JIS R 6001-2:2017 研削といし用研削材の粒度―第2部:微粉 | ページ 2

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5.3 精密研磨用微粉の標準粒度分布

  精密研磨用微粉の標準粒度分布は,次の4条件を同時に満足しなければならない。
a) 累積高さ分率0 %点の粒子径(ds0)の上限値
b) 累積高さ分率3 %点の粒子径(ds3)の上限値
c) 累積高さ分率50 %点の粒子径(ds50)の値及びその許容差
d) 累積高さ分率75 %点の粒子径(ds75)又は累積高さ分率94 %点の粒子径(ds94)の下限値
沈降管試験方法の標準粒度分布は表4に,電気抵抗試験方法の標準粒度分布は表5による。
表4−精密研磨用微粉の標準粒度分布(沈降管試験方法)
単位 m
粒度 ds0の上限値 ds3の上限値 ds50の粒子径及び ds94の下限値
その許容差
#240 127 90 60.0±4.0 48
#280 112 79 52.0±3.0 41
#320 98 71 46.0±2.5 35
#360 86 64 40.0±2.0 30
#400 75 56 34.0±2.0 25
#500 65 48 28.0±2.0 20
#600 57 43 24.0±1.5 17
#700 50 39 21.0±1.3 14
#800 46 35 18.0±1.0 12
#1000 42 32 15.5±1.0 9.5
#1200 39 28 13.0±1.0 7.8
#1500 36 24 10.5±1.0 6.0
#2000 33 21 8.5±0.7 4.7
#2500 30 18 7.0±0.7 3.6
#3000 28 16 5.7±0.5 2.8

――――― [JIS R 6001-2 pdf 6] ―――――

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表5−精密研磨用微粉の標準粒度分布(電気抵抗試験方法)
単位 m
粒度 ds0の上限値 ds3の上限値 ds50の粒子径及び ds75/94の下限値a)
その許容差
#240 127 103 57.0±3.0 40
#280 112 87 48.0±3.0 33
#320 98 74 40.0±2.5 27
#360 86 66 35.0±2.0 23
#400 75 58 30.0±2.0 20
#500 63 50 25.0±2.0 16
#600 53 43 20.0±1.5 13
#700 45 37 17.0±1.3 11
#800 38 31 14.0±1.0 9.0
#1000 32 27 11.5±1.0 7.0
#1200 27 23 9.5±0.8 5.5
#1500 23 20 8.0±0.6 4.5
#2000 19 17 6.7±0.6 4.0
#2500 16 14 5.5±0.5 3.0
#3000 13 11 4.0±0.5 2.0
#4000 11 8.0 3.0±0.4 1.3
#6000 8.0 5.0 2.0±0.4 0.8
#8000 6.0 3.5 1.2±0.3 0.6
注a) s75/94の下限値は,#8000の場合はds75で,それ以外はds94とする。

5.4 粒度分布の許容差

  一般研磨用微粉の測定条件によって発生する誤差による粒度分布の許容差は,表6及び表7による。こ
こで,測定条件とは,サンプリング方法,操作方法,作業者,装置の違いをいう。この粒度分布の許容差
は,表2又は表3の値に加算して使用できる。
なお,精密研磨用微粉の粒度分布の許容差は,規定がない。
表6−一般研磨用微粉の粒度分布の許容差(X線透過沈降試験方法及び電気抵抗試験方法)
単位 m
粒度 ds3 ds50 ds80 ds94
F230 +3.5 ±2.5 − −1.5
F240 +3.5 ±2.5 − −1.5
F280 +2.5 ±1.5 − −0.8
F320 +2.5 ±1.5 − −0.8
F360 +2.5 ±1.5 − −0.8
F400 +2.5 ±1.5 − −0.8
F500 +2.0 ±1.0 − −0.5
F600 +2.0 ±1.0 − −0.5
F800 +2.0 ±1.0 − −0.5
F1000 +1.5 ±0.5 − −0.4
F1200 +1.5 ±0.5 −0.4 −
F1500 +1.0 ±0.4 −0.3 −
F2000 +1.0 ±0.3 −0.2 −

――――― [JIS R 6001-2 pdf 7] ―――――

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表7−一般研磨用微粉の粒度分布の許容差(沈降管試験方法)
単位 m
粒度 ds3 ds50 ds80 ds95
F230 +1.5 ±1.5 − −1.5
F240 +1.5 ±1.5 − −1.5
F280 +1.5 ±1.0 − −1.5
F320 +1.5 ±1.0 − −1.5
F360 +1.5 ±1.0 − −1.5
F400 +1.5 ±1.0 − −1.5
F500 +1.5 ±0.8 − −1.5
F600 +1.5 ±0.8 − −1.5
F800 +1.5 ±0.8 − −1.5
F1000 +1.5 ±0.5 − −1.5
F1200 +1.5 ±0.5 −1.5 −

