この規格 プレビューページの目次
- 序文Foreword
- 序章Introduction
- 1 スコープ1 Scope
- 2 規範的参照2 Normative references
- 表面化学分析の一般概念に関連する 3 つの用語3 Terms related to general concepts in surface chemical analysis
- 4 材料中の粒子輸送に関する用語4 Terms related to particle transport in materials
- サンプルの説明に関する 5 つの用語5 Terms related to the description of samples
- サンプル前処理に関する 6 つの用語6 Terms related to sample preparation
- 7 計装に関する用語7 Terms related to instrumentation
- 8 実験条件に関する用語8 Terms related to experimental conditions
- 9 スパッタ深さプロファイリングに関連する用語9 Terms related to sputter depth profiling
- 解像度に関する 10 の用語10 Terms related to resolution
- 11 電子分光法に関する用語11 Terms related to electron spectroscopy methods
- 12 電子分光分析に関する用語12 Terms related to electron spectroscopy analysis
- 13 蛍光X線法、反射法、散乱法に関する用語13 Terms related to X-ray fluorescence, reflection and scattering methods
- 14 蛍光X線、反射・散乱分析に関する用語14 Terms related to X-ray fluorescence, reflection and scattering analysis
- グロー放電法に関する15の用語15 Terms related to glow discharge methods
- 16 グロー放電解析に関する用語16 Terms related to glow discharge analysis
- 17 イオン散乱法に関する用語17 Terms related to ion scattering methods
- 18 イオン散乱分析に関する用語18 Terms related to ion scattering analysis
- 19 表面質量分析法に関する用語19 Terms related to surface mass spectrometry methods
- 表面質量分析に関連する 20 の用語20 Terms related to surface mass spectrometry analysis
- 21 アトムプローブトモグラフィーに関する用語21 Terms related to atom probe tomography
- 22 多変量解析に関する用語22 Terms related to multivariate analysis
※一部、英文及び仏文を自動翻訳した日本語訳を使用しています。
14 蛍光X線、反射・散乱分析に関する用語
14.1
分散面
<XRR> 線源、検出器、入射 X 線ビーム、および鏡面反射 X 線ビームを含む平面
14.2
散乱ベクトル
q
<XRR, SAXS, GISAXS> 散乱波ベクトルと入射波ベクトルの差を与える逆空間内のベクトル
注記 1:海の 波のベクトル (14.3) 。
14.3
波ベクトル
k
<XRR, SAXS, GISAXS> X 線の伝播方向を記述する逆空間内のベクトルで、大きさは 2π/ λここで, λは X 線の波長です。
注記 1: 散乱ベクトル (14.2) を参照。
14.4
吸収長
透過X線強度が1/eここで, eは自然対数の底
14.5
臨界角
<XRR, TXRF, GIXRF> 反射率が最初の変曲点となる入射ビームと試料表面の間の角度
注記 1: 実際の場合、臨界角は反射強度が外部全反射条件の 50% に低下する角度として解釈されることがよくあります。ここでの誤差は一般に小さいです。
注記 2:特定の試料の材料または構造の臨界角は、シミュレーション ソフトウェアを使用するか、式θc ≈ (2 δ ) 0,5ここで, 1− δは の実部です。複素 X 線屈折率はn = 1− δ − iβで与えられます。
14.6
ビームフットプリント
試料上のX線が照射された<XRR, TXRF, GIXRF>領域
注記 1:一般的な商用機器では、ビーム幅は約 200 μm, たとえば 視角 0.3° (8.2) では、ビームのフットプリントの長さは 38 mm です。 1°では 11.5 mm になります。入射ビーム幅が 100 μm の場合、これらの値は半分になります。
注記 2:ビーム方向に沿ったビームの設置面積は、サンプル表面に垂直で、その法線がビーム方位と一致する平面に取り付けられた適切なナイフエッジ絞りを使用することによって削減できます。ナイフエッジは、X 線ビームの中心がサンプル表面に当たる点where 表面と平行で、表面に近づくように調整されます。この近さにより、フットプリントのサイズが制限されますが、測定された 信号強度も減少します (3.17) 。
14.7
ビームがこぼれる
<XRR> 試料から欠けた入射 X 線ビームの割合
14.8
遅発性発症
X 線吸収スペクトルにおける X 線エネルギー。吸収が大幅に増加し、コアレベルの 結合エネルギーよりも高いエネルギーで吸収が増加します (12.16)
注記 1:多くの元素では、X 線エネルギーがサブシェルの電子結合エネルギーと等しい場合、吸収が大幅に増加します。一部の元素とサブシェルでは、対応する吸収の増加がサブシェルの結合エネルギーよりも大きいエネルギーで発生する場合、遅延開始が発生します。
14.9
ジャンプ率
吸収端の直上のエネルギーにおける X 線吸収係数と、吸収端の直下のエネルギーにおける X 線吸収係数の比
注記 1: X 線吸収スペクトルは、光イオン化閾値付近での X 線エネルギーの複雑な形状を持つ可能性があり、明確に定義されたエッジが閾値で常に観察されるわけではありません。
14 Terms related to X-ray fluorescence, reflection and scattering analysis
14.1
dispersion plane
<XRR> plane containing the source, detector, incident, and specularly reflected X–ray beams
