JIS B 9928:1998 コンタミネーションコントロールに使用するエアロゾルの発生方法

B 9928 : 1998

まえがき

  この規格は,工業標準化法に基づいて,日本工業標準調査会の審議を経て,通商産業大臣が制定した日
本工業規格である。

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                            B 9928 : 1998

コンタミネーションコントロールに使用するエアロゾルの発生方法

Methods of aerosol generation for contamination control

序文 各種の設備機器の性能試験に用いるエアロゾルは,その発生条件の規定がないために,多様な粒度
分布,濃度を示し,性能評価に支障をきたす難点があった。利用頻度の高いエアロゾルの発生方法を選び,
粒子径,分散,濃度の再現性が保たれるように発生方法・条件を整え,性能評価の信頼性を図るために,
JIS B 9928が制定された。
1. 適用範囲 この規格は,コンタミネーションコントロールを目的としたエアフィルタ,ガスラインフ
ィルタ及びこれらに用いるろ材の性能試験,エアフィルタ設置現場試験,光散乱式自動粒子計数器などの
性能試験などに用いる試験用エアロゾルの発生方法について規定する。
2. 引用規格 次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成す
る。これらの引用規格は,その最新版を適用する。
    JIS B 9920 クリーンルーム中における浮遊微粒子の濃度測定方法及びクリーンルームの空気清浄度
        の評価方法
    JIS B 9921 光散乱式自動粒子計数器
    JIS B 9924 表面付着粒子計数器
    JIS K 6753 フタル酸ジオクチル (D. O. P. )
    JIS K 8150 塩化ナトリウム(試薬)
    JIS K 8585 ステアリン酸(試薬)
    JIS Z 8103 計測用語
    JIS Z 8122 コンタミネーションコントロール用語
    JIS Z 8813 浮遊粉じん濃度測定方法通則
    JIS Z 8814 ロウボリウムエアサンプラ
    JIS Z 8901 試験用粉体及び試験用粒子
3. 定義 この規格に用いる主な用語の定義は,JIS Z 8122及びJIS Z 8103によるほか,次による。
a) ガスラインフィルタ 高純度ガスなどのガス供給配管中に取り付け,ガス中に存在する粒子状物質を
    除去するろ過フィルタ
b) ポリスチレン系粒子 ポリスチレン,ポリビニルトルエン,スチレンジビニルベンゼンなどを主成分
    とする極めて粒径のそろった単分散固体粒子で,JIS Z 8901に規定する試験用粒子1

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4. 試験用エアロゾルの種類 この規格で用いる試験用エアロゾルの種類は,表1による。
                                  表1 試験用エアロゾルの種類
                      種類                                    材料
         ポリスチレン系粒子エアロゾル    スチレン,ビニルベンゼン,ビニルトルエン
         ステアリン酸エアロゾル          JIS K 8585に規定する特級
                                         JIS K 6753に規定する2号
         フタル酸ジオクチル (DOP) エアロゾル
                                         (CH2) 6 (CH2COOC8H17) 2, 分子量427芳香性無色の油状液体
         セバシン酸ジオクチル (DOS) エアロゾル
         塩化ナトリウム (NaCl) エアロゾルJIS K 8150に規定する特級
5. 試験用エアロゾルの発生方法
5.1   ポリスチレン系粒子エアロゾル発生方法 ポリスチレン系粒子分散液を噴霧,乾燥する方法,又は
エジェクタを用い,分散・乾燥する方法で,附属書1による。
    参考 ポリスチレン系粒子は,通常超純水に懸濁した状態で市販されている。
5.2   ステアリン酸エアロゾル発生方法 ステアリン酸を加熱によって蒸気化し,凝結核と混合した後に
冷却し,蒸気を核に凝縮させる方法で,附属書2による。
5.3   フタル酸ジオクチル (DOP) エアロゾル発生方法 附属書2, 附属書3又は附属書4による。
5.4   セバシン酸ジオクチル (DOS) エアロゾル発生方法 附属書2, 附属書3又は附属書4による。
5.5   塩化ナトリウム (NaCl) エアロゾル発生方法 食塩水を噴霧・乾燥する方法,又は塩化ナトリウム
を蒸気化し冷却する方法で,附属書5又は附属書6による。
6. 試験用エアロゾルの測定方法
6.1   測定器 測定器は,次のa)   d),又はこれらとe)若しくはf)とを必要に応じて併用する。
a) 光散乱式自動粒子計数器 (JIS B 9921)
b) 凝縮核粒子計数器 (CNC)
c) 電子顕微鏡
d) 光学顕微鏡
e) 微分型電気的移動度分級器 (DMA)
f)  多チャンネル波高分析器 (PHA)
6.2   測定順序 測定順序は,次による。
a) エアロゾル発生器が定常的に作動していることを確認する。
b) 使用する測定器の適用範囲を超えないように必要に応じてエアロゾルの濃度を希釈する。
c) 測定器によって粒径及び濃度を測定する。粒径及び濃度の測定は,JIS B 9920の5.(浮遊微粒子の濃
    度測定方法)の5.1(測定方法)による。
d) 測定結果から個数中央径 (CMD) , 及び幾何標準偏差(      最     は変動係数(CV値)を求める。ただし,ポ
    リスチレン系粒子の場合は,ポリスチレン系粒子分散液に表示された平均粒径(          び変動係数 (%)
    の値を使用してもよい。
7. 記録 試験用エアロゾルの発生結果は,次の事項を記録すること。
a) 試験日時,気温及び湿度
b) エアロゾルの種類
c) エアロゾル発生装置の名称