6 粒度分布試験

6.1 X線透過沈降試験方法による粒度分布試験

6.1.1  一般
X線透過沈降試験方法を用いた粒度分布試験は,一般研磨用微粉の粒度分布測定に適用する。
X線透過沈降試験方法は,液体中に分散した粉体の粒度分布を重力沈降によって測定する方法である。
懸濁液中の固体の割合は,X線ビームの強度の変化によって求められる。この粒度分布測定方法を適用で
きる粉体は,液体に分散することができるか又はスラリー状に存在するものだけである。測定できる粒子
径の範囲は,およそ0.1 m300 mである。この方法は一般的に,適正なX線不透過性がある均一な化
学組成の粒子に対して行われる。
この試験方法による一般研磨用微粉の測定には,測定値を補正するために,マイクロFマスターグリッ
ド(以下,MGという。)を用いる。これと同等の結果が得られる市販品であるならば,それを使用しても
よい。
なお,X線透過沈降試験方法及び電気抵抗試験方法以外の測定方法にMGを用いて粒子径の補正をして
はならない。
注記 一般研磨用微粉用のMGは,例えばドイツ連邦共和国材料試験機関研削製品材料部Staatliche
Materialpruefungsanstalt Darmstadt(MPA)から入手できる。
なお,精密研磨用微粉用のMGに相当するものは,市販されていないためこの方法での試験
を行うことができない。
6.1.2 測定装置
6.1.2.1 測定装置の構成
測定装置は,図1に示すように,試料ポンプ,試料容器,X線源の位置決め及び試料容器の作動装置,
試料容器に照射されて通過したX線の検出器及び適正な電源装置で構成する。

――――― [JIS R 6001-2 pdf 8] ―――――

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1 試料容器 10 デジタル位置変換器
2 スリット 11 ポンプ速度
3 X線検出器 12 試料ポンプ
4 強度−光電子増倍管 13 試料分散混合槽
5 ADC(アナログ−デジタルコンバータ) 14 高圧電源及び変圧器
6 集中度信号(Y信号) 15 X線管
7 小型制御器及びインターフェイス制御器 16 粒子径(X)と割合%(Y)とのグラフ
8 DAC(デジタル−アナログコンバータ) 17 測定及び解析用パソコン
9 位置信号(X信号)
図1−X線透過沈降試験方法の測定装置の構成例
6.1.2.2 沈降媒
沈降媒は,表8のイオン交換水又はイオン交換水とJIS K 8105に規定するエチレングリコール(1,2-エ
タンジオール)(C2H6O2)との混合物を用いる。
6.1.2.3 分散剤
分散剤は,表8のピロりん酸ナトリウム(二りん酸ナトリウム)(Na4P2O7)を用いる。
6.1.2.4 粘度及び密度
粘度は,沈降媒中のイオン交換水の含有量を調整して適合させる。粘度の測定は,JIS Z 8803に規定す
る“キャノン−フェンスケ粘度計”又は“ウベローデ粘度計”を用いる。粘度の許容差は,表8の値の
±0.1 MPa・sである。また,密度の測定は,JIS Z 8804に規定する“比重瓶”を用いる。

――――― [JIS R 6001-2 pdf 9] ―――――

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表8−アルミナ質及び炭化けい素質粒子の沈降試験用の沈降媒及び分散剤
粒度 沈降媒 分散剤(ピロりん酸ナトリウム)
20 ℃ の添加量 g/l
組成(体積分率 %) 粘度及び密度 アルミナ質 炭化けい素質
F230 エチレングリコール 95 % 粘度 15.2 MPa・s 0.2 0.2
F240 イオン交換水 5 % 密度 1.107 g/cm3
F280 エチレングリコール 74 % 粘度 7.7 MPa・s 0.2 0.2
F320 イオン交換水 26 % 密度 1.091 g/cm3
F360
F400
F500 イオン交換水 − 0.45 0.2
F600 導電率 ≦5 S 0.1
F800
F1000 イオン交換水 − 0.45 無添加
F1200 導電率 ≦5 S
F1500
F2000
6.1.3 試料の準備
粒度を測定する試料は,超音波振動機を用いてあらかじめ分散させておく。
6.1.4 測定装置の操作手順
測定装置の操作手順は,使用する装置の取扱説明書に従う。
6.1.5 粒度の評価方法
一般研磨用微粉の場合は,6.2の電気抵抗試験方法においても6.1.5.1及び6.1.5.2の方法を適用すること
ができる。
6.1.5.1 粒度分布の補正
最初に,この試験方法で正しい値を求めるために,MGに附属する標準値と,実際に使用する装置によ
ってMGを測定した値との差から,計算に用いる補正値を求める。次に,この補正値を,試料の3 %,50 %,
80 %又は94/95 %の測定値に加算することによって補正後の値を求める。
具体的には,次の手順で行う。
a) s50の場合は,MGに附属するds50の標準値及びMGのds50測定値から補正値を求める。
(MGに附属するds50の標準値)−(MGのds50測定値)=(補正値)
ds3及びds80又はds94/95についても,それぞれ同じ手順で行う。
b) 試料のds3,ds50,ds80又はds94/95の値を測定する。その値にa)で求めたMGの補正値をそれぞれ加算し
て補正後の値を求める。
(試料の測定値)+(補正値)=(補正後の値)
例 SiC F240 ds50の値の求め方
a) Gの場合
− MG ds50 MPAの標準値 44.9 m
− MG ds50の測定値 42.3 m
− 差(補正値) 44.9−42.3=+2.6 m
b) 測定試料の場合
− ds50の測定値 42.8 m

――――― [JIS R 6001-2 pdf 10] ―――――

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  • ISO 8486-2:2007(MOD)

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