ISO 14237:2010 表面化学分析—二次イオン質量分析—均一にドープされた材料を使用したシリコン中のホウ素原子濃度の決定

この規格ページの目次

ISO 14237:2010の概要

ISO14237:2010の規格概要

閲覧情報

Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

ISO 14237:2010は、ホウ素が注入された認定基準物質によって校正された均一にドープされた材料を使用して、単結晶シリコンのホウ素原子濃度を測定するための二次イオン質量分析法を指定しています。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。

ISO 国際規格番号: ISO 14237:2010
ISO 国際規格名称: Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
ISO 規格名称日本語訳: 表面化学分析 — 二次イオン質量分析 — 均一にドープされた材料を使用したシリコン中のホウ素原子濃度の決定
発行日 (Publication date): 2010-07-09
更新日：確認日 (Update date,Date confirmed): 2021-10-05
状態 (Status): 公開中,公開済み (Published)
改訂 (Edition): 2
PDF ページ数 (Number of pages): 19
TC（専門委員会）:Technical Committee: ISO/TC 201/SC 6：二次イオン質量分析法 (Secondary ion mass spectrometry)
ICS：International Classification for Standards（国際規格分類）: 71.040.40：化学分析 (Chemical analysis)
ISO 対応 JIS 規格
ICS 対応 JIS 規格: ICS > 71 > 71.040 > 71.040.40

この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。

目標 9 産業、イノベーション、インフラストラクチャ (Industry, Innovation and Infrastructure)
目標 7 手ごろな価格でクリーンなエネルギー (Affordable and Clean Energy)
17の目標 : [Sustainable Development Goal]
SDGsとは、「Sustainable Development Goals（持続可能な開発目標）」の略称で、2015年9月に国連で採択された2030年までの国際開発目標。
17の目標と169のターゲット達成により、「誰一人取り残さない」社会の実現に向け、途上国及び先進国で取り組むものです。