JIS K 1468-5:1999 ふっ化水素酸用ほたる石分析方法―第５部　ひ素含有量の定量

K 1468-5 : 1999

まえがき

  この規格は,工業標準化法に基づいて,日本工業標準調査会の審議を経て,通商産業大臣が制定した日
本工業規格である。
  今回の制定では,日本工業規格(日本産業規格)を国際規格に整合させるためにISO 9505 : 1992を基礎として用いた。
  JIS K 1468-5には,次に示す附属書がある。
    附属書1(規定) 蛍光X線分析方法
    附属書2(参考) 方法の精度

(pdf 一覧ページ番号 )

――――― [JIS K 1468-5 pdf 1] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                         K 1468-5 : 1999

ふっ化水素酸用ほたる石分析方法−第5部 ひ素含有量の定量

Acid-grade fluorspar−Method for chemical analysis −Part 5 : Determination of arsenic content

序文 この規格は,1992年に発行された,ISO 9505, All grades of fluorspar−Determination of arsenic content
−Silver diethyldithiocarbamate spectrometric methodを基礎として作成した日本工業規格(日本産業規格)である。
なお,この規格で点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格にはない事項である。
1. 適用範囲 この規格は,ふっ化水素酸用ほたる石のひ素含有量をジエチルジチオカルバミド酸銀吸光
光度法及び蛍光X線分析方法によって定量する方法について規定する。
  なお,蛍光X線分析方法については,附属書1(規定)に規定する。
  この方法は,ひ素 (As) として0.000 1%以上を含有する製品に適用する。
    備考 この規格の対応国際規格を,次に示す。
      ISO 9505 : 1992 All grades of fluorspar−Determination of arsenic content−Silver diethyldithiocarbamate
                spectrometric method
2. 引用規格 次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成す
る。この引用規格のうちで,発効年(又は発行年)を付記してあるものは,記載の年の版だけが規格の規
定を構成するものであって,その後の改正・追補は適用しない。発効年(又は発行年)を付記していない
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS K 0119 蛍光X線分析方法通則
    JIS K 8005 容量分析用標準物質
    JIS K 8012 亜鉛(試薬)
    JIS K 8136 塩化すず (II) 二水和物(試薬)
    JIS K 8180 塩酸(試薬)
    JIS K 8322 クロロホルム(試薬)
    JIS K 8374 酢酸鉛 (II) 三水和物(試薬)
    JIS K 8529 臭素(試薬)
    JIS K 8541 硝酸(試薬)
    JIS K 8576 水酸化ナトリウム(試薬)
    JIS K 8832 ブルシンn水和物(試薬)
    JIS K 8913 よう化カリウム(試薬)