14.2
scattering vector
q
<XRR, SAXS, GISAXS> vector in reciprocal space giving the difference between the scattered and incident wave vectors
Note 1 to entry: See wave vector (14.3) .
14.3
wave vector
k
<XRR, SAXS, GISAXS> vector in reciprocal space describing the direction of propagation of X-rays and equal in magnitude to 2π/ λ ここで, λ is the wavelength of the X-rays
Note 1 to entry: See scattering vector (14.2) .
14.4
absorption length
distance over which the transmitted X-ray intensity falls by 1/e ここで, e is the base of the natural logarithm
14.5
critical angle
<XRR, TXRF, GIXRF> angle between the incident beam and the specimen surface at which the reflectivity is at the first point of inflexion
Note 1 to entry: In practical cases, the critical angle is often taken as the angle at which the reflected intensity has fallen to 50 % of that in the total external reflection condition. The error here is generally small.
Note 2 to entry: The critical angle for a given specimen material or structure can be found by using simulation software, or by calculation from the formula θc ≈ (2δ)0,5 ここで, 1−δ is the real part of the complex X-ray refractive index given by n = 1− δ − iβ.
14.6
beam footprint
<XRR, TXRF, GIXRF> area on the specimen irradiated by the X-rays
Note 1 to entry: In typical commercial equipment, the beam width is about 200 μm, so for example at 0,3° glancing angle (8.2) , the beam footprint is 38 mm long; at 1°, it is 11,5 mm. For 100 μm incident beam width, these values are halved.
Note 2 to entry: The beam footprint along the beam direction can be reduced by the use of a suitable knife-edge diaphragm mounted in a plane that is normal to the sample surface and whose normal, in turn, aligns with the beam azimuth. The knife-edge is parallel to, and adjusted to be close to, the surface at the point where the X-ray beam centre strikes the sample surface. This closeness limits the footprint size but also reduces the measured signal intensity (3.17) .
14.7
beam spill-off
<XRR> fraction of the incident X-ray beam missing the specimen
14.8
delayed onset
X-ray energy, in an X-ray absorption spectrum, at which there is a significant increase of absorption and for which the increased absorption occurs at a higher energy than a core-level binding energy (12.16)
Note 1 to entry: For many elements, there is a significant increase of absorption when the X-ray energy is equal to the electron-binding energy for a sub-shell. A delayed onset occurs for some elements and sub-shells when the corresponding increase of absorption occurs, instead, at an energy larger than the sub-shell binding energy.
14.9
jump ratio
ratio of the X-ray absorption coefficient at an energy just above an absorption edge to that at an energy just below the edge
Note 1 to entry: X-ray absorption spectra can have complex shapes for X-ray energies in the vicinity of photoionization thresholds, and a well-defined edge is not always observed at the threshold.