JIS R 1701-4:2016 ファインセラミックス―光触媒材料の空気浄化性能試験方法―第４部：ホルムアルデヒドの除去性能

                                                                                 R 1701-4 : 2016

pdf 目 次

ページ

•  序文・・・・[1]
•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[2]
•  4 試験装置・・・・[2]
•  5 試験片・・・・[2]
•  6 試験方法・・・・[3]
•  6.1 一般事項・・・・[3]
•  6.2 試験片の前処理・・・・[3]
•  6.3 測定準備・・・・[3]
•  6.4 予備試験・・・・[4]
•  6.5 ホルムアルデヒド除去試験・・・・[4]
•  7 試験結果の計算・・・・[4]
•  8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法・・・・[5]
•  9 報告書・・・・[5]
•  附属書JA(参考)JISと対応国際規格との対比表・・・・[7]

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R 1701-4 : 2016

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本
ファインセラミックス協会(JFCA),国立研究開発法人産業技術総合研究所(AIST)及び一般財団法人日
本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を改正すべきとの申出があり,日本工業標
準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)である。
  これによって,JIS R 1701-4:2008は改正され,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。
  JIS R 1701の規格群には,次に示す部編成がある。
    JIS R 1701-1 第1部 : 窒素酸化物の除去性能
    JIS R 1701-2 第2部 : アセトアルデヒドの除去性能
    JIS R 1701-3 第3部 : トルエンの除去性能
    JIS R 1701-4 第4部 : ホルムアルデヒドの除去性能
    JIS R 1701-5 第5部 : メチルメルカプタンの除去性能

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                           R 1701-4 : 2016

ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第4部 : ホルムアルデヒドの除去性能

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-Test method for air purification performance of photocatalytic materials-Part 4: Removal of formaldehyde

序文

  この規格は,2013年に第1版として発行されたISO 22197-4を基とし,その後に制定されたJIS R 1701-2
JIS R 1701-5及びJIS R 1751-1JIS R 1751-5と整合させるために,技術的内容を変更して作成した日本
工業規格である。
  なお,この規格で側線又は点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格を変更している事項である。
変更の一覧表にその説明を付けて,附属書JAに示す。

1 適用範囲

  この規格は,光触媒を建築材料及びその他の製品の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化性能のうち,
気体のホルムアルデヒド(HCHO)の除去性能を試験する方法について規定する。
  この規格は,主として太陽光の照射下において波長300380 nmの紫外線領域で効果を示す光触媒を対
象としている。可視光だけの照射下におけるホルムアルデヒドの除去性能を試験する場合は,この規格で
はなく,JIS R 1751-4を適用する。
    注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
          ISO 22197-4:2013,Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)−Test method for
              air-purification performance of semiconducting photocatalytic materials−Part 4: Removal of
              formaldehyde(MOD)
            なお,対応の程度を表す記号“MOD”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“修正している”
          ことを示す。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS A 1962 室内及び試験チャンバー内空気中のホルムアルデヒド及び他のカルボニル化合物の定量
        −ポンプサンプリング
    JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
    JIS R 1701-1 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部 : 窒素酸化物の除

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2
R 1701-4 : 2016
        去性能
    JIS R 1709 ファインセラミックス−紫外線励起形光触媒試験用光源
    JIS R 1751-4 ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第4部 : ホ
        ルムアルデヒドの除去性能
    JIS Z 8401 数値の丸め方
    JIS Z 8806 湿度−測定方法

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS R 1600及びJIS R 1701-1による。

4 試験装置

4.1   装置の構成 試験装置は,JIS R 1701-1の4.1(装置の構成)による。低濃度のホルムアルデヒドを
含む空気を扱うことから,吸着などによる損失が少なく,測定結果に影響を及ぼさないように配慮したも
のでなければならない。
4.2   試験用ガス供給装置 試験用ガス供給装置は,JIS R 1701-1の4.2(試験用ガス供給装置)による。
高圧容器入りのホルムアルデヒド標準ガスを用いて,所定の濃度・温度・水蒸気濃度の試験用ガスを調製
し,光照射容器に連続的に供給する。流量制御器,加湿器,ガス混合器などからなる。
  なお,ホルムアルデヒドガスは高圧容器入りの標準ガス以外に,適切な方法で発生させたものを用いる
こともできる。ただし,この方法による場合は,試験時間中一定濃度のホルムアルデヒドガスを発生でき
ること,及び発生するガス中にメタノールなどの不純物が試験結果に影響しないことをあらかじめ確認し
ておく必要がある。
4.3   光照射容器 光照射容器は,JIS R 1701-1の4.3(光照射容器)による。
4.4   光源 光源は,JIS R 1701-1の4.4(光源)による。また,試験片上表面での紫外放射照度が10.0±0.5
W/m2となるように,光照射容器までの距離を調節する。紫外放射照度の測定には,JIS R 1709に規定する
校正済みの紫外放射照度計を用いる。
4.5   汚染物質濃度測定装置 汚染物質濃度(ホルムアルデヒド濃度)の測定には,DNPH誘導体化固相
吸着・溶媒抽出−高速液体クロマトグラフ法(DNPH-HPLC法)によって,JIS A 1962に規定する試薬,
器具,及び装置を用いる。