――――― [JIS K 1468-5 pdf 2] ―――――

2
K 1468-5 : 1999
    JIS K 8951 硫酸(試薬)
    JIS K 9512 N,N−ジエチルジチオカルバミド酸銀(試薬)
    JIS M 8100 粉塊混合物−サンプリング方法通則
      備考 ISO 8868 : 1989 Fluorspar−Sampling and sample preparationが,この規格と同等である。
    JIS Z 8801 試験用ふるい
      備考 ISO 565 : 1990 Test sieves−Metal wire cloth, perforated metal plate and electroformed sheet−
                Nominal sizes of openingsが,この規格と一致している。
3. 原理 分析試料を硝酸,硫酸,塩酸及び飽和臭素水の混合液に溶解し,硫酸が発煙する段階まで蒸発
させる。存在するひ素を塩酸溶液中で亜鉛によって三水素化ひ素に還元する。三水素化ひ素をジエチルジ
チオカルバミド酸銀溶液に吸収させ,コロイド状に分散する銀によって生成した赤紫色を,吸光光度計を
用いて,約530nmの波長で測定する。
4. 試薬 分析に当たっては,日本工業規格(日本産業規格)に規定する試薬又は同等の純度をもつ試薬及び蒸留水又は同
等の純度をもつ水だけを使用する。
4.1   塩酸 JIS K 8180に規定するひ素分析用。
4.2   硝酸 密度約1.38g/ml,約60%JIS K 8541に規定するもの。
4.3   硫酸 (1+2)  JIS K 8951に規定する硫酸を用いて調製したもの。
4.4   硫酸 (1+10)  JIS K 8951に規定する硫酸を用いて調製したもの。
4.5   水酸化ナトリウム 40g/l溶液 JIS K 8576に規定する水酸化ナトリウムを用いて調製したもの。
4.6   臭素水 JIS K 8529に規定する臭素を水に飽和したもの。
4.7   よう化カリウム JIS K 8913に規定するもの。
4.8   塩化すず (II) 塩酸溶液 JIS K 8136に規定する塩化すず (II) 二水和物40gを塩酸(4.1)に溶解し,同
じ塩酸で100mlにする。
  この溶液は,気密容器に保存する。
4.9   酢酸鉛 (II) 120g/l溶液 JIS K 8374に規定する酢酸鉛 (II) 三水和物12gを,12滴の酢酸を含む水
に溶解し,100mlとする。
4.10 亜鉛 粒状 JIS K 8012に規定するひ素分析用。
4.11 ジエチルジチオカルバミド酸銀溶液2.5g/lクロロホルム溶液 JIS K 9512に規定するN,N−ジエチ
ルジチオカルバミド酸銀0.25g及びJIS K 8832に規定するブルシン二水和物0.1gをJIS K 8322に規定する
クロロホルム100mlに溶解し,よく混合する。
4.12 ひ素標準液Asとして100mg/l JIS K 8005に規定する容量分析用標準物質三酸化二ひ素0.132 0gを
0.1mgまではかりとり,水酸化ナトリウム(4.5)2mlに溶解させ,水で500mlに薄める。硫酸 (1+10)(4.4)を
用いてわずかに酸性にし,混合する。この溶液を全量フラスコ1 000mlに移し,水で標線まで薄め,混合
する。
  この溶液1mlは,100                       する。
4.13 ひ素標準液Asとして1mg/l ひ素標準液(4.12)10.0mlを全量フラスコ1 000mlにとり,水で標線まで
薄め,混合する。
  この溶液は,使用の直前に調製する。
  この標準液1mlは,1                       する。

――――― [JIS K 1468-5 pdf 3] ―――――

                                                                                              3
                                                                                  K 1468-5 : 1999
5. 装置及び器具 ひ素の定量に使用するすべてのガラス容器は,必要な注意を払いながら熱硫酸で洗浄
し,水で十分にすすぎ,完全に乾燥させなければならない。また,装置及び器具については,次に規定す
るものを使用しなければならない。
  なお,ここに規定していない試験器具については,通常の試験器具を用いることとする。
5.1   三水素化ひ素の遊離及び吸収用装置 ひ素を含まないガラス又はプラスチック製。図1に示す装置
は,5.1.15.1.4に示す部品から構成される。
5.1.1  三水素化ひ素発生フラスコ 100ml三水素化ひ素の遊離用。
5.1.2  ガラスウール 三水素化ひ素に伴い放出される可能性のある硫化水素を吸収するため,酢酸鉛 (II)
(4.9)に浸して,乾燥させたガラスウール。
5.1.3  連結管
5.1.4  吸収管 三水素化ひ素吸収用のジエチルジチオカルバミド酸銀溶液(4.11)を入れるもの。
5.2   分光光度計又は光電光度計 分光光度計は,光路長10mmのセルを装着したもので,光電光度計の
場合は,光路長10mmのセル及び530nm付近に最大透過率をもつフィルターを装着したもの。
5.3   乾燥器 105℃±2℃の温度を保持できるもの。
5.4   四ふっ化エチレン樹脂製皿又は四ふっ化エチレン樹脂被覆アルミニウム皿(以下,皿という。) 直
径約70mm,容量約100mlのもの。
5.5   ホットプレート 225℃±25℃の温度が保持できるもの。
5.6   蒸気浴
                          図1 三水素化ひ素の遊離及び吸収用装置の一例
6. 試験試料 試験試料は,JIS M 8100の5.に準じた,受渡当事者間で規定した方法によって採取,調製
する。

