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※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
3 用語と定義
このドキュメントの目的のために、ISO 11145 および ISO 21254-1 に記載されている用語と定義が適用されます。
参考文献
| [1] | ISO 10110-7, 光学およびフォトニクス — 光学素子およびシステムの図面の作成 — 7: 表面の欠陥の許容範囲 |
| [2] | ISO 13696, 光学および光学機器 — 光学部品によって散乱される放射線の試験方法 |
| [3] | ISO 13697, 光学およびフォトニクス — レーザーおよびレーザー関連機器 — 光レーザー コンポーネントの鏡面反射率および正透過率の試験方法 |
| [4] | ISO 14997, 光学およびフォトニクス — レーザーおよびレーザー関連機器 — 光学要素の表面欠陥の試験方法 |
| [5] | K Starke 、TG roßおよびD R istauによる超短パルス レーザー システム用チャープ ミラーのレーザー誘起損傷調査、Proc. SPIE, vo 434, pp. 528–534, 第 32 回光学材料のレーザー誘起損傷に関する年次シンポジウム議事録、2001 年 |
| [6] | H. K üsterおよび J. Ebertによる、酸化物層における吸収の焦電測定と損傷閾値との相関関係。 、NBS特別刊行物vo 56, pp. 269-281, 光学材料におけるレーザー誘起損傷に関する第 10 回年次シンポジウムの議事録、1979 年 |
| [7] | K Starke, TG roß、 D Ristau 、W Riggers 、J E bert 、高繰り返し率 Nd:YAG レーザーの光学部品のレーザー誘起損傷閾値、Proc. SPIE, vo 357, pp. 584–593, 第 30 回光学材料のレーザー誘起損傷に関する年次シンポジウム議事録、1999 年 |
| [8] | W. Plassおよび A. Giesen著、CO2 レーザー光学系の応力および欠陥損傷: 損傷分析の時間、Proc. SPIE, vo 271, pp. 166–176, 第 27 回光学材料のレーザー誘起損傷に関する年次シンポジウム議事録、1995 年 |
| [9] | M Rahe 、E Oertel 、L Reinhardt 、D Ristauおよび H Welling 、 10.6 µm での AR コーティングされた ZnSe および金属ミラーの吸収熱量測定およびレーザー誘起損傷しきい値測定、Proc. OF SPI, vol. 1441, pp. 113-126, 光学材料のレーザー誘起損傷に関する第 22 回年次シンポジウム議事録、1990 年 |
| [10] | B laschke H 、 Ristau D 、Welsch E およびApel O, 193 nmでの LIDT 付近の非線形吸収の絶対測定、Proc. SPIE, vo 434, pp. 447–453, 第 32 回光学材料におけるレーザー誘起損傷の年次シンポジウムの議事録、2001 年 |
| [11] | L. Baker著、表面損傷計測: 低コストでの精度、Proc. of SPIE Vol. 4779 (編集: A. Duparré および B. Singh) pp. 41-51, Proceedings of Advanced Characterization Techniques for Optical, Semiconductor, and Data Storage Components, 2002 |
| [12] | B. W u 、U B artuch 、M Jupé 、L Jensen 、M L appchies 、K Starke および D Ristau, Procにおけるレーザー誘起損傷の形態学調査。 SPIE, vo 640, p. 640319 ff.、高出力レーザー用光学材料に関する第 38 回年次シンポジウムの議事録、2006 年 |
| [13] | S Günster 、H Blaschke 、K Starke, D Ristau, M D anailov 、B Diviacco 、A G atto 、N Kaiser 、F S arto 、および E Masetti 、高エネルギーのシンクロトロン放射への曝露後の VUV 光学部品の表面調査、Proc. SPIE, vo 527, pp. 281-287, 第 9 回液体および光屈折結晶の非線形光学に関する国際会議の議事録、2004 |
| [14] | J Neoport 、P Cormont 、P Legros 、C Ambard 、および J Destribats, 共焦点蛍光顕微鏡法による研削溶融シリカ光学系の表面下損傷のイメージング、Opt Express 17, 3543-3554, 2009 |
| [15] | L L amaignère 、V C avarro 、C Allais 、D Bernardino 、M J osse 、および H Bercegol 、 1064 nm でのハフニア/シリカ多層ミラーの反射率、プラズマ形成、および損傷の時間分解測定、進行中。 SPIE, vo 467, pp. 410-419, 第 33 回光学材料のレーザー誘起損傷に関する年次シンポジウム議事録、2001 年 |
| [16] | A. D uring 、M. Commandré 、C. Fossati 、B. Bertussi 、JY Natoli 、JL R ullierおよび P. Bouchut, 統合された光熱顕微鏡およびレーザー損傷試験施設によるナノ欠陥誘発損傷の現場調査、オプティクスエクスプレス11, 2497(2003) |
| [17] | A. D uring 、C. Fossatiおよび M. Commandré 、光学材料のサブミクロン欠陥をイメージングするための光熱偏向顕微鏡法、Optics Communications 230, 279 (2004) |
| [18] | B. Bertussi 、JY N atoliおよび M. Commandré 、高解像度光熱顕微鏡: 光学コーティングの分離吸収欠陥の検出のための非常に高感度のツール、Applied optics 45, 1410 (2006) |
3 Terms and definitions
For the purposes of this document, the terms and definitions given in ISO 11145 and ISO 21254-1 apply.
