JIS H 1270:2015 ニッケル及びニッケル合金―分析用試料採取方法及び分析方法通則

                                                                                   H 1270 : 2015

pdf 目 次

ページ

•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[2]
•  4 一般事項・・・・[2]
•  5 分析試料の採取及び調製・・・・[2]
•  5.1 試料の採取方法・・・・[2]
•  5.2 試料の調製・・・・[3]
•  5.3 試料のはかり方・・・・[4]
•  6 各成分定量方法・・・・[4]
•  7 分析値のまとめ方・・・・[4]
•  7.1 空試験・・・・[4]
•  7.2 分析回数・・・・[4]
•  7.3 分析値の採択・・・・[4]
•  7.4 分析値の表示・・・・[4]
•  8 化学分析方法の許容差の取扱い方・・・・[4]
•  8.1 化学分析方法の許容差・・・・[4]
•  8.2 分析値の精確さの検討・・・・[5]
•  8.3 許容差が規定されていない場合の取扱い方・・・・[6]
•  8.4 許容差の判定方法・・・・[7]
•  9 化学分析方法による定量値の計量計測トレーサビリティ・・・・[7]
•  10 機器分析方法による定量値の計量計測トレーサビリティ・・・・[7]
•  11 再分析・・・・[7]
•  12 審判分析・・・・[7]
•  13 安全衛生に関する注意・・・・[7]

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――――― [JIS H 1270 pdf 1] ―――――

H 1270 : 2015

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本
伸銅協会(JCBA)及び一般財団法人日本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業規格(日本産業規格)を改
正すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業規格(日本産業規格)であ
る。
  これによって,JIS H 1270:1998は改正され,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。

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――――― [JIS H 1270 pdf 2] ―――――

                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                              H 1270 : 2015

ニッケル及びニッケル合金−分析用試料採取方法及び分析方法通則

Nickel and nickel alloys-Sampling and general rules for analytical methods

1 適用範囲

  この規格は,日本工業規格(日本産業規格)に規定するニッケル,ニッケル合金及び超合金の分析方法に共通な分析用試
料の調製方法,定量方法,分析値のまとめ方などについて規定する。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS G 0203 鉄鋼用語(製品及び品質)
    JIS G 1281 ニッケルクロム鉄合金分析方法
    JIS H 1272 ニッケル及びニッケル合金中の銅定量方法
    JIS H 1273 ニッケル及びニッケル合金中の鉄定量方法
    JIS H 1274 ニッケル及びニッケル合金中のマンガン定量方法
    JIS H 1275 ニッケル及びニッケル合金中の炭素定量方法
    JIS H 1276 ニッケル及びニッケル合金中のけい素定量方法
    JIS H 1277 ニッケル及びニッケル合金中の硫黄定量方法
    JIS H 1278 ニッケル及びニッケル合金中のりん定量方法
    JIS H 1279 ニッケル合金中のクロム定量方法
    JIS H 1280 ニッケル合金中のモリブデン定量方法
    JIS H 1281 ニッケル合金中のバナジウム定量方法
    JIS H 1282 ニッケル合金中のタングステン定量方法
    JIS H 1283 ニッケル及びニッケル合金中のコバルト定量方法
    JIS H 1284 ニッケル合金中のアルミニウム定量方法
    JIS H 1285 ニッケル及びニッケル合金中のほう素定量方法
    JIS H 1286 ニッケル合金中のチタン定量方法
    JIS H 1287 ニッケル及びニッケル合金−蛍光X線分析方法
    JIS H 1288 ニッケル及びニッケル合金−スパーク放電発光分光分析方法
    JIS H 1289 ニッケル及びニッケル合金−ICP発光分光分析方法−ニオブ,タンタル及びジルコニウ
        ム定量方法
    JIS K 0050 化学分析方法通則
    JIS K 0113 電位差・電流・電量・カールフィッシャー滴定方法通則

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H 1270 : 2015
    JIS K 0115 吸光光度分析通則
    JIS K 0116 発光分光分析通則
    JIS K 0119 蛍光X線分析通則
    JIS K 0121 原子吸光分析通則
    JIS K 0211 分析化学用語(基礎部門)
    JIS Q 0032 化学分析における校正及び認証標準物質の使い方
    JIS R 6001 研削といし用研磨材の粒度
    JIS R 6010 研磨布紙用研磨材の粒度
    JIS Z 8401 数値の丸め方
    JIS Z 8402-6 測定方法及び測定結果の精確さ(真度及び精度)−第6部 : 精確さに関する値の実用的
        な使い方

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS G 0203及びJIS K 0211による。

4 一般事項

  分析方法に共通な一般事項は,JIS K 0050,JIS K 0113,JIS K 0115,JIS K 0116,JIS K 0119及びJIS K
0121の規定による。

