ISO 10110-8:2010 (W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 8: 表面テクスチャ;粗さとうねり

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 10: レンズ要素のデータを表す表

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 10: 光学要素および接合アセンブリのデータを表す表

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 11: 非許容データ

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の準備—パート11：許容されないデータ

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 12: 非球面

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 12: 非球面

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート12：非球面

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 13: レーザー照射損傷しきい値

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 14: 波面変形耐性

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 14: 波面変形耐性

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート14：波面変形耐性

光学とフォトニクス — 光学素子および光学系の図面の作成 — Part 16: 回折面

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート17：レーザー照射による損傷のしきい値

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート18：応力複屈折、気泡および介在物、均一性、および脈理

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート19：表面およびコンポーネントの一般的な説明

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 1: 一般

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 1: 一般

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート1：一般

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 2: 材料の欠陥 — 応力複屈折

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 3: 材料の欠陥 — 気泡および介在物

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 4: 材料の欠陥 — 不均一性および脈理

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 5: 表面形状公差

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 5: 表面形状公差

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート5：表面形状公差

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 6: センタリング公差

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の準備—パート6：センタリング公差

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 7: 表面の不完全性の許容範囲

(W) 光学およびフォトニクス — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 7: 表面の不完全性の許容範囲

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の準備—パート7：表面の欠陥

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 8: 表面テクスチャ

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の準備—パート8：表面テクスチャ

(W) 光学および光学機器 — 光学要素およびシステムの図面の作成 — Part 9: 表面処理およびコーティング

光学およびフォトニクス—光学要素およびシステムの図面の作成—パート9：表面処理およびコーティング