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ISO 17331:2004の概要
ISO17331:2004の規格概要
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Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
ISO 17331:2004 では、気相分解法または直接酸液滴分解法によりシリコンウェーハ作業標準物質の表面から鉄および/またはニッケルを収集するための化学的方法が規定されています。
これは、1 平方センチメートルあたり 6 × 10 の 9 乗原子から 1 平方センチメートルあたり 5 × 10 の 11 乗原子までの鉄および/またはニッケルの原子表面密度に適用されます。
※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
ISO17331:2004 国際規格 情報
- ISO 国際規格番号
- ISO 17331:2004
- ISO 国際規格名称
- Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
- ISO 規格名称 日本語訳
- 表面化学分析 — シリコンウェーハ作業標準物質の表面から元素を収集し、全反射蛍光 X 線 (TXRF) 分光法によって元素を測定するための化学的方法
- 発行日 (Publication date)
- 2004-05
- 更新日：確認日 (Update date,Date confirmed)
- 2025-03-05
- 状態 (Status)
- 公開済み (Published)
- 改訂 (Edition)
- 1
- PDF ページ数 (Number of pages)
- 18
- TC（専門委員会）:Technical Committee
- ISO/TC 201 表面化学分析：(Surface chemical analysis)
- ICS：International Classification for Standards（国際規格分類）
- 71.040.40：Chemical analysis,
- ISO 対応 JIS 規格
- 表面化学分析―シリコンウェーハ表面からの金属の化学的回収方法及び全反射蛍光X線(TXRF)分析法による定量方法,
- ICS 対応 JIS 規格
- 71.040.40
ISO 17331:2004 関連規格 履歴一覧
ISO17331:2004 対応 JIS 規格一覧
ISO17331:2004 ICS 対応 JIS 規格
ICS > 71：化学技術 > 71.040：分析化学 > 71.040.40：化学分析
ISO 17331:2004 修正 一覧 (Amendments)
ISO 17331:2004 正誤表 一覧 (Corrigenda)
ISO 17331:2004 規格の現段階 ステージ (Stage codes: 90) 見直
サブステージコード 90.60 レビュー終了 (Close of review)
ISO 17331:2004 持続可能な開発目標 SDGS
この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。
- 目標 7 手ごろな価格でクリーンなエネルギー (Affordable and Clean Energy)
- 目標 9 産業、イノベーション、インフラストラクチャ (Industry, Innovation and Infrastructure)
- 17の目標 : [Sustainable Development Goal]
SDGsとは、「Sustainable Development Goals（持続可能な開発目標）」の略称で、2015年9月に国連で採択された2030年までの国際開発目標。17の目標と169のターゲット達成により、「誰一人取り残さない」社会の実現に向け、途上国及び先進国で取り組むものです。