10 測定手順・・・・[8]
- 10.1 一般事項・・・・[8]
- 10.2 装置校正・・・・[8]
- 10.3 検出限界・・・・[8]
- 10.4 TXRF測定・・・・[8]
- 10.5 スペクトルフィッティング・・・・[8]
- 10.6 盲検試料・・・・[9]
- 11 定性分析及び定量分析・・・・[9]
(pdf 一覧ページ番号 1)
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K 0181 : 2021 (ISO 20289 : 2018)
pdf 目次
ページ
- 11.1 元素の同定・・・・[9]
- 11.2 元素の定量化・・・・[9]
- 11.3 計算・・・・[9]
- 11.4 測定の不確かさ・・・・[10]
- 12 品質管理・・・・[10]
- 13 精度及び精確さ・・・・[10]
- 14 試験報告書・・・・[10]
- 附属書A(参考)TXRF測定における不確かさ・・・・[12]
- 附属書B(参考)妥当性確認・・・・[15]
- 参考文献・・・・[19]
(pdf 一覧ページ番号 2)
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K 0181 : 2021 (ISO 20289 : 2018)
まえがき
この規格は,産業標準化法第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人表面化学分析技術国際標準化
委員会(JSCA)及び一般財団法人日本規格協会(JSA)から,産業標準原案を添えて日本産業規格を制
定すべきとの申出があり,日本産業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が制定した日本産業規格であ
る。
この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本産業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
(pdf 一覧ページ番号 3)
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日本産業規格 JISK 0181 : 2021(ISO 20289 : 2018)
表面化学分析−水溶液の全反射蛍光X線分析方法Surface chemical analysis-
Total reflection X-ray fluorescence analysis of water
序文
この規格は,2018年に第1版として発行されたISO 20289を基に,技術的内容及び構成を変更すること
なく作成した日本産業規格である。
なお,この規格で点線の下線を施してある参考事項は,対応国際規格にはない事項である。
1 適用範囲
この規格は,全反射蛍光X線(TXRF)分析法によって,水溶液に溶解した元素の定量方法について規
定する。この規格は,0.001 mg/L10 mg/Lの濃度の水溶液(例えば,飲料水,地表水,地下水)に適用す
る。
ただし,試料のサンプリング方法,希釈方法及び事前濃縮方法は除く。
注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
ISO 20289:2018,Surface chemical analysis−Total reflection X-ray fluorescence analysis of water(IDT)なお,対応の程度を表す記号“IDT”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“一致している”ことを示す。
2 引用規格
次に掲げる引用規格は,この規格に引用されることによって,その一部又は全部がこの規格の要求事項
を構成している。これらの引用規格のうち,西暦年を付記してあるものは,記載の年の版を適用し,その
後の改正版(追補を含む。)は適用しない。西暦年の付記がない引用規格は,その最新版(追補を含む。)
を適用する。
JIS K 0148 表面化学分析−全反射蛍光X線分析法(TXRF)によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法注記 対応国際規格における引用規格 : ISO 14706,Surface chemical analysis−Determination of surfaceelemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopyJIS K 0160 表面化学分析−シリコンウェーハ表面からの金属の化学的回収方法及び全反射蛍光X線
(TXRF)分析法による定量方法注記 対応国際規格における引用規格 : ISO 17331,Surface chemical analysis−Chemical methods forthe collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and theirdetermination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
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2
K 0181 : 2021 (ISO 20289 : 2018)
JIS Q 17025 試験所及び校正機関の能力に関する一般要求事項注記 対応国際規格における引用規格 : ISO/IEC 17025,General requirements for the competence oftesting and calibration laboratoriesJIS Z 8402-1 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)−第1部 : 一般的な原理及び定義注記 対応国際規格における引用規格 : ISO 5725-1,Accuracy (trueness and precision) of measurement
methods and results−Part 1: General principles and definitionsJIS Z 8402-2 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)−第2部 : 標準測定方法の併行精度及び再現精度を求めるための基本的方法注記 対応国際規格における引用規格 : ISO 5725-2,Accuracy (trueness and precision) of measurement
methods and results−Part 2: Basic method for the determination of repeatability and reproducibility of a standard measurement method
ISO 3696,Water for analytical laboratory use−Specification and test methods
ISO 5667-1,Water quality−Sampling−Part 1: Guidance on the design of sampling programmes and sampling
techniques
ISO 5667-3,Water quality−Sampling−Part 3: Preservation and handling of water samples
ISO/TS 18507:2015,Surface chemical analysis−Use of Total Reflection X-ray Fluorescence spectroscopy in
biological and environmental analysis
JCGM 100 series,Guides to the expression of uncertainty in measurement (GUM series)
3 用語及び定義
この規格で用いる主な用語及び定義は,次によるほか,JIS K 0148,JIS K 0160,JIS Z 8402-1,JIS Z
8402-2,ISO 3696,ISO 5667-1,ISO 5667-3,ISO/TS 18507,及びJCGM 100 seriesによる。
3.1
校正用標準液(calibration standards)
一次希釈液又は原液から調製した既知の標準液であって,測定対象元素又は内部標準元素を含むもの
注釈1 対応国際規格では,この用語は使われていないため,この規格では不採用とする。
3.2
線形校正範囲(linear calibration range)
測定器からの信号強度が線形である濃度範囲
3.3
感度(sensitivity)
検量線における蛍光X線強度と濃度との線形関数近似の傾き
3.4
検出限界(detection limit)
元素濃度がブランク試料の濃度と異なっていることを,99 %の信頼度で確認可能である最小元素濃度
注釈1 10.3参照。
(出典 : ISO 18115-1:2013の4.168を変更)
3.5
装置性能評価用試料(instrument performance sample)
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JIS K 0181:2021の引用国際規格 ISO 一覧
- ISO 20289:2018(IDT)
JIS K 0181:2021の国際規格 ICS 分類一覧
JIS K 0181:2021の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISK0148:2005
- 表面化学分析-全反射蛍光X線分析法(TXRF)によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法
- JISK0160:2009
- 表面化学分析―シリコンウェーハ表面からの金属の化学的回収方法及び全反射蛍光X線(TXRF)分析法による定量方法
- JISQ17025:2018
- 試験所及び校正機関の能力に関する一般要求事項
- JISZ8402-1:1999
- 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)―第1部:一般的な原理及び定義
- JISZ8402-2:1999
- 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)―第2部:標準測定方法の併行精度及び再現精度を求めるための基本的方法
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