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                                                                                   B 9928 : 1998
d) 測定方法
e) 発生条件    (1)  空気又はガスの圧力及び流量
               (2)  温度
f)  発生量及び変動幅(%/発生時間)
g) 個数中央径 (CMD) (  
h) 幾何標準偏差(      最    は変動係数(CV値) (%)
    備考 発生結果の記録例を,表2に示す。
関連規格 JIS B 9908 換気用エアフィルタユニット
          JIS B 9927 クリーンルーム用エアフィルタ−性能試験方法
          JIS Z 4812 放射性エアロゾル用高性能エアフィルタ
          JIS Z 8814 ロウボリウムエアサンプラ
                           表2 試験用エアロゾル発生結果の記録(例)
                         光散乱式自動粒子計数器を用いた測定による記録
              1)  試験年月日              温度         湿度          試験者
              2)  エアロゾルの種類
              3)  エアロゾル発生装置名称                             測定方法
              4)  測定器名                形式         試料流量      l/min.
                  最大定格粒子濃度
                  [発生結果]
                  個数中央径 (CMD)
                  幾何標準偏差( 最
                  平均粒子濃度
                  最大粒子濃度
                  最小粒子濃度
                              光学顕微鏡を用いた測定法による記録
              1)  試験年月日              温度         湿度          試験者
              2)  エアロゾルの種類
              3)  エアロゾルの発生装置名
                  称
              4)  試料の内容
              5)  試料捕集の内容
                              電子顕微鏡を用いた測定法による記録
              1)  試験年月日              温度         湿度          試験者
              2)  エアロゾルの種類
              3)  エアロゾル発生装置名称
              4)  測定器名
              5)  試料の内容
              6)  粒子捕集の内容

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B 9928 : 1998
         附属書1(規定)        ポリスチレン系粒子エアロゾルの発生方法
1. 適用範囲 この附属書は,粒径が既知のポリスチレン系粒子エアロゾルを発生する方法について規定
する。
2. 原理 ポリスチレン系粒子をエアロゾル発生装置を用いて清浄空気中に噴霧,乾燥し,ポリスチレン
系粒子だけが清浄空気中に分散している状態とする。
3. 発生装置の種類 ポリスチレン系粒子エアロゾル発生装置には,附属書1図1に示すようなガス供給
系,噴霧器及び乾燥・希釈器によって構成される低濃度(10/ml程度以下)のエアロゾル発生装置と,附
属書1図4に示すガス供給系及びエジェクタによって構成される高濃度(106/ml程度以下)のエアロゾル
発生装置とがある。
  低濃度エアロゾル発生装置は,主として光散乱式自動粒子計数器の校正に用いられ,高濃度エアロゾル
発生器は,エアフィルタ,ガスラインフィルタ及びこれに用いられるろ材試験などに用いる。
4. 低濃度エアロゾル発生装置
4.1   低濃度エアロゾル発生装置の構成例
a) ガス供給系 ガス供給源から,除湿器,又は冷却乾燥器,圧力調整器及びフィルタを通し,安定的に
    噴霧器へ清浄ガスを供給する。ガスの相対湿度は,10%以下とする。
b) 噴霧器 加圧したガスを細いノズルから噴き出し,毛細管でポリスチレン系粒子の分散液を吸い上げ,
    微小な液滴として飛散させる。噴霧器の構造の一例を附属書1図2に示す。
c) 乾燥・希釈器 噴霧器によって噴霧されたポリスチレン系粒子を含む液滴の水分などを乾燥空気と混
    合することによって蒸発させる。液滴群と乾燥ガスとの混合が十分行われるように,気流を回転させ
    る構造の例を附属書1図3に示す。
4.2   低濃度エアロゾル発生装置に適用するポリスチレン系粒子
a) ポリスチレン系粒子分散液の濃度 ポリスチレン系粒子分散液を超純水などで希釈し,濃度は108/m1
    以下とする。
b) ポリスチレン系粒子の粒径範囲 低濃度エアロゾル発生装置に適用するポリスチレン系粒子の粒径は,
    0.11         
5. 高濃度エアロゾル発生装置
5.1   高濃度エアロゾル発生装置の構成例
a) ガス供給系 ガス供給源から,圧力調整器及びフィルタを通し,安定的に噴霧器へ清浄ガスを供給す
    る。ガスの相対湿度は,10%以下とする。
b) 噴霧器 キャピラリを通してポリスチレン系粒子の分散液をエジェクタの狭あい部(スロート)中央
    に送り,高速のガスによって分散液を微分散,乾燥させてポリスチレン系粒子エアロゾルを発生させ
    る。噴霧器の構成例を附属書1図4に示す。
      エジェクタの構造の例を附属書1図5に示す。

――――― [JIS B 9928 pdf 5] ―――――

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