Bibliography
| [1] | ISO 10110-7, Optics and photonics — Preparation of drawings for optical elements and systems — 7: Surface imperfection tolerances |
| [2] | ISO 13696, Optics and optical instruments — Test methods for radiation scattered by optical components |
| [3] | ISO 13697, Optics and photonics — Lasers and laser-related equipment — Test methods for specular reflectance and regular transmittance of optical laser components |
| [4] | ISO 14997, Optics and photonics — Lasers and laser-related equipment — Test methods for surface imperfections of optical elements |
| [5] | K. Starke, T. Groß and D. Ristau, Laser-induced damage investigation in chirped mirrors for ultrashort pulse laser systems, in Proc. of SPIE, vol. 4347 (edited by G.J. Exarhos, A.H. Guenther, M.R. Kozlowski, K.L. Lewis and M.J. Soileau), pp. 528–534, Proceedings of the 32th Annual Symposium on Laser-Induced Damage in Optical Materials, 2001 |
| [6] | H. Küster and J. Ebert, Pyroelectric measurement of absorption in oxide layers and correlation to damage threshold., in NBS Special Publication vol. 568 (edited by H.E. Bennett, A.J. Glass, A.H. Guenther and B.E. Newnam), pp. 269-281, Proceedings of the 10th Annual Symposium on Laser-Induced Damage in Optical Materials, 1979 |
| [7] | K. Starke, T. Groß, D. Ristau, W. Riggers and J. Ebert, Laser-induced damage threshold of optical components for high repetition rate Nd:YAG-lasers, in Proc. of SPIE, vol. 3578 (edited by H.E. Bennett, A.H. Guenther, M.R. Kozlowski, B.E. Newnam and M.J. Soileau), pp. 584–593, Proceedings of the 30th Annual Symposium on Laser Induced Damage in Optical Materials, 1999 |
| [8] | W. Plaß and A. Giesen, Stress- and defect damage of CO2-laseroptics: time of damage analysis, in Proc. of SPIE, vol. 2714 (edited by H.E. Bennett, A.H. Guenther, M.R. Kozlowski, B.E. Newnam and M.J. Soileau), pp. 166–176, Proceedings of the 27th Annual Symposium on Laser-Induced Damage in Optical Materials, 1995 |
| [9] | M. Rahe, E. Oertel, L. Reinhardt, D. Ristau and H. Welling, Absorption Calorimetry and Laser Induced Damage Threshold Measurements of AR-coated ZnSe and Metal Mirrors at 10.6 µm, Proc. Of SPIE (edited by H.E. Bennett, L.L. Chase, A.A. Guenther, B.E. Newnam and M.J. Soileau), vol. 1441, pp. 113-126, Proceedings of the 22nd Annual Symposium on Laser-Induced Damage in Optical Materials, 1990 |
| [10] | H. Blaschke, D. Ristau, E. Welsch and O. Apel, Absolute Measurements of non-linear Absorption near LIDT at 193 nm, in Proc. of SPIE, vol. 4347 (edited by G.J. Exarhos, A.H. Guenther, M.R. Kozlowski, K.L. Lewis and M.J. Soileau), pp. 447–453, Proceedings of the 32th Annual Symposium of Laser Induced Damage in Optical Materials, 2001 |
| [11] | L. Baker, Surface damage metrology: precision at low cost, in Proc. of SPIE Vol. 4779 (edited by. A. Duparré and B. Singh) pp. 41-51, Proceedings of Advanced Characterization Techniques for Optical, Semiconductor, and Data Storage Components, 2002 |
| [12] | B. Wu, U. Bartuch, M. Jupé, L. Jensen, M. Lappschies, K. Starke and D. Ristau, Morphology investigations of laser induced damage, in Proc. of SPIE, vol. 6403 (edited by G.J. Exarhos, A.H. Guenther, K.L. Lewis, D. Ristau, M.J. Soileau and C.J. Stolz), p. 640319 ff., Proceedings of the 38th Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers, 2006 |
| [13] | S. Günster, H. Blaschke, K. Starke, D. Ristau, M. Danailov, B. Diviacco, A. Gatto, N. Kaiser, F. Sarto, and E. Masetti, Surface investigation of VUV-optical components after exposure to high energetic synchrotron radiation, in Proc. of SPIE, vol. 5273 (edited by G.V. Klimusheva, A.G. Iljin and S.A. Kostyukevych), pp. 281-287, Proceedings of the Ninth International Conference on Nonlinear Optics of Liquid and Photorefractive Crystals, 2004 |
| [14] | J. Neauport, P. Cormont, P. Legros, C. Ambard and J. Destribats,Imaging subsurface damage of grinded fused silica optics by confocal fluorescence microscopy, Opt. Express 17 , 3543-3554, 2009 |
| [15] | L. Lamaignère, V. Cavarro, C. Allais, D. Bernardino, M. Josse and H. Bercegol, Time-resolved measurements of reflectivity, plasma formation and damage of Hafnia/Silica multilayers mirrors at 1064 nm, in Proc. of SPIE, vol. 4679 (edited by G.J. Exarhos, A.H. Guenther, M.R. Kozlowski, K.L. Lewis and M.J. Soileau), pp. 410-419, Proceedings of the 33th Annual Symposium on Laser-Induced Damage in Optical Materials, 2001 |
| [16] | A. During, M. Commandré, C. Fossati, B. Bertussi, J.Y. Natoli, J.L. Rullier and P. Bouchut,Integrated photothermal microscope and laser damage test facility for in-situ investigation of nanodefect induced damage, Optics express 11, 2497 (2003) |
| [17] | A. During, C. Fossati and M. Commandré, Photothermal deflection microscopy for imaging sub-micronic defects in optical materials, Optics Communications 230 , 279 (2004) |
| [18] | B. Bertussi, J.Y. Natoli and M. Commandré, High resolution photothermal microscope: a very sensitive tool for the detection of isolating absorbing defects in optical coatings, Applied optics 45 , 1410 (2006) |