ISO 14701:2018 表面化学分析— X線光電子分光法—酸化ケイ素の厚さの測定

ISO14701:2018の規格概要

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Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Measurement of silicon oxide thickness

この文書は、X線光電子分光法を使用して測定した場合の二酸化ケイ素の等価厚さとして、（100）および（111）シリコンウェーハの表面の酸化物の厚さを測定するためのいくつかの方法を指定します。

これは、平坦で研磨されたサンプル、およびAlまたはMg X線源、定義された光電子放出角度を可能にするサンプルステージ、および6°コーン未満に制限できる入力レンズを備えた分光計を組み込んだ機器にのみ適用できます。

セミアングル。

厚さが1nm〜8 nmの範囲の熱酸化物の場合、このドキュメントで説明されている最良の方法を使用すると、95％の信頼水準での不確かさは、通常、約2％、最適では約1％になる可能性があります。

より単純な方法も、わずかに劣るが、多くの場合適切な不確実性を伴って与えられます。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。