14
A 1415 : 2013
A1
3
現行規格(JIS A 1415:2013) 旧規格(JIS A 1415:1999) 改正理由
4
箇条番号 内容 箇条番号 内容
15
及び題名 及び題名
: 2
5.4 ブラック ブラックパネル温度計及びブラックス5.4 ブラック ブラックパネル温度計及びブラックス温度計に関する改正点は,次の2点である。
013
パネル温度計 タンダード温度計は,JIS K 7350-1に規
パネル温度計 a) 引用規格のJIS K 7350-2及びJIS K 7350-4では,
タンダード温度計は,JIS K 7350-1に規
及びブラック 定するものを用いる。ただし,ブラック
及びブラック 定されているものを用いる。 ブラックスタンダード温度計について,国内で
スタンダード スタンダード温度計は,金属板の厚さが
スタンダード は金属板の厚さが0.5 mmのものが普及している
温度計 0.5 mmのものとする。 温度計 ことを踏まえ,0.5 mmのものを用いる旨を規定
注記 ブラックパネル,ブラックスタン しており,この規格においても同様の規定とし
ダード温度計は,約3か月に1回 た。
の頻度で比較用温度計を基準と b) 温度計の校正について,旧規格の附属書の10. e)
して指示温度の誤差を確認する。 において記述していたが,注記として追加した。
光源に向けて並置し,両者の指示
温度を読み取ったとき,校正用の
指示温度に対して測定用の指示
は±2 ℃とすることが望ましい。
5.5 放射計 5.5 放射照度
放射計は,JIS K 7350-1に規定するもの 放射計に関する改正点は,次の2点である。
放射照度計は,JIS K 7350-1に規定する
を用いる。 計 ものを用いる。 a) 旧規格の“放射照度計”について,引用規格の
注記 放射計によって,常時放射露光量 JIS K 7350-2及びJIS K 7350-4では,ISO
のモニタを行っていない装置で 4892-1:1999に基づき,“放射計”へ改正しており,
は,放射照度及び放射露光量の校 同様に変更した。
正を行う周期として,3か月に1 b) 放射照度及び放射露光量の校正周期について,
回程度行うことが望ましい。 旧規格の附属書の10. d)において記述していた
が,注記として追加した。
5.6 b) 試験片試験片の状態調節について,“JIS K 5.6 b) 試験片試験片の状態調節について,“JIS Z 試験片の状態調節について,JIS Z 8703は試験の実
の状態調節 7100”を引用。 の状態調節 8703”を引用。 施場所に関する規定であるため,試験片の状態調節
に関する規格(JIS K 7100)へ変更した。
5.6 e) 保存試保存試験片の環境について,“JIS K 5.6 e) 保存試保存試験片の環境について,“JIS Z 5.6 b) に同じ。
験片の取扱い 7100”を引用。 験片の取扱い 8703”を引用。
――――― [JIS A 1415 pdf 16] ―――――
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A 1415 : 2013
現行規格(JIS A 1415:2013) 旧規格(JIS A 1415:1999) 改正理由
箇条番号 内容 箇条番号 内容
及び題名 及び題名
5.8 水質 5.8 水質
水噴霧に使用する水は,蒸留水又は脱イ 水質及び水量に関する改正点は,次の2点である。
一般に水噴霧に使用する水は,蒸留水又
オン水(電気伝導率5 μS/cm以下)で, は脱イオン水(導電率5 μS/cm以下)で, a) 引用規格のJIS K 7350-2及びJIS K 7350-4では,
全固形分の含有が1 μg/g未満であり,試 全固形分の含有が1 ppm以下であり,試 シリカのレベルが注記へ追加された。シリカな
験片に汚れ及び付着物を残さないもの 験片に汚れや付着物を残さないものと どの不純物による試験への影響を考慮し,この
とする。 する。 規格においても,シリカのレベルに関する記述
注記1 シリカのレベルは0.2 μg/g未満 を注記1として追加した。
が望ましい。電気伝導率,全固 b) 試験に用いる水の水量について,旧規格の附属
形分及びシリカレベルを測定す 書の3.において記述していたが,注記2として