5 分析試料の採取及び調製

5.1 試料の採取方法

  試料の採取方法は,次による。
a) 分析は,特に規定のない限り溶湯分析による。ただし,注文者の要求があるときは,製品分析を行う
    ことができる。製品分析用の試料は,製品規格に規定されている機械試験用の供試材の採取位置から
    採取してもよい。
      なお,注文者が製品分析を要求する場合,溶湯分析に対する製品分析の許容変動値は,受渡当事者
    間の協定による。
b) 溶湯分析の試料は,次による。
  1) 通常,溶湯がとりべから鋳型に注入され,凝固するまでの一連の過程において溶湯を代表する位置
      から採取する。
  2) スプーン試料(長い柄の付いたスプーンで溶湯又は注入中の溶湯から試料を採取して小さな鋳型に
      鋳込む方法で鋳込んだ試料)又はプローブ試料(溶湯に挿入した市販の試料採取用プローブを用い
      溶湯から採取した試料)を用いる。
c) 真空アーク溶解(VAR),エレクトロスラグ再溶解(ESR)など溶湯から分析用試料が採取できない場
    合は,鋳塊,鋳片又は塑性加工された材料から採取した分析用試料によって分析を行い,溶湯分析に
    適用する。
d) 鋳込みままゆえの不均一性はある程度避け難いが,それを極力低減するために,次の点に注意する。
  1) 表面被覆層,水分,ごみ及びその他の汚染物質を除く。
  2) ボイド,クラック,孔,ばり,重なり及びその他の表面欠陥を極力避ける。
  3) 化学組成及び金属組織が試料間で差異を生じないような手段で冷却する。

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                                                                                   H 1270 : 2015
e) 試料の大きさは,再分析に配慮しなければならない。チップ又は粉末試料用には,通常,100 gあれば
    十分である。
f)  発光分光分析用及び蛍光X線分析用は,設備仕様に依存する。
g) 試料は,溶湯の製造履歴と対応できるような固有の標識をラベル又はマーキングで付与する。
h) 分析用試料は,試料調製の途中若しくは終了後,汚染又は化学的変化が起きないような方法で隔離保
    管する。
i)  鋳物の鋳込み試料を採取するときは,その平均品質を代表する試料を得るため,1融解ごとに2個以
    上(融解量が特に少ないときには1個)の試料を採り,この試料を削って切粉を作り,これを十分に
    混合して分析用試料とする。

5.2 試料の調製

  試料の調製は,次による。
a) 前処理 表面に酸化被膜が付いているような場合は,組成の変化の特徴及びその範囲を検討し,除去
    する。
b) チップ状の分析用試料 チップ状の分析用試料の調製は,次による。
  1) ドリルせん孔,フライス切削,旋盤加工,打ち抜きなどで調製する。
  2) 切断トーチによる熱影響部から調製してはならない。
  3) 採取設備,工具,コンテナなどは,分析用試料汚染防止のため,あらかじめ洗浄しておく。
  4) チップの色が極力変化しないような条件で切削する。
  5) 成分変化のない条件で試料を熱処理して軟化してもよい。
  6) 冷却剤を使用した切削は,例外的には許容されるが,その後に適切な溶媒でチップを洗浄する。
  7) 分析試料をはかりとる前に,チップを入れた容器を転がすなどしてチップを混合する。
c) 塊状の分析用試料 塊状の分析用試料の調製は,次による。
  1) 分析方法に適した寸法,形状のものを,のこぎり,といし切断,せん断又は打ち抜きで切り出す。
  2) 発光分光分析又は蛍光X線分析は,十分な厚さのある材料でできている製品横断面に対応する試料
      部位から切り出された試料について行う。
d) 塊状の分析用試料の表面の調製 塊状の分析用試料の表面の調製は,次による。
  1) 切断トーチの熱影響部での調製は,行ってはならない。
  2) 試料調製用装置は,試料が加熱されないような設計がされているのが望ましい。
  3) 調製後の分析用試料の表面は,平滑で,かつ,分析の精確さに影響する欠陥があってはならない。
  4) 調製は,手動又は自動のいずれでも行うことができる。
  5) 分析用試料の調製の最終段階で用いる発光分光分析用の研磨材は,ベルト用にはJIS R 6010に規定
      する粒度P36P240,グラインダ用にはJIS R 6001に規定する粒度F 36F 240が一般的には適し
      ている。
  6) 蛍光X線分析方法では,表面調製するために選択された方法によって,試料と試料との間の表面仕
      上げが再現性よく行われることを確認する。また,表面が汚れていてはならない。
        注記 研磨材の影響は,分析方法によって異なる。
  7) 発光分光分析方法を用いる場合には,予備放電操作によって研磨による汚染物質は蒸発し,分析用
      試料の表面は一般には清浄になる。しかし,新しい研磨ディスクを用いる場合は,表面汚染を避け
      るように注意する。
  8) 蛍光X線分析方法を用いる場合には,表面調製の全ての段階で,表面に粒子状物質が付着していな

――――― [JIS H 1270 pdf 5] ―――――

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