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ISO 23812:2009 表面化学分析—二次イオン質量分析—複数のデルタ層標準物質を使用したシリコンの深さキャリブレーションの方法

ISO 23812:2009の概要

ISO23812:2009の規格概要

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Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials

ISO 23812:2009は、複数のデルタ層参照材料を使用して、シリコンのSIMS深さプロファイリングで深さ50 nm未満の浅い領域の深さスケールを較正する手順を指定しています。

※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。

ISO23812:2009 国際規格 情報

ISO 国際規格番号
ISO 23812:2009
ISO 国際規格名称
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
ISO 規格名称 日本語訳
表面化学分析 — 二次イオン質量分析 — 複数のデルタ層参照物質を使用したシリコンの深さキャリブレーションの方法
発行日 (Publication date)
2009-04-08
更新日：確認日 (Update date,Date confirmed)
2020-01-21
状態 (Status)
公開中,公開済み (Published)
改訂 (Edition)
1
PDF ページ数 (Number of pages)
19
TC（専門委員会）:Technical Committee
ISO/TC 201/SC 6：二次イオン質量分析法 (Secondary ion mass spectrometry)
ICS：International Classification for Standards（国際規格分類）
71.040.40：化学分析 (Chemical analysis)
ISO 対応 JIS 規格
JIS K 0156:2018 (IDT),
ICS 対応 JIS 規格
ICS > 71 > 71.040 > 71.040.40

ISO 23812:2009 関連規格 履歴一覧

ISO23812:2009 対応 JIS 規格一覧

ISO23812:2009 ICS 対応 JIS 規格

ICS > 71：化学技術  > 71.040：分析化学  > 71.040.40：化学分析

正誤表/修正 一覧 (Corrigenda/Amendments)

改訂 一覧 (Revised)

SDGs 情報

この規格は、以下の持続可能な開発目標 (Sustainable Development Goal)に貢献します。