る場合は,JIS K 0101に規定す 追加した。
る測定方法を参照する。
注記2 噴霧圧力0.1 MPaに対してノズ
ル1個当たりで0.53±0.10
L/min(ノズルの総数4個の場合
は2.1±0.10 L/min)又は0.080
±0.011 L/min(ノズルの総数2
個の場合は0.16±0.010 L/min)
のものを使用するのがよい。た
だし,受渡当事者間の協定によ
ってこれを変えてもよい。
5.9 放射照度 全ての試験片を均一に照射するため,定 − − 放射照度の均一性を保つため,試験片の配置替えに
の均一性 期的に試験片を配置替えする。配置替え 関する規定を追加した。
の例を図1に示す。
図1 試験片の 図2 試験片の
試験片の配置替えについて,“5 試験条 試験片の配置替えについて,“6.4 紫外
旧規格では,紫外線カーボンアークランプに関する
配置替え方法 件”において示している。 入替え方法 線カーボンアークランプによる暴露試試験片の入替え方法(例)として,図2として示し
例 (WV-A法の 験方法”において示している。 ていたものを,共通事項としてこの箇条へ移した。
例) これに伴い,紫外線カーボンアークランプから図2
を削除した。
A1 415 : 2
013
3
――――― [JIS A 1415 pdf 17] ―――――
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A 1415 : 2013
A1
3
現行規格(JIS A 1415:2013) 旧規格(JIS A 1415:1999) 改正理由
4
箇条番号 内容 箇条番号 内容
15
及び題名 及び題名
: 2
5.10 試験片 試験片は,試験槽内の試験片ホルダに取 − − 試験片の取付けに関する改正点は,次の2点である。
013
の取付け り付ける。試験片の取付けは,均一な暴 a) 引用規格のJIS K 7350-2及びJIS K 7350-4では,
露状態が確実に得られるよう暴露領域 暴露時の不均一な状況を避けるため,新たに試
に空き部分がないように行う。暴露領域 験片の取付けに関する規定が追加された。暴露
に空き部分がある場合は,ダミーの試験 領域の空き部分の有無による試験結果への影響
片を試験片ホルダに取り付ける。他の試 を考慮し,この規格においても規定した。
験片を汚染させる可能性がある場合は, b) 他の試験片を汚染させる可能性がある場合の試
同時に暴露を行ってはならない。 験片の取扱いについて,旧規格の附属書の10. a)
において記述していたが,本体への規定が必要
として追加した。
6.1 キセノン キセノンアークランプによる暴露試験6.1 キセノン キセノンアークランプ光源による暴露キセノンアークランプによる暴露試験方法の改正点
アークランプ 方法の主な試験条件を表2に示す。試験
アーク光源に は,次の2点である。
試験方法の主な試験条件を表2に示す。
による暴露試 条件の詳細は,JIS K 7350-2による。た
よる暴露試験 a) 旧規格では,暴露時のブラックパネル温度を,
試験条件の詳細は,JIS K 7350-2による。
験方法 だし,ブラックパネル温度は,JIS K 方法 “63±3 ℃”と規定していた。引用規格のJIS K
7350-2に規定する温度のうち,63±3 ℃ 7350-2では,従来の温度条件に加え,“89±3 ℃”
の条件とする。また,相対分光放射照度 の条件も規定された。高温条件89±3 ℃は一般
の分布を表3及び表4に示す。 的でないため採用せず,旧規格の条件のままと
注記 各種フィルタの種類による分光 した。
透過率の例を,附属書Aに示す。 b) ガラス製フィルタの分光透過率について,旧規
格の附属書では附属書表2として記述していた
が,注記へ附属書の引用を追加した。
表2 キセノン 表2 キセノン
試験条件として,“暴露サイクル”,“放 引用規格のJIS K 7350-2の改正に伴い,試験条件に
試験条件として,“ランプの相対分光放
アークランプ 射照度”,“ブラックパネル温度”,“槽内
アーク光源に 関する規定項目を整合させた。
射照度”,“フィルタ”,“試験片面の放射
による暴露試 温度”及び“相対湿度”の項目を規定。
よる暴露試験 照度”,“ブラックパネル温度”,“相対湿
験方法の試験 方法の試験条 度”,“試験片面への水噴霧サイクル”及