――――― [JIS K 1468-5 pdf 4] ―――――

4
K 1468-5 : 1999
7. 操作
7.1   分析試料 数gの試験試料を,JIS Z 8801に規定する網ふるいの目開き63           田           するま
で,めのう乳鉢の中ですりつぶす。すりつぶした試料を105℃±2℃に保持した乾燥器中で2時間乾燥し,
デシケーター中で放冷する。皿(5.4)に,この試料約0.5gを1mgまではかりとる。
7.2   空試験 試料を用いないで,全操作(7.4)を定量と並行して行い,空試験とする。
7.3   検量線の作成 亜鉛の新しいバッチを用いたとき又は新たにジエチルジチオカルバミド酸銀溶液を
調製したときには,検量線を作成しなければならない。
7.3.1  検量線用溶液の調製 7個の三水素化ひ素発生フラスコ(5.1.1)に,表1に示す量のひ素標準液(4.13)
を,それぞれピペットを用いて入れる。
                                       表1 検量線用溶液
                         ひ素標準液(4.13)の容量      相当するひ素の質量
                                 ml                          最
                                   0(1)                      0
                                   1                         1
                                   3                         3
                                   5                         5
                                  10                        10
                                  15                        15
                                  20                        20
                      注(1) ゼロ点の検量線用溶液(検量線用試薬を用いた空試験液)
  各フラスコに水を加えて約20mlとする。塩酸(4.1)5ml,よう化カリウム(4.7)3g及び塩化すず (II) (4.8)1ml
をこの順序で加える。水を加えて約40mlとし,十分にふり混ぜ,次いで約15分間放置する。
  ピペットを用いてジエチルジチオカルバミド酸銀溶液(4.11)5.0mlを吸収管(5.1.4)にとる。亜鉛(4.10)3gを
三水素化ひ素発生フラスコの一つに加え,直ちに5.1の装置を組み立て,三水素化ひ素発生フラスコの外
側を冷やす。約1時間放置して,反応させる。
  三水素化ひ素は,ジエチルジチオカルバミド酸銀溶液(4.11)に吸収されて,赤紫を発色する。残りの三水
素化ひ素発生フラスコについても同じ操作を繰り返す。
7.3.2  吸光度測定 三水素化ひ素の発生及び吸収操作の後,吸収管中に残っているジエチルジチオカルバ
ミド酸銀溶液にクロロホルムを加えて,全量を5mlにする。その溶液を光路長10mmのセルに移す。水を
用いて装置のゼロ点を調節した後,530nm付近の波長で分光光度計(5.2)又は適切なフィルターを装着した
光電光度計(5.2)を用いて吸光度を測定する。
7.3.3  検量線の作成 各検量線の吸光度から,ゼロ検量線の吸光度を差し引く。検量線は,例えば,検量
線用溶液中に含まれるひ素の    杓       溌  量を横軸に,それに対応する吸光度の値を縦軸にとり,グラフを
作図する。
7.4   定量
7.4.1  試験溶液の調製 皿(5.4)中の分析試料(7.1)は次のように処理する。
  硝酸(4.2)2ml,硫酸(4.3)5ml,塩酸(4.1)6ml及び飽和臭素水(4.6)5mlを加える。過剰の硝酸及び塩酸を除去
するために,蒸気浴(5.6)上で加熱する。酸のにおいを感じなくなるまで加熱を続ける。225℃±25℃に保持
したホットプレート(5.5)上で,硫酸の発煙開始の段階まで蒸発させる(硫酸の発煙開始段階を超えて蒸発
させないことが大切である)。室温まで冷却し,水約10mlを加える。四ふっ化エチレン樹脂製の棒で内容

――――― [JIS K 1468-5 pdf 5] ―――――

次のページ PDF 6