JIS K 0116:2014 発光分光分析通則

                                                                                   K 0116 : 2014

pdf 目 次

ページ

•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 ICP発光分光分析・・・・[4]
•  4.1 装置の構成・・・・[4]
•  4.2 附属装置・・・・[8]
•  4.3 水,試薬類及びガス・・・・[8]
•  4.4 サンプリング及び試料溶液の調製・・・・[9]
•  4.5 検量線作成用溶液,検量線校正用溶液及び検量線用ブランク溶液の調製・・・・[11]
•  4.6 測定条件の設定・・・・[12]
•  4.7 定量分析・・・・[13]
•  4.8 データの質の管理(精確さの管理)・・・・[18]
•  4.9 装置の設置条件・・・・[21]
•  4.10 安全・・・・[22]
•  4.11 分析結果に記載すべき事項・・・・[23]
•  5 スパーク放電発光分光分析・・・・[23]
•  5.1 装置の構成・・・・[23]
•  5.2 水,試薬及びガス・・・・[24]
•  5.3 試料のサンプリング及び調製・・・・[24]
•  5.4 対電極・・・・[25]
•  5.5 測定条件の設定・・・・[25]
•  5.6 定量分析・・・・[25]
•  5.7 装置の設置条件・・・・[26]
•  5.8 安全・・・・[26]
•  5.9 分析結果に記載すべき事項・・・・[27]
•  6 個別規格で記載すべき事項・・・・[27]

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――――― [JIS K 0116 pdf 1] ―――――

K 0116 : 2014

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本
分析機器工業会(JAIMA)及び一般財団法人日本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業
規格を改正すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業
規格である。
  これによって,JIS K 0116:2003は改正され,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                              K 0116 : 2014

発光分光分析通則

General rules for atomic emission spectrometry

1 適用範囲

  この規格は,発光分光分析装置を用いて定量分析を行う場合の通則について規定する。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS K 0050 化学分析方法通則
    JIS K 0211 分析化学用語(基礎部門)
    JIS K 0212 分析化学用語(光学部門)
    JIS K 0215 分析化学用語(分析機器部門)
    JIS K 0216 分析化学用語(環境部門)
    JIS K 0553 超純水中の金属元素試験方法
    JIS K 0557 用水・排水の試験に用いる水
    JIS K 0970 ピストン式ピペット
    JIS K 1105 アルゴン
    JIS K 8001 試薬試験方法通則
    JIS Z 8402-1 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)−第1部 : 一般的な原理及び定義
    ISO 3696,Water for analytical laboratory use−Specification and test methods

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS K 0050,JIS K 0211,JIS K 0212,JIS K 0215,JIS K 0216,
JIS K 0553,JIS K 0557,JIS K 1105,JIS K 8001及びJIS Z 8402-1及びISO 3696によるほか,次による。
3.1
発光分光分析(atomic emission spectrometry)
  試料に含まれる測定対象元素をICP(3.20参照),MIP(3.21参照),スパーク放電などによって気化励
起し,得られる原子スペクトル線の発光強度を測定することによって定量分析を行う方法。また,波長を
同定することによって定性分析を行うこともできる。
3.2
シーケンシャル形分光器(sequential scanning spectrometer)
  入射光を分光し,1本のスペクトル線の強度,又は一連のスペクトル線の強度を順次測定する装置。

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K 0116 : 2014
3.3
同時測定形分光器(simultaneous spectrometer)
  入射光を分光し,複数のスペクトル線の強度を同時に測定する装置。
3.4
積分時間(integration time)
  発光強度を一定時間積分して測定する場合の測定時間。
3.5
分析用試料(analytical sample)
  測定にかけられる状態に調製した試料。
3.6
分析試料(analytical portion)
  分析用試料から取り分けた,1回の分析のために用いられる試料。
3.7
検量線作成用試料(sample for calibration graph)
  検量線を作成するために既知濃度の測定対象元素を含む試料。
3.8
検量線作成用溶液(solution for calibration graph)
  検量線を作成するために既知濃度の測定対象元素を含む溶液。
3.9
検量線校正用試料(sample for correction of calibration graph)
  一定時間又は一定数の試料を測定するごとに検量線を校正するために使用する試料。
3.10
検量線校正用溶液(solution for correction of calibration graph)
  一定時間又は一定数の試料を測定するごとに検量線を校正するために使用する溶液。
3.11
空試験溶液(blank solution)
  測定対象元素又は干渉元素の分析室環境,器具類及び試薬類からの汚染の有無を調べるため,分析操作
に使用するガラスなどの器具類及び装置との接触,並びに溶媒,試薬及び内標準元素の添加を含めて,試
料と全く同様に処理された水,又は他の成分が試料と同一で測定対象元素を含まない溶液。操作ブランク
ともいう。
3.12
検量線用ブランク溶液(calibration blank solution)
  測定対象元素の濃度がゼロで検量線作成用溶液と同じ組成からなる溶液。
3.13
試料溶液(sample solution)
  気体,液体又は固体の試料を前処理して測定にかけられるように調製した溶液。
3.14
検出下限(detection limit)
  試料中に存在する測定対象元素の検出可能な最低の濃度(量)。バックグラウンド強度の標準偏差の3
倍の信号を与える濃度とする。検出限界ともいう。

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                                                                                   K 0116 : 2014
3.15
装置検出下限,ILOD(instrument limit of detection)
  検量線用ブランク溶液を連続10回測定したときに得られる信号の標準偏差の3倍の信号を与える濃度。
装置検出限界ともいう。
3.16
方法定量下限,MLOQ(method limit of quantification)
  空試験溶液を連続10回測定したときに得られる信号の標準偏差の14.1倍の信号を与える濃度。
3.17
短時間安定性(short term stability)
  同じ試料を短時間に繰り返し測定したときの発光強度又は強度比の相対標準偏差。
3.18
長時間安定性(long term stability)
  同じ試料を長時間に繰り返し測定したときの発光強度又は強度比の相対標準偏差。
3.19
分解能(resolution)
  分光器が相接近した2本のスペクトル線を分離できる能力。
3.20
ICP(inductively coupled plasma)
  ラジオ波領域の高周波電力を誘導結合させて発生させるプラズマ。誘導結合プラズマの略称。
3.21
MIP(microwave induced plasma)
  マイクロ波領域の高周波電力によって誘導して発生させるプラズマ。マイクロ波誘導プラズマの略称。
3.22
トーチ(torch)
  プラズマの点灯及び維持に必要なガス流を供給するために使用する管。
3.23
ネブライザー(nebulizer)
  試料溶液を微細な液滴とする器具。
3.24
スプレーチャンバー(spray chamber)
  粒径の大きな液滴を分離除去し,ごく微細な液滴だけを発光部に導入する器具。
3.25
プラズマガス(plasma gas, coolant gas)
  ICPにおけるプラズマの主形成ガス。トーチの冷却を兼ねて,トーチの最外周管を通して供給する。冷
却ガスともいう。
3.26
補助ガス(auxiliary gas)
  ICPにおいて,プラズマをトーチに接触するのを防ぐため,補助的に使用するガス。トーチの中間の管
を通して供給する。

――――― [JIS K 0116 pdf 5] ―――――

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