ISO 14706:2014 表面化学分析—全反射蛍光X線(TXRF)分光法によるシリコンウェーハの表面元素汚染の測定

ISO 14706:2014の概要

ISO14706:2014の規格概要

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Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

ISO 14706:2014は、化学機械的に研磨された、またはエピタキシャルシリコンウェーハ表面の元素汚染の原子面密度を測定するためのTXRF法を指定しています。この方法は、以下に適用できます。原子番号が16 (S) から92 (U) の元素。原子表面密度が1×1010原子/ cm2から1×1014原子/ cm2の汚染元素。 VPD(気相分解)試料調製法を使用した、原子表面密度が5×108原子/ cm2から5×1012原子/ cm2の汚染元素。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。

ISO14706:2014 国際規格 情報

ISO 国際規格番号
ISO 14706:2014
ISO 国際規格名称
Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
ISO 規格名称 日本語訳
表面化学分析 — 全反射蛍光X線(TXRF)分光法によるシリコンウェーハの表面元素汚染の測定
発行日 (Publication date)
2014-08
更新日:確認日 (Update date,Date confirmed)
2021-06-17
状態 (Status)
公開済み (Published)
改訂 (Edition)
2
PDF ページ数 (Number of pages)
25
TC(専門委員会):Technical Committee
ISO/TC 201 表面化学分析:(Surface chemical analysis)
ICS:International Classification for Standards(国際規格分類)
71.040.40:Chemical analysis,
ISO 対応 JIS 規格
表面化学分析-全反射蛍光X線分析法(TXRF)によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法,
ICS 対応 JIS 規格
71.040.40

ISO 14706:2014 関連規格 履歴一覧

ISO14706:2014 対応 JIS 規格一覧

ISO14706:2014 ICS 対応 JIS 規格

ICS > 71:化学技術 > 71.040:分析化学 > 71.040.40:化学分析

ISO 14706:2014 修正 一覧 (Amendments)

ISO 14706:2014 正誤表 一覧 (Corrigenda)

ISO 14706:2014 規格の現段階 ステージ (Stage codes: 90) 見直

サブステージコード 90.93 国際標準を確認 (International Standard confirmed)

ISO 14706:2014 持続可能な開発目標 SDGS

この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。