JIS Z 8750:2009 真空計校正方法

JIS Z 8750:2009 規格概要

この規格 Z8750は、参照真空計との直接比較による真空計の校正方法について規定。

JISZ8750 規格全文情報

規格番号
JIS Z8750 
規格名称
真空計校正方法
規格名称英語訳
Methods of calibration for vacuum gauges
制定年月日
1962年6月1日
最新改正日
2018年10月22日
JIS 閲覧
‐ 
対応国際規格

ISO

ISO/TS 3567:2005(MOD)
国際規格分類

ICS

23.160
主務大臣
経済産業
JISハンドブック
‐ 
改訂:履歴
1962-06-01 制定日, 1965-06-01 確認日, 1968-06-01 確認日, 1971-10-01 確認日, 1976-03-01 改正日, 1979-03-01 確認日, 1984-07-01 確認日, 1989-02-01 確認日, 1994-03-01 改正日, 2000-01-20 確認日, 2005-03-20 確認日, 2009-03-20 改正日, 2013-10-21 確認日, 2018-10-22 確認
ページ
JIS Z 8750:2009 PDF [18]
                                                                                   Z 8750 : 2009

pdf 目 次

ページ

  •  序文・・・・[1]
  •  1 適用範囲・・・・[1]
  •  2 引用規格・・・・[1]
  •  3 用語及び定義・・・・[2]
  •  4 量記号,記号及び略号・・・・[4]
  •  5 一般原則・・・・[4]
  •  6 要求事項・・・・[4]
  •  6.1 校正容器の設計・・・・[4]
  •  6.2 真空計の取付配管・・・・[5]
  •  6.3 排気系及び気体導入系・・・・[6]
  •  6.4 校正気体・・・・[6]
  •  6.5 温度計及び環境条件・・・・[6]
  •  6.6 参照真空計・・・・[6]
  •  7 校正・・・・[7]
  •  7.1 手順・・・・[7]
  •  7.2 測定の評価・・・・[8]
  •  7.3 測定の不確かさ・・・・[8]
  •  8 校正証明書・・・・[9]
  •  附属書A(参考)校正システムの構成の一例・・・・[11]
  •  附属書B(参考)校正上の注意点・・・・[12]
  •  附属書JA(参考)JISと対応する国際規格との対比表・・・・[15]

(pdf 一覧ページ番号 1)

――――― [JIS Z 8750 pdf 1] ―――――

Z 8750 : 2009

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,独立行政法人産業
技術総合研究所(AIST)及び日本真空協会(VSJ)から工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を改正すべきとの
申出があり,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)である。
これによって,JIS Z 8750:1994は改正され,この規格に置き換えられた。
この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に
抵触する可能性があることに注意を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許
権,出願公開後の特許出願,実用新案権及び出願公開後の実用新案登録出願にかかわる確認について,責
任はもたない。

(pdf 一覧ページ番号 2)

――――― [JIS Z 8750 pdf 2] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
Z 8750 : 2009

真空計校正方法

Methods of calibration for vacuum gauges

序文

  この規格は,2005年に第1版として発行されたISO/TS 3567を基に,技術的内容を変更して作成した日
本工業規格である。
なお,この規格で点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格を変更している事項である。変更の一
覧表にその説明を付けて,附属書JAに示す。

1 適用範囲

  この規格は,参照真空計との直接比較による真空計の校正方法について規定する。この規格は,適切な
校正を行うために満たすべき物理的,技術的及び計測学的条件を規定している。この規格に規定した条件
によって適切に真空計の校正をするための装置の設計指針を示す。
真空計は,測定子,ケーブル,制御計測部,信号読出し装置など幾つかの部分から構成され,これらの
装置全体を被校正真空計とする。測定子だけを校正する場合,他のすべての装置の種類又は条件を記録し
て,校正された測定子の使用者が校正時と同じ状態で測定できるようにする。
参照真空計は,国家標準又は一次標準にトレーサブルな真空計(通常の場合),又はSIトレーサブルで
不確かさの付いた絶対真空計(まれな場合)を使用する。
この規格は,参照真空計又は被校正真空計として特定の真空計についての使用方法などを規定するもの
ではない。この規格で取り扱う真空計の校正圧力範囲は10−6 Pa110 kPaを規定するが,実際に適用でき
る範囲は使用する校正装置の性能又は参照真空計の種類に依存する。
注記1 この規格は,一般的な真空環境の作製方法及び測定方法に精通している者を対象とする。
注記2 国家標準又は一次標準にトレーサブルな真空計には,通常JIS Q 17025の5.10(結果の報告)
に従った証明書が付加されている。
注記3 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。
ISO/TS 3567:2005,Vacuum gauges−Calibration by direct comparison with a reference gauge
(MOD)
なお,対応の程度を表す記号(MOD)は,ISO/IEC Guide 21に基づき,修正していることを
示す。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
JIS Q 17025 試験所及び校正機関の能力に関する一般要求事項