条件 件 び“照射方法”の項目を規定。
暴露サイクルについて,“102分間照 暴露サイクルについて,“102分間照射
旧規格では,暴露サイクルについて“受渡当事者間
射”,“18分間照射及び水噴霧”又は“連 後,18分照射及び水噴霧。又は受渡当事
の協定による”旨を本文で規定していたが,注へ変
続照射”と規定。 更した。
者間の協定による”又は“水噴霧なし”
と規定。
――――― [JIS A 1415 pdf 18] ―――――
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A 1415 : 2013
現行規格(JIS A 1415:2013) 旧規格(JIS A 1415:1999) 改正理由
箇条番号 内容 箇条番号 内容
及び題名 及び題名
表2 キセノン 放射照度は,帯域別[“広帯域(300 nm
表2 キセノン 放射照度は,“550 W/m2(波長域290 引用規格のJIS K 7350-2:2008では,紫外部の分光分
アークランプ 400 nm),狭帯域(340 nm)”]で規定。
アーク光源に 800 nm)”と規定。 布が重要であるとの考えから,300 nm400 nmの波
による暴露試 よる暴露試験 長範囲における放射照度に変更された。JIS K 7350-2
験方法の試験 方法の試験条 の改正前後における規定内容は同等であるため,こ
条件(続き) 件(続き) の規格においても採用した。
ブラックパネル温度について,“63± ブラックパネル温度について,“63±旧規格では,暴露サイクルについて“受渡当事者間
3 ℃”と規定。 3 ℃”及び“受渡当事者間の協定によっ
の協定によって変更してもよい”旨を本文で規定し
て変更してもよい”と規定。 ていたが,注へ変更した。
槽内温度は,“38±3 ℃”及び“制御な − 引用規格のJIS K 7350-2では,新たに試験槽内の雰
し”と規定。 囲気温度を制御する場合の試験条件が追加された。
槽内温度を規定することによって,より信頼性の高
い試験結果が得られることから,この規格へも追加
した。
相対湿度は,“(50±10) %”,“(50± 相対湿度は,“(50±5) %”と規定。 引用規格のJIS K 7350-2では,相対湿度の値が改正
10) %又は制御なし”と規定。 された。相対湿度の変更について,JIS K 7350-2の改
正内容を採用しても問題ないため,この規格におい
ても変更した。
表3 WX-A法 各分光波長域における相対分光放射照表2 a) X-A 相対分光放射照度に関する改正点は,次の2点であ
各波長域における,“相対分光放射照度
の相対分光放 度の分布を,“最小値”,“CIE No.85の
法の相対分光 の分布”を規定。 る。
射照度の分布 表4”及び“最大値”で規定。 放射照度の分 a) 引用規格のJIS K 7350-2では,従来,波長範囲
表4 WX-B法 布 290 nm800 nmにおける放射照度を100 %とし
の相対分光放 表2 b) X-B て波長別の分布が規定されていた。改正後のJIS
射照度の分布 法の相対分光 K 7350-2:2008では,300 nm400 nmを100 %と
放射照度の分 した分布へ変更された。この改正は,表示上の
布 違いによるもので,エネルギー量は変わらない
ため,JIS K 7350-2:2008と同様に変更した。
b) IS K 7350-2:2008では,分光放射照度が経時変
化することを考慮し,分光放射照度の測定デー
A1
タに基づく相対分光放射照度の許容範囲が規定
4
されていた。この規定は,光源の性能を確保す
15
るために必要であるため,この規格においても
: 2
採用した。
013
3
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A 1415 : 2013
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現行規格(JIS A 1415:2013) 旧規格(JIS A 1415:1999) 改正理由
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箇条番号 内容 箇条番号 内容
