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※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
導入
X 線光電子分光法 (XPS) は、材料の表面 (1 nm ～ 10 nm) 分析に広く使用されています。サンプル中の元素 (水素とヘリウムを除く) は、そのコア準位の測定された結合エネルギーと、さまざまな元素のエネルギーの表との比較から特定されます。それらの化学状態は、その元素の純粋な元素状態のデータと比較したピーク位置やその他のパラメーターのシフトから決定できます。このような元素の量に関する情報は、光電子ピークの測定強度から導き出すことができます。次に、調査対象の表面層 (外側 1 nm ～ 10 nm) に存在する構成化学種の量の計算は、分光計の製造元が提供する式と相対感度係数、または局所的に測定された相対感度係数と適切なソフトウェアを使用して行うことができます。
このガイダンス文書は、X 線光電子分光計のオペレーターが典型的なサンプルの表面 (外側 1 nm ～ 10 nm) を分析するのを支援することを目的としています。
Introduction
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is used extensively for the surface (1 nm to 10 nm) analysis of materials. Elements in the sample (with the exception of hydrogen and helium) are identified from comparisons of the measured binding energies of their core levels with tabulations of those energies for the different elements. Their chemical states may be determined from shifts in peak positions and other parameters compared with the data for that element in its pure elemental state. Information on the quantities of such elements can be derived from the measured intensities of photoelectron peaks. Calculation of the quantities of the constituent chemical species present in the surface layer studied (outer 1 nm to 10 nm) may then be made using formulae and relative-sensitivity factors provided by the spectrometer manufacturer or locally measured relative-sensitivity factors and appropriate software.
This guidance document is intended to aid the operators of X-ray photoelectron spectrometers in their analysis of the surfaces (outer 1 nm to 10 nm) of typical samples.