――――― [JIS Z 8750 pdf 3] ―――――

2
Z 8750 : 2009
注記 対応国際規格 : ISO/IEC 17025,General requirements for the competence of testing and calibration
laboratories (IDT)
JIS Z 8103 計測用語
JIS Z 8126-1 真空技術−用語−第1部 : 一般用語
JIS Z 8126-2 真空技術−用語−第2部 : 真空ポンプ及び関連用語
JIS Z 8126-3 真空技術−用語−第3部 : 真空計及び関連用語
JIS Z 8703 試験場所の標準状態
ISO/IEC Guide 98-3,Uncertainty of measurement−Part 3: Guide to the expression of uncertainty in
measurement (GUM:1995)

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS Q 17025,JIS Z 8103,JIS Z 8126-1,JIS Z 8126-2,JIS Z 8126-3,
及びJIS Z 8703によるほか,次による。
3.1
一次標準(primary standard)
最高の特性をもち,同一の量の他の標準への参照なしにその値が認められた標準。
3.2
国家標準(national standard)
国家による公式な決定によって認められた標準であって,当該量の他の標準に値付けするための基礎と
して国内で用いられるもの。
3.3
参照標準(reference standard)
一般に,ある場所又はある組織内で利用できる最高の計量性能をもち,そこで行う測定の基になる標準。
3.4
真空計(vacuum gauge)
気体及び蒸気の大気圧より低い圧力を測定する計器。
注記 普通に使われている真空計には,圧力を直接には測定せず,特定の条件の下で圧力に関連した
他の物理量を測定しているものが多い。
3.5
測定子(gauge head)
真空計において,感圧機能を備え,真空系に取り付ける真空計の構成部品。
3.6
制御計測部(operational device)
測定子を作動させ計測する真空計の構成部品。
3.7
被校正真空計(unit under calibration)
校正対象となる真空計。
3.8
取付フランジ(entrance flange)
被校正真空計又は参照真空計を校正容器に取り付けるためのフランジ。

――――― [JIS Z 8750 pdf 4] ―――――

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Z 8750 : 2009
3.9
校正容器(calibration chamber)
校正のために参照標準及び被校正真空計を取り付ける真空容器。
3.10
取付口(entrance mouth)
被校正真空計,参照真空計又は他の校正用機器を取り付ける校正容器の開口部。
3.11
校正気体(calibration gas)
校正容器内部の圧力を変化させるために使用する単体又は混合の気体。
3.12
収着(sorption)
固体又は液体による気体分子又は蒸気分子の取込み。吸着及び吸収の二つの現象を含んでいる。
3.13
脱離(desorption)
収着されていた気体分子又は蒸気分子の放出。
3.14
気体放出速度(outgassing rate)
物質の単位表面から単位時間に放出する気体の量(pV値)又は分子の数。
3.15
残留圧力(residual pressure)
校正容器の内部が到達し得る最低の圧力。一般的には校正容器を加熱脱ガス後に24時間排気した後の圧
力をいう。
注記 残留圧力は,校正容器の加熱脱ガスの条件に依存する。
3.16
到達圧力(base pressure)
校正容器に校正のための気体を導入する前の圧力,又は校正後にガス導入バルブを閉じた後の校正容器
の圧力。
注記 到達圧力は,残留圧力と同じか,又は高い。
3.17
気体の量(pV値)
気体の体積と圧力の積。このように定義されたこの物理量は,気体の質量をその単位質量密度の逆数で
乗じた値に等しい。
3.18
加熱脱ガス
真空容器を加熱して,真空容器に収着する気体分子を放出する。
注記 ベーキング,ベークアウトなどと呼ばれることもある。
3.19
真空計の脱ガス
真空計などの真空にさらされる部品の気体放出速度を小さくするために,熱,電子などで部品を加熱す
ること。

――――― [JIS Z 8750 pdf 5] ―――――

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