5 試験片

  試験片は平板状又はフィルタ状の光触媒材料で,幅49.0±1.0 mm,長さ99.0±1.0 mmとする。光照射容
器内で補助板などとの間に隙間ができる場合は,試験片を上流側に寄せるとともに,必要に応じてスペー
サーなどを用いて調整する。平板状材料の場合は,光触媒面以外によるガス吸着を抑制するとともに,洗
浄液の回収を容易にするために,試験片の厚さは5 mm以下とする。しかし,これを超える厚さの材料で
も,以上の試験条件が保たれるなら,試験できる。光照射容器の深さが十分にあれば厚さが5 mm以上の
試験片を用いることも可能であるが,厚い試験片の場合には,側面による吸着が予想されるので,あらか
じめ側面をシールしておく。フィルタ状の場合には,厚さを20 mm以内にする。

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                                                                                 R 1701-4 : 2016

6 試験方法

6.1 一般事項

  ホルムアルデヒド除去試験は,6.26.5に示す手順で実施し,光照射時の除去量を調べる。この過程に
おけるホルムアルデヒド濃度の測定例を図1に示す。また,ホルムアルデヒド除去量が非常に小さく,正
確な測定が困難な場合は箇条8によって,試験条件を変更することができる。
                      1.2
                                          m)
                                             光照射開始          光照射停止
                                        p
                      1.0
                         濃度(体積分率
                               ol ppm)p
                      0.8
                              v
                      0.6
                       O濃度(
                      0.4
                     HO
                   HCH
                                                           ○ 出口での濃度
                  HC
                      0.2
                                                            入口での濃度
                      0.0
                         -60    0      60    120    180    240   300    360
                                              時間(min)
                       図1−試験操作におけるホルムアルデヒド濃度の測定例

6.2 試験片の前処理

  試験片に付着又は吸着している有機物を完全に除去するため,次の手順で実施する。この操作の直後に
試験を開始しない場合には,密閉容器に入れて暗所に保管する。
a) 水洗 精製水に試験片を2時間以上浸せきした後,取り出して室温で風乾する。
      なお,120 ℃を上限として,物理的・化学的な変化を生じさせない範囲で試験片を加熱乾燥しても
    よい。いずれの場合も,試験片が恒量になることを確認する。洗液に沈殿物などがあればその状況,
    乾燥の方法などを記録する。
b) 有機物の除去 紫外線ランプを用いて12時間以上24時間未満の光照射を行う。光触媒面での紫外線
    照度は1020 W/m2の範囲とする。光照射はゼロガス中又は清浄な密閉容器内で行う。親油性の汚れ
    が予想される場合には,b),a) の順で実施してもよい。また,水洗によって試験片の諸性状に悪影響
    が出る場合は,a) を省略してもよい。

6.3 測定準備

  測定準備は,次による。
a) ホルムアルデヒド濃度体積分率(1.0±0.1)ppm,水蒸気濃度体積分率(1.56±0.16)%,温度25.0±2.5 ℃
    の試験用ガスを安定して発生できるように試験用ガス供給装置をあらかじめ調整しておく。光照射容
    器入口で流量が3.00±0.15 L/min(0 ℃,101.3 kPaの標準状態において)となるように流量制御器を
    設定する。このときの水蒸気濃度は,25 ℃における相対湿度(50±5)%に相当する。湿度の測定は,
    JIS Z 8806によって行う。また,試験片上表面における光源からの紫外放射照度を測定し,記録する。
b) 光照射容器内のガス流路部分の中央に試験片を設置し,窓板までの空間の厚さを5.0±0.5 mmに調整

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