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及び題名 及び題名
: 2
6.2 オープン オープンフレームカーボンアークラン6.3 オープン オープンフレームカーボンアークラン引用規格のJIS K 7350-4の改正に伴い,改正前後に
013
フレームカー プによる暴露試験の主な試験条件を表5
フレームカー プによる暴露試験方法の主な試験条件おいて,試験に用いるガラス製フィルタの定義,種
ボンアークラ に示す。試験条件の詳細は,JIS K 7350-4
ボンアークラ を表4に示す。試験条件の詳細は,JIS K
類及び相対分光放射照度分布等が異なることが確認
ンプによる暴 による。ただし,試験に用いるフィルタ
ンプによる暴 7350-4による。 された。また,オープンフレームカーボンアークラ
露試験方法 露試験方法
は,表5に示すものとする。また,特定 ンプに関連する規格(JIS B 7753)とJIS K 7350-4の
波長におけるガラス製フィルタの分光 規定内容を比較したところ,規定内容が統一されて
透過率を表6に示す。 いないことが明らかとなった。このような状況を踏
まえ,ガラス製フィルタについてはJIS K 7350-4の
改正内容を引用せず,旧規格の規定内容を踏襲する
こととした。
表5 オープン − 表4 オープン 試験条件として,“試験片面の放射照旧規格では,試験片面の放射照度を規定していた。
フレームカー フレームカー 度”を規定。 また,光源の仕様として,電圧値及び電流値を規定
ボンアークラ ボンアークラ していた。引用規格のJIS K 7350-4:2008では,放射
ンプによる暴 ンプによる暴 照度は規定せず,光源の仕様は電圧値及び電流値に
露試験方法の 露試験方法の よる管理へ変更された。調査の結果,放射照度を規
試験条件 試験条件 定せずとも電圧値及び電流値による管理で問題がな
いことが確認されたため,放射照度に関する記述を
削除した。
試験片面への水噴霧サイクルについて, 試験片面への水噴霧サイクルについて, 試験片面への水噴霧サイクルに関する改正点は,次
“噴霧時間18±0.5分間,噴霧停止時間 の2点である。
“102分照射後,18分照射及び水噴射。
102±0.5分間”と規定。 又は48分照射後,12分照射及び水噴霧” a) 旧規格では,噴霧サイクルについて“48分照射
を規定。また,“受渡当事者間の協定に 後,12分照射及び水噴霧”を規定していたが,
よって他のサイクルを用いてもよい”と 建築用ではあまり使われていないため削除し
規定。 た。
b) 試験片面の水噴霧サイクルについて,本文で“受
渡当事者間の協定によってその他のサイクルを
用いてもよい”旨を規定していたが,注へ変更
した。
注記1として,ガラス製フィルタに関す − オープンフレームカーボンアークランプに用いるガ
る参考情報を記述。また,注記2として, ラス製フィルタについて,旧規格の附属書の10. f) 3)
ガラス製フィルタの交換時期を記述。 の記述内容を注記1及び注記2として追加した。
――――― [JIS A 1415 pdf 20] ―――――
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JIS A 1415:2013の国際規格 ICS 分類一覧
JIS A 1415:2013の関連規格と引用規格一覧
- 規格番号
- 規格名称
- JISB7751:2007
- 紫外線カーボンアーク灯式の耐光性試験機及び耐候性試験機
- JISK7100:1999
- プラスチック―状態調節及び試験のための標準雰囲気
- JISK7350-1:1995
- プラスチック―実験室光源による暴露試験方法 第1部:通則
- JISK7350-1:2020
- プラスチック―実験室光源による暴露試験方法―第1部:通則
- JISK7350-2:2008
- プラスチック―実験室光源による暴露試験方法―第2部:キセノンアークランプ
- JISK7350-4:2008
- プラスチック―実験室光源による暴露試験方法―第4部:オープンフレームカーボンアークランプ
- JISK7362:1999
- プラスチック―アンダーグラス屋外暴露,直接屋外暴露又は実験室光源による暴露後の色変化及び特性変化の測定方法
- JISZ8703:1983
- 試験場所の標準状態