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※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
序章
真空チャンバーの内壁や真空チャンバー内のコンポーネントからのガス放出は、真空システムで達成可能な最低圧力とその清浄度を制限します。通常、達成可能な最低圧力は、加速器などの研究施設、分子線エピタキシーなどのクリーンな表面を確保する必要がある施設、または送信機や X 線など、長時間ポンプなしで高真空を確保する必要があるデバイスで重要です。チューブ、医療機器、表面分析機器または断熱パネル。真空の清浄度、つまり、特定のガス種または蒸気が存在しないか、十分に低い分圧であることは、コーティング、EUV リソグラフィ、触媒作用、製薬または食品産業の乾燥プロセスだけでなく、加速器、核融合など、さまざまな産業用途で重要です。したがって、ガス放出速度の測定は、真空技術における品質保証の重要なツールです。このドキュメントでは、ガス放出率測定の結果のトレーサビリティを得る可能性のある、明確に定義された手順を推奨しています。
附属書 A は、測定システムの原理のスキームを列挙している。
Introduction
Outgassing from the inner wall of a vacuum chamber and from components in a vacuum chamber limit the achievable lowest pressure in a vacuum system and its cleanliness. The lowest achievable pressure is usually important in research facilities as accelerators, in facilities that need to ensure a clean surface, e.g. molecular beam epitaxy, or in devices that need to ensure high vacuum without pump for long times, such as transmitters or X-ray tubes, medical instruments, surface analytical instrumentation or insulation panels. Cleanliness of a vacuum, i.e. the absence or sufficiently low partial pressure of specific gas species or vapours, is important in many different industrial applications such as coating, EUV lithography, catalysis, drying processes in the pharmaceutical or food industry but also in accelerators, fusion reactors, etc. The measurement of outgassing rates is therefore an important tool of quality assurance in vacuum technology. This document recommends well-defined procedures with the possibility of getting traceability of the results of an outgassing rate measurement.
Annex A lists schemes of principles of measurement systems.